本发明涉及数据处理，尤其涉及一种曝光控制方法、装置、设备及介质。
背景技术：
1、自动曝光技术通过调整不同ct定位片z向位置、不同角度的辐射剂量来达到控制输出、优化图像质量的目的。目前常见的自动曝光控制技术一般是通过分析定位片图像来计算各个位置使用的管电流大小。在分析过程中一般会将待扫描部分根据x光吸收系数等效为椭圆形水模，并计算该椭圆形水模的面积s及长短轴长度a、b。其中，面积s决定了360度内扫描使用的总剂量；长短轴长度a、b决定了不同角度使用的剂量大小。
2、一般而言，长轴方向需要使用相对更大的管电流；短轴方向需要使用相对更小的管电流。但是现有算法根据长短轴长度确定管电流大小，相同长短周长度比的部位使用的长短轴方向管电流大小的比值是接近的，由此可能导致输出图像质量不够高。
技术实现思路
1、为了克服上述技术缺陷，本发明的目的在于提供一种曝光控制方法、装置、设备及介质，解决现有曝光控制在根据对应椭圆形水模长轴和短轴长度比确定管电流大小，导致输出图像质量不够高的问题。
2、本发明公开了一种曝光控制方法，包括：
3、根据定位片建立目标位置对应的等效椭圆水模，以计算平均管电流；
4、获取所述等效椭圆水模的长轴长度和短轴长度，并根据所述长轴长度和所述短轴长度的差值建立第一关系函数确定管电流比值参数；
5、建立目标位置下沿所述等效椭圆水模各个方向的目标管电流相对所述管电流比值参数和所述平均管电流变化的第二关系函数；
6、根据所述第二关系函数、所述平均管电流和所述管电流比例参数确定各个方向下的目标管电流，以进行曝光辐射剂量控制。
7、优选地，所述第一关系函数表达为：
8、r＝eμ(a-b)；其中r为管电流比值参数；μ为水的吸收系数；a为长轴长度；b为短轴长度；e为自然底数。
9、优选地，所述建立目标位置下沿所述等效椭圆水模各个方向的目标管电流相对所述管电流比值参数和所述平均管电流变化的第二关系函数，包括：
10、基于所述管电流比值参数和所述平均管电流建立用于确定目标位置下沿所述等效椭圆水模长轴和短轴方向的目标管电流的第一子函数；
11、根据沿所述等效椭圆水模除长轴和短轴方向外其他方向与短轴方向之间的夹角、所述管电流比值参数和所述平均管电流建立用于确定目标位置下沿所述等效椭圆水模其他方向的目标管电流的第二子函数；
12、基于所述第一子函数和所述第二子函数确定第二关系函数。
13、优选地，所述第一子函数表达为：
14、其中maa为沿所述等效椭圆水模长轴方向的目标管电流；mab为沿所述等效椭圆水模长轴方向的目标管电流；r为管电流比值参数；ma为平均管电流。
15、优选地，所述第二子函数表达为：
16、其中，maθ为沿所述等效椭圆水模某一方向的目标管电流；θ为该方向与短轴方向的夹角；r为管电流比值参数；ma为平均管电流。
17、优选地，根据目标位置对应的等效椭圆水模预先采集水模噪声-辐射剂量曲线来进行拟合估计，以计算平均管电流。
18、优选地，在获取所述等效椭圆水模的长轴长度和短轴长度时，包括：
19、当所述定位片为一个，则根据定位片x方向的像素值确定长轴长度和短轴长度；
20、当所述定位片不止一个，则结合各个定位片x方向的像素值估算长轴长度和短轴长度。
21、本发明还提供一种曝光控制装置，包括：
22、第一处理模块，用于根据定位片建立目标位置对应的等效椭圆水模，以计算平均管电流；
23、第二处理模块，用于获取所述等效椭圆水模的长轴长度和短轴长度，并根据所述长轴长度和所述短轴长度的差值建立第一关系函数确定管电流比值参数；
24、第三处理模块，用于建立目标位置下沿所述等效椭圆水模各个方向的目标管电流相对所述管电流比值参数和所述平均管电流变化的第二关系函数；根据所述第二关系函数、所述平均管电流和所述管电流比例参数确定各个方向下的目标管电流，以进行曝光辐射剂量控制。
25、本发明还提供一种计算机设备，所述计算机设备包括存储器、处理器以及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现所述的曝光控制方法的步骤。
26、本发明还提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现所述曝光控制方法的步骤。
27、采用了上述技术方案后，与现有技术相比，具有以下有益效果：
28、本申请提供的一种曝光控制方法、装置、设备及介质，首先确定目标位置下的等效椭圆水模，并确定平均管电流，而后根据等效椭圆水模长短轴差值建立管电流比值参数，以确定对应长轴方向和短轴方向的管电流的比例，从而根据平均管电流和确定的比例计算对应管电流，其他方向上的管电流也可进一步基于与长短轴夹角确定，由此通过目标位置下控制不同角度的辐射剂量(目标管电流)来达到控制剂量输出、优化图像质量的目的，解决现有曝光控制在根据对应椭圆形水模长轴和短轴长度比确定管电流大小，导致输出图像质量不够高的问题。
1.一种曝光控制方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的曝光控制方法，其特征在于：
3.根据权利要求1所述的曝光控制方法，其特征在于，所述建立目标位置下沿所述等效椭圆水模各个方向的目标管电流相对所述管电流比值参数和所述平均管电流变化的第二关系函数，包括：
4.根据权利要求3所述的曝光控制方法，其特征在于：
5.根据权利要求3所述的曝光控制方法，其特征在于：
6.根据权利要求1所述的曝光控制方法，其特征在于：
7.根据权利要求1所述的曝光控制方法，其特征在于，在获取所述等效椭圆水模的长轴长度和短轴长度时，包括：
8.一种曝光控制装置，其特征在于，包括：
9.一种计算机设备，其特征在于，所述计算机设备包括存储器、处理器以及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求1至7任一项所述的曝光控制方法的步骤。
10.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现上述权利要求1-7任一项所述曝光控制方法的步骤。
