本实用新型设计玻璃熔片制样设备，尤其涉及一种高频熔样机。
背景技术：
在钢铁、冶金、化工、地质、水泥、陶瓷耐火材料等领域中往往需要将矿石、岩石、土壤、耐火材料、冶金原料等固体原料或者粉状原料进行加热融化后制成一定规格的样片从而对样片所代表的物质进行分析。在上述过程中，往往需要用到熔样机进行。根据熔样机的工作过程可知，该过程中加热融化是其最为主要的工作步骤，那么熔样机的加热装置便显的尤为重要。
传统熔样机一般采用电加热或者明火加热的方式，其中电加热方式能耗很高、安全性差、加热效率低的问题，而采用明火加热的方式由于安全性差等缺点，采用这两种方式越来越少。
而随着社会的发展和技术的不断创新，高频加热的方法出现。高频加热，即感应加热是一种利用电磁感应来加热电导体（一般是金属）的方式，会在金属中产生涡电流，因电阻而造成金属的焦耳加热。由于高频加热的效率高、使用简便、安全性较高的优点，该方式得到广泛的应用，其中也包括应用到高频熔样机中。
但是现有的高频熔样机，由于支架结构固定，其上安装的坩埚数量固定，那么在实际应用中就不能根据实际需要熔样的数量灵活的调整所需要用的坩埚工位，从而无法灵活应对可能出现的需要不同熔样数量的工况。
技术实现要素：
本实用新型提供一种高频熔样机，以解决现有的高频熔样机坩埚数量固定，不能灵活的调整坩埚的数量，从而不能满足需要不同数量的坩埚数量的问题。
本实用新型的一种高频熔样机，采用如下技术方案：一种高频熔样机，包括熔样机箱体、高频电源以及红外测温仪，还包括设置在熔样机箱体内的高频熔样部，所述的高频熔样部包括坩埚支架以及设置在坩埚支架上的坩埚部，所述的坩埚部包括单坩埚部和双坩埚部，所述的单坩埚部包括单坩埚和设置在单坩埚外侧的单高频感应线圈，所述的双坩埚部包括双坩埚和设置在双坩埚外侧的双高频感应线圈，所述的单坩埚部和双坩埚部择一装设在坩埚支架上，所述的单高频感应线圈和所述的双高频感应线圈与所述的高频电源进行电性连接，所述的坩埚支架的一侧设置有坩埚旋转步进电机，所述的坩埚旋转步进电机连接有带动坩埚部进行旋转的第一传动机构，所述的坩埚支架的下部设置有坩埚摇摆步进电机，所述的坩埚摇摆步进电机连接有带动坩埚支架进行摇摆的第二传动机构；
其中，所述的红外测温仪设置在熔样机箱体的外部，所述的高频电源设置在熔样机箱体中；
所述的熔样机箱体内还设置有控制装置，所述的控制装置与所述的坩埚旋转步进电机和坩埚摇摆步进电机进行信号连接，所述的红外测温仪也与所述的控制装置进行信号连接，所述的熔样机箱体上设置有触摸屏，所述的触摸屏与所述的控制装置进行信号连接；
其中，所述的控制装置采用plc。
所述的坩埚部还包括三坩埚部和四坩埚部，所述的三坩埚部包括三坩埚和设置在三坩埚外侧的三高频感应线圈，所述的四坩埚部包括四坩埚和设置在四坩埚外侧的四高频感应线圈，所述的三坩埚部和四坩埚部择一安装在所述的坩埚支架上。
所述的单坩埚部、双坩埚部、三坩埚部和四坩埚部择其一安装在所述的坩埚支架上。
所述的第一传动机构采用齿轮传动机构从而使得坩埚部进行旋转。
所述的第二传动机构采用转轴传动机构或者齿轮传动机构从而使得坩埚支架进行摇摆。
所述的坩埚摇摆步进电机的摆动角度为0～45度，所述的坩埚摇摆步进电机的摆动速率为0～30转/分钟。
所述的触摸屏采用昆仑通态触摸屏。
本实用新型的有益效果是：本装置通过设置高频熔样部进行熔样，高频熔样部包括坩埚支架以及设置在坩埚支架上的坩埚部，坩埚部设置在坩埚支架上。坩埚部包括单坩埚部和双坩埚部，单坩埚部和双坩埚部择一选用，单坩埚部和双坩埚部均采用一体化设计。单坩埚部包括单坩埚和设置在单坩埚外侧的单高频感应线圈，单坩埚部用于单个样品的熔样，双坩埚部包括双坩埚和设置在双坩埚外侧的双高频感应线圈，双坩埚部用于两个样品的熔样。工作人员根据实际需要选用单坩埚部或者双坩埚部，并将相应的高频感应线圈与高频电源接通。