基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法及系统与流程

    技术2026-08-17  13


    本发明涉及半导体,特别涉及一种基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法及系统。


    背景技术:

    1、栅极是mos管中重要的组成部分,是集成电路器件工作的指挥官,因此栅氧化工艺的精确控制,成了集成电路器件能否满足要求的必要条件之一。

    2、在半导体制造技术中,常压炉管是用来做栅氧化层的标准机台,随着半导体线宽的越来越小,特别是做到小于65nm的时候,栅氧化层的厚度要求越来越高,要求栅氧化层的变异厚度在+/-1埃。现在的常压炉管管内的压力和大气压力是联通的,由于大气压力在一年四季会有很大的差异,这样导致常压炉管管内的压力会有很大的变化,由于压力会影响栅氧化层的厚度,直接导致常压炉管的厚度的波动大于1埃,不能满足线宽小于65nm的制程要求。并且常压炉管内并没有安装压力计,因此,不能实时监测常压炉管内的实际的压力情况。

    3、另外,由于常压炉管内压力与大气压力相对负压控制,常压炉管随着大气压力的变化,膜厚也会有所变化,需要基于大气压力不断调整栅氧化层制造的工艺参数,但是,在管控上存在滞后性,易出现在线超出控制规格的情况。

    4、需要说明的是,公开于该发明背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本发明一般背景技术的理解,而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。


    技术实现思路

    1、本发明的目的在于提供一种基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法及系统,以解决由于大气压力的变化,现有的常压炉管的管控方式存在滞后性的问题。

    2、为解决上述技术问题,本发明提供一种基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法,所述常压炉管用于生长栅极氧化层,包括:

    3、基于原始数据,获取不同季节对应的大气压力范围数据;

    4、基于大气压力范围数据,设定常压炉管生长栅极氧化层时,在不同季节的压力范围;

    5、获取大气压力的实时值,若大气压力的实时值超过设定的压力范围,则锁定栅极氧化层生长对应的工艺参数,重新调整工艺参数。

    6、优选地,所述原始数据来自于低压炉管的压力计测量得到的数据。

    7、优选地,基于原始数据,获取不同季节对应的大气压力范围数据包括:

    8、获取不同地区、不同城市在不同季节对应的大气压力范围数据。

    9、优选地,基于大气压力范围数据,设定常压炉管生长栅极氧化层时,在不同季节的压力范围包括:

    10、设定的压力范围由工程师编辑设定,形成判定标准;且该判定标准能由工程师根据制造标准进行实时调整。

    11、优选地,所述判定标准嵌入至fdc系统。

    12、优选地,所述常压炉管生长栅极氧化层时的工艺参数由工艺程式管控系统控制,且所述工艺程式管控系统与所述fdc系统联动。

    13、优选地,通过低压炉管的压力计获取大气压力的实时值。

    14、优选地,若大气压力的实时值超过设定的压力范围,则锁定栅极氧化层生长对应的工艺参数,重新调整工艺参数包括:

    15、若大气压力的实时值超过设定的压力范围,则通过fdc系统联动到工艺程式管控系统,并通过工艺程式管控系统锁定当前的工艺参数,同时显示特定的锁定备注,通过工程师重新调整对应的工艺参数之后,再继续生长栅极氧化层。

    16、优选地,若获取的大气压力值处于设定的压力范围内,则通过fdc系统联动到工艺程式管控系统,工艺程式管控系统继续按照当前的工艺参数生长栅极氧化层。

    17、基于相同的发明思想,本发明还提供了一种基于大气压力变化管控常压炉管程式的系统,包括:

    18、获取模块,用于基于原始数据,获取不同季节对应的大气压力范围数据;

    19、控制模块,用于基于大气压力范围数据,设定常压炉管生长栅极氧化层时,在不同季节的压力范围;获取大气压力的实时值,若大气压力的实时值超过设定的压力范围,则锁定栅极氧化层生长对应的工艺参数,重新调整工艺参数。

