本实用新型涉及触摸屏技术领域，尤其涉及一种低反射率的电容式触摸屏。
背景技术：
为了丰富用户的使用体验，车载中控显示屏一般会增加外挂式电容式触摸屏，由于车辆经常在高亮度环境中使用，触摸屏暴露在强光下，其反射特性直接影响到用户的使用体验。
如果触摸显示模组的触摸屏幕表面未做低反射处理，由于触摸屏盖板通常采用玻璃(也有pmma材料)，光线从空间入射到玻璃或者其他材料时，如图1所示，因为空气和玻璃的折射率不同，表面反射率较高(玻璃折射率1.5，空气折射率1.0，实测玻璃表面的反射率约为4.5％)，容易产生镜面效果，图像变得不清晰、反光严重。相反，如果触摸屏表面做有低反射设计，则用户能够看到更为清晰的图像，色彩也更鲜艳。
为了实现低反射率，传统方案根据多层膜减反原理，在玻璃盖板的表面额外增加4～6层镀膜，此种方案可以大大降低反射率，但因为多次镀膜，膜厚难以控制，导致色差等难以控制，良率低，成本高。
技术实现要素：
本实用新型提供一种低反射率的电容式触摸屏，解决的技术问题是，传统采用多层膜减反原理实现低反射率的方案，因为多次镀膜，膜厚难以控制，导致色差等难以控制，良率低，成本高。
为解决以上技术问题，本实用新型提供一种低反射率的电容式触摸屏，设有触摸屏盖板，还设有叠置在所述触摸屏盖板上的打底层和af膜层。
具体地，所述打底层均匀蒸镀在所述触摸屏盖板表面，所述af膜层均匀溅镀在所述打底层表面。
优选地，所述触摸屏盖板为玻璃盖板。
优选地，所述打底层的厚度为30～60nm。
优选地，所述af膜层的厚度为10～30nm。
优选地，所述打底层的厚度为38nm。
优选地，所述af膜层的厚度为15nm。
在一优选实施方式中，所述打底层的厚度为38nm，所述af膜层的厚度为15nm。
优选地，所述打底层为二氧化硅层。
本实用新型提供的一种低反射率的电容式触摸屏，相比传统的多层膜减反方案，只保留了防指纹的af膜层(采用氟化物)，并在af膜层与触摸屏盖板之间设计sio2打底层(加强氟化物在触摸屏盖板表面的粘附性，防止其脱落)，膜层少且膜厚易控制，良率高且成本低，色差易控制，在触摸屏盖板、sio2打底层、af膜层的折射率一定的条件下，通过调整sio2打底层和af膜层的厚度，可以实现触摸屏盖板(主要是玻璃盖板)表面反射率在3％以下，比如在打底层厚度为38nm、af膜层厚度为15nm时，反射率低至2.6％。
附图说明
图1是本实用新型实施例提供的屏幕表面未做低反射处理的触摸显示模组的结构及光反射示意图；
图2是本实用新型实施例提供的一种低反射率的电容式触摸屏的结构及光反射示意图；
图3是本实用新型实施例提供图2中的打底层厚度为38nm、af膜层厚度为15nm时，照射光波长与反射率之间的关系图；
图4是本实用新型实施例提供图2结构中不采用打底层(采用喷涂工艺)的结构示意图；
图5是本实用新型实施例提供图4的af膜层厚度为7～10nm时，照射光波长与反射率之间的关系图；
其中：触摸屏盖板1，打底层2，af膜层3。
具体实施方式
下面结合附图具体阐明本实用新型的实施方式，实施例的给出仅仅是为了说明目的，并不能理解为对本实用新型的限定，包括附图仅供参考和说明使用，不构成对本实用新型专利保护范围的限制，因为在不脱离本实用新型精神和范围基础上，可以对本实用新型进行许多改变。