这样的设置使得单个高频熔样机可以根据熔样需求安装不同规格的坩埚部。与之配套的坩埚支架有足够多的空间来进行安装不同规格的坩埚部。设置的坩埚旋转步进电机带动坩埚进行旋转，坩埚旋转步进电机旋转均匀，能将样品均匀制样，坩埚摇摆步进电机带动坩埚支架从而带动坩埚部进行摇摆，使得制样过程更加的均匀。设置的红外测温仪进行温度检测，为设置的控制装置实时提供温度参数。设置的控制装置采用plc使得整个装置的控制过程的抗干扰能力得以提高、控制过程更加的准确。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型的一种高频熔样机的具体实施例的整装示意图；
图2为本实用新型的一种高频熔样机的具体实施例的结构示意图；
图3为图2的侧视图；
图4为坩埚部的结构示意图；
图5为图4的俯视图；
图中：1、熔样机箱体；2、红外测温仪；3、保护盖；4、触摸屏；5、柜门；6、支撑件；7、高频电源；8、坩埚摇摆步进电机；9、坩埚旋转步进电机；10、第一传动机构；11、坩埚部；111、双高频感应线圈；112、双坩埚；12、第二传动机构；13、坩埚支架。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型的一种高频熔样机的实施例，如图1至图5所示，一种高频熔样机，包括熔样机箱体1、高频电源7以及红外测温仪2，还包括设置在熔样机箱体内的高频熔样部，所述的高频熔样部包括坩埚支架13以及设置在坩埚支架13上的坩埚部11，所述的坩埚部包括单坩埚部和双坩埚部，所述的单坩埚部包括单坩埚和设置在单坩埚外侧的单高频感应线圈，所述的双坩埚部包括双坩埚112和设置在双坩埚外侧的双高频感应线圈111，所述的单坩埚部和双坩埚部择一装设在坩埚支架13上，所述的单高频感应线圈和所述的双高频感应线圈111与所述的高频电源7进行电性连接，所述的坩埚支架13的一侧设置有坩埚旋转步进电机9，所述的坩埚旋转步进电机9连接有带动坩埚部进行旋转的第一传动机构10，所述的坩埚支架13的一侧设置有坩埚摇摆步进电机8，所述的坩埚摇摆步进电机8连接有带动坩埚支架13进行摇摆的第二传动机构12；
其中，所述的红外测温仪2设置在熔样机箱体1的外部，所述的高频电源7设置在熔样机箱体1中；
所述的熔样机箱体1内还设置有控制装置，所述的控制装置与所述的坩埚旋转步进电机9和坩埚摇摆步进电机8进行信号连接，所述的红外测温仪2也与所述的控制装置进行信号连接，所述的熔样机箱体1上设置有触摸屏4，所述的触摸屏4与所述的控制装置进行信号连接；
其中，所述的控制装置采用plc。
进一步的，坩埚部还包括三坩埚部和四坩埚部，所述的三坩埚部包括三坩埚和设置在三坩埚外侧的三高频感应线圈，所述的四坩埚部包括四坩埚和设置在四坩埚外侧的四高频感应线圈，所述的三坩埚部和四坩埚部择一安装在所述的坩埚支架13上。
进一步的，单坩埚部、双坩埚部、三坩埚部和四坩埚部择其一安装在所述的坩埚支架13上。
进一步的，第一传动机构10采用齿轮传动机构从而使得坩埚部进行旋转。
进一步的，第二传动机构12采用转轴传动机构或者齿轮传动机构从而使得坩埚支架进行摇摆。
进一步的，坩埚摇摆步进电机8的摆动角度为0～45度，所述的坩埚摇摆步进电机8的摆动速率为0～30转/分钟。
进一步的，触摸屏采用昆仑通态触摸屏。
该熔样机箱体的底部设置有支撑件6，可以调节整个装置的平衡。
所述的高频熔样部的上侧还设置有保护盖3，所述的保护盖采用液压系统进行驱动其开启或关闭，从而避免了现有装置中敞口进行熔样带来的不利影响。
在熔样机箱体的下部设置有柜门5，用于设置其余配件。
本高频熔样机在控制上采用plc和触摸屏配合方式，一键操作，省去人工成本。在触摸屏中制作有材料的冶炼工艺界面,用户只需要将烧制材料的工艺编辑好存储在触摸屏中，可存储多种不同材料，不同方式的工艺，在使用中直接调用，下载到plc控制器中，plc会根据设计的参数，自动打开关闭各个阀门，熔炼摇摆电机、旋转电机，以及感应加热装置，功率值的实时给定等，自动完成整个工艺流程，实现完全自动化一键起停。