    20、与现有技术相比,本发明的基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法具有如下优点:

    21、本发明通过基于原始数据,获取不同季节对应的大气压力范围数据;基于大气压力范围数据,设定常压炉管生长栅极氧化层时,在不同季节的压力范围;获取大气压力的实时值,若大气压力的实时值超过设定的压力范围,则锁定栅极氧化层生长对应的工艺参数,重新调整工艺参数。由此,本发明提供的基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法,通过将低压炉管工艺测量的数据和fdc系统,应用于常压炉管生长栅极氧化层的工艺中,若大气压力的实时值超过设定的压力范围,则锁定栅极氧化层生长对应的工艺参数,并通过工程师重新调整工艺参数之后,再生长栅极氧化层。从而能够基于大气压力的变化,实时管控调整栅氧化层制造的工艺参数,避免在管控上存在滞后性,影响产品的栅极氧化层的膜厚。

    22、本发明提供的基于大气压力变化管控常压炉管程式的系统与本发明提供的基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法属于同一发明构思,因此,本发明提供的基于大气压力变化管控常压炉管程式的系统至少具有本发明提供的基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法的所有优点,能够基于大气压力的变化,实时管控调整栅氧化层制造的工艺参数,避免在管控上存在滞后性,影响产品的栅极氧化层的膜厚,从而能够避免影响产品的性能。



    技术特征:

    1.一种基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法,所述常压炉管用于生长栅极氧化层,其特征在于,包括:

    2.根据权利要求1所述的基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法,其特征在于,所述原始数据来自于低压炉管的压力计测量得到的数据。

    3.根据权利要求1所述的基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法,其特征在于,基于原始数据,获取不同季节对应的大气压力范围数据包括:

    4.根据权利要求1所述的基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法,其特征在于,基于大气压力范围数据,设定常压炉管生长栅极氧化层时,在不同季节的压力范围包括:

    5.根据权利要求4所述的基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法,其特征在于,所述判定标准嵌入至fdc系统。

    6.根据权利要求5所述的基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法,其特征在于,所述常压炉管生长栅极氧化层时的工艺参数由工艺程式管控系统控制,且所述工艺程式管控系统与所述fdc系统联动。

    7.根据权利要求1所述的基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法,其特征在于,通过低压炉管的压力计获取大气压力的实时值。

    8.根据权利要求6所述的基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法,其特征在于,若大气压力的实时值超过设定的压力范围,则锁定栅极氧化层生长对应的工艺参数,重新调整工艺参数包括:

    9.根据权利要求6所述的基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法,其特征在于,若获取的大气压力值处于设定的压力范围内,则通过fdc系统联动到工艺程式管控系统,工艺程式管控系统继续按照当前的工艺参数生长栅极氧化层。

    10.一种基于大气压力变化管控常压炉管程式的系统,其特征在于,包括:


    技术总结
    本发明提供了一种基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法及系统,属于半导体领域。该基于大气压力变化管控常压炉管程式的方法包括基于原始数据,获取不同季节对应的大气压力范围数据;基于大气压力范围数据,设定常压炉管生长栅极氧化层时,在不同季节的压力范围;获取大气压力的实时值,若大气压力的实时值超过设定的压力范围,则锁定栅极氧化层生长对应的工艺参数,重新调整工艺参数。本发明通过将低压炉管工艺测量的数据和FDC系统,应用于常压炉管生长栅极氧化层的工艺中,能够基于大气压力的变化,实时管控调整栅氧化层制造的工艺参数,避免在管控上存在滞后性,影响产品的栅极氧化层的膜厚。

    技术研发人员:王灿
    受保护的技术使用者:上海华力集成电路制造有限公司
    技术研发日:
    技术公布日:2024/10/24
    转载请注明原文地址:https://symbian.8miu.com/read-47053.html

    最新回复(0)