本申请主要针对af镀膜制程做优化，不用通过额外的镀膜制程来减少盖板表面的反射率。常规的af(anti-finger，防指纹)工艺有喷涂制程和蒸镀制程，其所用的喷涂和蒸镀的材料都是氟化物。喷涂主要采用类似液态粘附的方式，所以粘性较强，不需要在玻璃上做打底层，但成形的膜不够均匀。蒸镀制程是将固态靶材氟化物采用溅镀的方式成膜在盖板的表面，溅射的膜均匀，为了保证良好的显示效果，本申请采用蒸镀制程，但所以需要一层打底层来加强氟化物在触摸屏盖板表面的粘附性，防止脱落。
如图2所示(其中r1、r2、r3分别光线在不同的两层物质间产生的反射率)，本实用新型实施例提供的一种低反射率的电容式触摸屏，设有触摸屏盖板1，还设有叠置在所述触摸屏盖板1上的打底层2和af膜层3。
具体地，所述打底层2均匀蒸镀在所述触摸屏盖板1表面，所述af膜层3均匀溅镀在所述打底层2表面。在本实施例中，所述打底层2为二氧化硅层，采用sio2材料蒸镀，所述af膜层3采用氟素树脂材料。
在本实施例中，所述触摸屏盖板1为玻璃盖板，在其他实施例中，也可以采用pmma等材料(pmma是聚甲基丙烯酸甲酯材料的缩写，俗称有机玻璃，是迄今为止合成透明材料中质地较为优异，价格又比较适宜的品种)。
在本实施例中，所述打底层2的厚度为30～60nm，优选为38nm。所述af膜层3的厚度为10～30nm，优选为15nm。
经试验可得，如图3所示，当所述打底层2的厚度为38nm，所述af膜层3的厚度为15nm时，在日光的照射下(平均波长为550nm)，触摸屏表面的反射率低至2.6％。
在本实施例中，如图4所示，如果不添加打底层2，则会影响af膜层的成型厚度以及对触摸屏盖板1的粘附性，导致喷涂厚度只能限制在7～10nm，受工艺限制无法做厚，如图5所示，550nm对应的反射率大约4.2％，对降低反射率没有明显效果。本实用新型加入了打底层(40～60nm)后，可将af膜层的厚度范围提升至10～30nm，如图3所示，反射率得到明显降低。
本实用新型实施例提供的一种低反射率的电容式触摸屏，相比传统的多层膜减反方案，只保留了防指纹的af膜层3(采用氟化物)，并在af膜层3与玻璃盖板之间设计sio2打底层2(加强氟化物在触摸屏盖板1表面的粘附性，防止其脱落)，膜层少且膜厚易控制，良率高且成本低，色差易控制，在触摸屏盖板、sio2打底层2、af膜层3的折射率一定的条件下(分别为1.5、1.46、1.3)，通过调整sio2打底层2和af膜层3的厚度，可以实现玻璃盖板表面反射率在3％以下，比如在打底层2厚度为38nm、af膜层3厚度为15nm时，反射率低至2.6％。
上述实施例为本实用新型较佳的实施方式，但本实用新型的实施方式并不受上述实施例的限制，其他的任何未背离本实用新型的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本实用新型的保护范围之内。
1.一种低反射率的电容式触摸屏，设有触摸屏盖板(1)，其特征在于，还设有叠置在所述触摸屏盖板(1)上的打底层(2)和af膜层(3)；所述打底层(2)均匀蒸镀在所述触摸屏盖板(1)表面，所述af膜层(3)均匀溅镀在所述打底层(2)表面；所述触摸屏盖板(1)为玻璃盖板；所述打底层(2)的厚度为30～60nm；所述af膜层(3)的厚度为10～30nm；所述打底层(2)为二氧化硅层。
2.如权利要求1所述的一种低反射率的电容式触摸屏，其特征在于：所述打底层(2)的厚度为38nm。
3.如权利要求1所述的一种低反射率的电容式触摸屏，其特征在于：所述af膜层(3)的厚度为15nm。
4.如权利要求1所述的一种低反射率的电容式触摸屏，其特征在于：所述打底层(2)的厚度为38nm，所述af膜层(3)的厚度为15nm。
技术总结