本装置为了在熔炼过程中让物料熔化的充分，均匀，采用了坩埚支架前后摇摆，坩埚自身正反旋转的方式，达到物料搅拌摇匀，除气除渣的目的。
本实用新型的有益效果是：本装置通过设置高频熔样部进行熔样，高频熔样部包括坩埚支架以及设置在坩埚支架上的坩埚部，坩埚部设置在坩埚支架上。坩埚部包括单坩埚部和双坩埚部，单坩埚部和双坩埚部择一选用，单坩埚部和双坩埚部均采用一体化设计。单坩埚部包括单坩埚和设置在单坩埚外侧的单高频感应线圈，单坩埚部用于单个样品的熔样，双坩埚部包括双坩埚和设置在双坩埚外侧的双高频感应线圈，双坩埚部用于两个样品的熔样。工作人员根据实际需要选用单坩埚部或者双坩埚部，并将相应的高频感应线圈与高频电源接通。
上述设置使得单个高频熔样机可以根据熔样需求安装不同规格的坩埚部。与之配套的坩埚支架有足够多的空间来进行安装不同规格的坩埚部。设置的坩埚旋转步进电机带动坩埚进行旋转，坩埚旋转步进电机旋转均匀，能将样品均匀制样，坩埚摇摆步进电机带动坩埚支架从而带动坩埚部进行摇摆，使得制样过程更加的均匀。设置的红外测温仪进行温度检测，为设置的控制装置实时提供温度参数。设置的控制装置采用plc使得整个装置的控制过程的抗干扰能力得以提高、控制过程更加的准确。
以上所称“第一、第二”等词仅为方便叙述，不具有限定作用。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
1.一种高频熔样机，包括熔样机箱体、高频电源以及红外测温仪，其特征在于：还包括设置在熔样机箱体内的高频熔样部，所述的高频熔样部包括坩埚支架以及设置在坩埚支架上的坩埚部，所述的坩埚部包括单坩埚部和双坩埚部，所述的单坩埚部包括单坩埚和设置在单坩埚外侧的单高频感应线圈，所述的双坩埚部包括双坩埚和设置在双坩埚外侧的双高频感应线圈，所述的单坩埚部和双坩埚部择一装设在坩埚支架上，所述的单高频感应线圈和所述的双高频感应线圈与所述的高频电源进行电性连接，所述的坩埚支架的一侧设置有坩埚旋转步进电机，所述的坩埚旋转步进电机连接有带动坩埚部进行旋转的第一传动机构，所述的坩埚支架的下部设置有坩埚摇摆步进电机，所述的坩埚摇摆步进电机连接有带动坩埚支架进行摇摆的第二传动机构；
其中，所述的红外测温仪设置在熔样机箱体的外部，所述的高频电源设置在熔样机箱体中；
所述的熔样机箱体内还设置有控制装置，所述的控制装置与所述的坩埚旋转步进电机和坩埚摇摆步进电机进行信号连接，所述的红外测温仪也与所述的控制装置进行信号连接，所述的熔样机箱体上设置有触摸屏，所述的触摸屏与所述的控制装置进行信号连接；
其中，所述的控制装置采用plc。
2.根据权利要求1所述的一种高频熔样机，其特征在于：所述的坩埚部还包括三坩埚部和四坩埚部，所述的三坩埚部包括三坩埚和设置在三坩埚外侧的三高频感应线圈，所述的四坩埚部包括四坩埚和设置在四坩埚外侧的四高频感应线圈，所述的三坩埚部和四坩埚部择一安装在所述的坩埚支架上。
3.根据权利要求2所述的一种高频熔样机，其特征在于：所述的单坩埚部、双坩埚部、三坩埚部和四坩埚部择其一安装在所述的坩埚支架上。
4.根据权利要求3所述的一种高频熔样机，其特征在于：所述的第一传动机构采用齿轮传动机构从而使得坩埚部进行旋转。
5.根据权利要求3所述的一种高频熔样机，其特征在于：所述的第二传动机构采用转轴传动机构或者齿轮传动机构从而使得坩埚支架进行摇摆。
6.根据权利要求4或者5所述的一种高频熔样机，其特征在于：所述的坩埚摇摆步进电机的摆动角度为0～45度，所述的坩埚摇摆步进电机的摆动速率为0～30转/分钟。
7.根据权利要求1所述的一种高频熔样机，其特征在于：所述的触摸屏采用昆仑通态触摸屏。
技术总结