本发明涉及透明多孔质膜的制造方法。
背景技术：
1、已知在各种光学构件上设置折射率小于光学构件的透明多孔质膜，来任意地对包含这些光学构件和透明多孔质膜的光学制品的光学特性进行控制。这样的透明多孔质膜例如将包含凝胶状硅化合物的粉碎物和分散介质的有机硅溶胶涂料涂敷于基材来制造(例如，参照专利文献1)。以往，从制造效率的观点考虑，这样的透明多孔质膜通过在长条状的基材上进行模涂来制造，从基材剥离后贴附于光学构件来使用。但是，近年来，光学制品的用途多样化，正在研究直接在光学构件上形成透明多孔质膜。光学构件可能存在与用途相应的各种形状(异形、片状等)，因此理想的是将涂料喷涂于对象物来形成透明多孔质膜。但是，若将专利文献1中记载的有机硅溶胶涂料用于喷涂，则有时透明多孔质膜的透明性会下降，或有时透明多孔质膜的厚度的精度会下降。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2017－25277号公报
技术实现思路
1、发明所要解决的问题
2、本发明是为了解决上述以往的技术问题而完成的，其主要目的在于提供一种透明多孔质膜的制造方法，其能通过喷涂来制造具有优异的透明性和优异的厚度精度的透明多孔质膜。
3、用于解决问题的方案
4、本发明的实施方式的透明多孔质膜的制造方法包括将透明多孔质形成涂料以固体成分浓度变化率满足下式(1)的方式喷涂于基材来形成涂膜的工序，所述透明多孔质形成涂料包含粒子和分散有该粒子的分散介质。
5、1.3≤固体成分浓度变化率≤60……(1)
6、(式(1)中，固体成分浓度变化率表示喷涂后10秒时间点的涂膜中的固体成分浓度相对于喷涂前的透明多孔质形成涂料中的固体成分浓度。)
7、在一个实施方式中，上述喷涂前的透明多孔质形成涂料中的固体成分浓度为0.1质量％～6.0质量％，上述喷涂后10秒时间点的涂膜中的固体成分浓度为3.7质量％～6.5质量％。
8、在一个实施方式中，上述喷涂后10秒时间点的涂膜的粘度满足下式(2)。
9、0.0549e1.2x≤喷涂后10秒时间点的涂膜的粘度≤0.0549e3.3x……(2)
10、(式(2)中，e表示纳皮尔数；x表示喷涂后10秒时间点的涂膜中的固体成分浓度。)
11、在一个实施方式中，上述分散介质包含具有小于150℃的沸点的第一分散介质。
12、在一个实施方式中，上述分散介质中的第一分散介质的含有比例为30质量％～100质量％。
13、在一个实施方式中，上述粒子是硅化合物的多孔质粒子。
14、发明效果
15、根据本发明的实施方式，能通过喷涂来制造具有优异的透明性和优异的厚度精度的透明多孔质膜。
1.一种透明多孔质膜的制造方法，包括将透明多孔质形成涂料以固体成分浓度变化率满足下式(1)的方式喷涂于基材来形成涂膜的工序，所述透明多孔质形成涂料包含粒子和分散有所述粒子的分散介质，
2.根据权利要求1所述的透明多孔质膜的制造方法，其中，
3.根据权利要求2所述的透明多孔质膜的制造方法，其中，
4.根据权利要求1至3中任一项所述的透明多孔质膜的制造方法，其中，
5.根据权利要求4所述的透明多孔质膜的制造方法，其中，
6.根据权利要求1至5中任一项所述的透明多孔质膜的制造方法，其中，
