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一种固体氧化物燃料电池系统用重整器的制作方法
本技术涉及换热重整器,具体是一种固体氧化物燃料电池系统用重整器。背景技术、固体氧化物燃料电池(sofc)技术是将燃料化学能转化为电能的最有效和最有前途的技术之一。鉴于对环境友好、节能减排等绿色发展的巨大需求,实现sofc发电系统的应用及其产
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12小时前
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一种塞拉门拆装工装的制作方法
本申请涉及轨道车辆塞拉门技术的领域,尤其是涉及一种塞拉门拆装工装。背景技术、当前,高速动车组、地铁和市域列车等轨道交通工具广泛采用塞拉门系统作为乘客门和司机室门的标准配置。自年开始,在中国铁路主干线运行的新型g型、t型和kmh动力集中型客
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12小时前
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一种熔断器的固定结构的制作方法
本技术涉及熔断器,尤其涉及一种熔断器的固定结构。背景技术、导轨式电力熔断器是一种常用且安装方便的快速电力熔断器,导轨式电力熔断器在安装时,通过熔断器背面的插座与导轨底座的相互配合,将熔断器滑动安装在导轨底座上,几根熔断器在导轨底座上安装完毕
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13小时前
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智能锁扣系统及其控制方法与流程
本发明涉及反应釜,尤其涉及一种智能锁扣系统及其控制方法。背景技术、随着工业化进程的加快,反应釜作为化学反应和物料混合的重要设备,在各类工业生产中被广泛应用。反应釜的釜盖与釜体之间的智能锁扣系统在确保反应过程安全性和操作便捷性方面发挥了重要作
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13小时前
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一种双冷V2O5制片机的制作方法
本技术涉及氧化制片生产设备,具体为一种双冷vo制片机。背景技术、钒是一种稀有金属,通常以钒铁合金形式应用到钢铁工业中,根据五氧化二钒国家标准(gb-),冶金用五氧化二钒以片状交货,片径不大于×mm,厚度不大于mm。为满足此要求,脱氨后得到的
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13小时前
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一种衍射光波导装置的制作方法
本发明属于衍射光波导,具体涉及一种衍射光波导装置。背景技术、ar眼镜由微光引擎和光波导两部分组成,其中,微光引擎具有多种显示技术,如lcos、dlp、micro-led以及lbs等,其能够为光波导提供偏振或者非偏振,高亮度、高均匀性以及高成
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14小时前
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一种卫生巾生产用复合压花装置的制作方法
本技术属于卫生巾生产,具体为一种卫生巾生产用复合压花装置。背景技术、卫生巾是一种具吸收力的物质,主要的材质为棉、不织布、纸浆或以上材质复合物所形成的高分子聚合物和高分子聚合物复合纸,侧边的设计主要用来防止侧漏,因为使用时会和卫生棉本体呈现某
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14小时前
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一种智能激光扫描自动检测对车装置的制作方法
本发明提供一种智能激光扫描自动检测对车装置,属于激光扫描自动对车。背景技术、在智能交通信号控制系统中,地面三维激光扫描技术提供了高精度的车辆检测手段,通过实时获取车流的动态点云数据,系统能够生成高精度的车流dem数据,为车辆检测和交通流分析
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15小时前
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车门以及车辆的制作方法
本技术涉及车辆,尤其是涉及一种车门以及车辆。背景技术、相关技术中,当车辆在雨天行驶时,由于需要关闭车窗,通常会由于车内空气不流通导致车内环境闷热,这样就需要打开车窗进行通风换气,但是,打开车窗后,雨水容易进入到车辆内部,会对车内相应的开关和
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15小时前
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显示面板及显示装置的制作方法
本申请属于显示,更具体地说,是涉及一种显示面板及显示装置。背景技术、有机发光二极管(organic light emitting diode,oled)显示面板是一种利用有机发光材料的自发光原理,实现显示的显示器件;其具有响应速度快、亮度高
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15小时前
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一种钻头生产用原料熔融装置的制作方法
本技术涉及钻头生产,尤其涉及一种钻头生产用原料熔融装置。背景技术、钻头是机械生产中常用到的一种工具,在钻头生产制造的过程中,需要对钻头的原料进行溶解,并将熔解后的熔液倒进相应的模板中,便于将熔解后的液体铸造呈钻头的毛坯形态,便于后续的加工处
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16小时前
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一种可调节式电子汽车衡的制作方法
本申请涉及电子汽车衡,尤其是涉及一种可调节式电子汽车衡。背景技术、汽车衡俗称地磅,有模拟式和数字式两种,是于大宗货物计量的主要称重设备,在二十世纪年代之前常见的汽车衡一般是利用杠杆原理纯机械构造的机械式汽车衡,也称作机械地磅。二十世纪年代中
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16小时前
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一种防脱离的储氢瓶及其制造方法与流程
本发明涉及储氢瓶,更具体的说,特别涉及一种防脱离的储氢瓶及其制造方法。背景技术、ⅳ型储氢气瓶采用塑料内胆储氢,具有重量轻、成本低且储氢质量密度大等特点,被广泛应用于对储氢要求较高的环境中。ⅳ型储氢气瓶由内至外包括内胆、中间层和表面保护层。(
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17小时前
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一种电石渣综合处理装置的制作方法
本技术涉及电石渣处理的,尤其是涉及一种电石渣综合处理装置。背景技术、电石渣是工业上制备乙炔气体中产生的废渣,主要成分为氢氧化钙固体,电石渣可以用于代替石灰石生产水泥,但是电石渣内部的含水量较高,会导致水泥原料中含水量增大,黏度增大,造成其输
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17小时前
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光刻机的曝光剂量控制架构的制作方法
本申请涉及光刻机,更为具体地说,涉及一种光刻机的曝光剂量控制架构。背景技术、光刻机是半导体制造过程中的重要设备,其作用是将掩膜版中的电路图案按照预定的尺寸和位置通过曝光工艺精准地转移到硅片或其他衬底上,这就要求在掩膜版与硅片或其他底衬具有极
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18小时前
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