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    注册 2022-07-11
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    • 本实用新型涉及泡沫塑料生产技术领域,具体为一种具有简易下料结构的泡沫塑料生产设备。背景技术泡沫塑料是由大量气体微孔分散于固体塑料中而形成的一类高分子材料,具有质轻、隔热、吸音、减震等特性,且介电性能优于基体树脂,用途很广,几乎各种塑料均可作
      技术2023-11-5
      1380
    • 本实用新型涉及氢氧发生器技术领域,尤其涉及一种多电极板磁场式电解槽。背景技术氢氧发生器,是利用水电解产生布朗气的电化学设备。氢氧发生器一般包括:电源系统、电解槽系统、汽水分离系统、冷却系统,控制系统、安全防回火系统以及使用该氢氧发生器的附件
      技术2023-11-5
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    • 本实用新型涉及重载连接器技术领域,具体地说,涉及一种内置固定式重载连接器外壳。背景技术重载连接器又叫hdc重载接插件,广泛应用于建筑机械、纺织机械、包装印刷机械、烟草机械、机器人、轨道交通、热流道、电力、自动化等需要进行电气和信号连接的设备
      技术2023-11-5
      1280
    • 本实用新型涉及空气净化器,尤其是涉及一种生态净化器。背景技术随着人们生活水平的提高和生活方式的改变,人们对身心健康的重视程度越来越高,对于改善身边环境的需求也越来越大;同时,现在存在的装饰材料造成室内污染、环境恶化导致整体空气质量下降的客观
      技术2023-11-5
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    • 本实用新型涉及一种电气元件的技术领域,更具体地说它涉及一种方便拆卸的接线插座。背景技术接线插座就是用于实现电气连接的一种配件产品,工业上划分为连接器的范畴。随着工业自动化程度越来越高和工业控制要求越来越严格、精确,接线插座的用量逐渐上涨。随
      技术2023-11-5
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    • 本实用新型涉及真空镀膜领域,特别涉及一种真空镀膜机的坩埚调整装置。背景技术真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空蒸镀腔中蒸镀时,材料放置于坩埚中,坩埚放置于加热装置中,加热到蒸镀温度时,材料汽化,汽化分子从坩埚盖的喷孔飞出沉积到基板上形成
      技术2023-11-5
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    • 本实用新型属于铝线连接密封装置技术领域,具体涉及一种用于铝线连接的密封装置。背景技术铝线是指其纵向全长,横截面均一的实是指以纯铝或铝合金为原料制成的金属线形材料。沿心压力加工产品,并成卷交货。横截面形状有圆形、椭圆形、正方形、矩形、等边三角
      技术2023-11-5
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    • 本实用新型涉及智能烹饪设备技术领域,特别是涉及一种电焗炉装置。背景技术现有电焗炉通常采用多个焗层的结构以保证加热的均匀性,但采用多个焗层结构占用的空间成本较大,且针对只需一个焗层的情况下依然无法保证加热的均匀性;或是在锅体内设置翻滚食物的旋
      技术2023-11-5
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    • 本实用新型属于节能环保领域,具体涉及燃气灶领域,更进一步涉及一种多功能一体灶。背景技术酒店、餐饮行业厨房建设中,厨房抽排系统是个庞大而复杂的工程,不仅投资大、安装耗时、安全隐患多,为了达到国家相关规范的要求,投资经营业主必须花费大量人力物力
      技术2023-11-5
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    • 本实用新型涉及一种射频连接装置,具体涉及一种采用铆紧及双层密封方式的射频连接装置。背景技术作为一种新型的低互调快速连接器,nex10接头具备的优点在于连接稳定可靠,传输性能优异,目前市场上已经出现了批量生产的nex10接头,但由于其接触头整
      技术2023-11-5
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    • 本实用新型涉及模具技术领域,尤其是指一种相框注塑模具。背景技术相框是家中常见的装饰物,我们用它来装帧回忆,品味美丽,目前的大部分相框是采用木质材质制成,一般由四根相框边条拼接而成,传统的相框制作工艺均为四根分离的相框边条通过枪钉或胶水拼接而
      技术2023-11-4
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    • 本实用新型属于废气处理领域,尤其涉及一种电解提铜过程中所产生的氯气的回收系统。背景技术在酸性蚀刻液电化学提铜再生循环利用过程中,电解槽的阳极会电解产生氯气,氯气如果逸散到空气中会对环境及人类造成危害,因此需要对氯气进行处理。目前往往采用片碱
      技术2023-11-4
      1500
    • 本实用新型涉及真空蒸镀装置技术领域,具体为一种镀膜冶具及其镀膜设备。背景技术现有技术中申请号为“cn201821456175.3”的一种可翻转双面镀膜机构,包括伞架、挡块组件、翻转夹具、旋转机构、镀膜腔和镀膜源;所述伞架安装在镀膜腔的内部上
      技术2023-11-4
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    • 本实用新型属于氮化处理技术领域,具体涉及一种钢铁工件氮化炉。背景技术氮化处理是指一种在一定温度下一定介质中使氮原子渗入工件表层的化学热处理工艺,经氮化处理的制品具有优异的耐磨性、耐疲劳性、耐蚀性及耐高温的特性。在工件的氮化处理时要用到氮化炉
      技术2023-11-4
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    • 本实用新型涉及晶圆生产制造加工设备领域,具体涉及一种膜层沉积设备。背景技术半导体工艺技术中的化学气相成膜(cvd)工艺作为主要的介质层成膜技术,在半导体技术中是很重要的一个模块,而且其在先进工艺中的应用也越来越广泛。在化学气相成膜工艺机台内
      技术2023-11-4
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