低反射高透过AR膜的制作方法

    技术2026-07-03  14


    本技术是关于一种ar膜,特别是关于一种低反射高透过ar膜。


    背景技术:

    1、ar膜,又称增透膜,是减低反射能让光更完全透过的一种高透光学膜,ar膜具有以下功能:减少或消除棱镜、平面镜等光学表面的反射光,从而增加这些元件的透光量,使光线最大程度呈现给用户的眼睛。

    2、现有的部分ar膜因其膜层结构设计使导致其反射率高且透射率低。

    3、公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本实用新型的总体背景的理解,而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。


    技术实现思路

    1、本实用新型的目的在于提供一种低反射高透过ar膜,其具有较低的反射率和较高的透过率。

    2、为实现上述目的,本实用新型提供了一种低反射高透过ar膜,包括层叠设置的基材层、第一氧化铌层、第一氟化镁层、第二氧化铌层以及第二氟化镁层。

    3、在一个或多个实施方式中,所述基材层与第一氧化铌层之间设有上底涂层;所述上底涂层的厚度为40-320nm。

    4、在一个或多个实施方式中,所述上底涂层与第一氧化铌层之间设有打底层。

    5、在一个或多个实施方式中,所述第二氟化镁层上背离所述第二氧化铌层的一面设有二氧化硅层。

    6、在一个或多个实施方式中,所述二氧化硅层上背离所述第二氟化镁层的一面设有防污层。

    7、在一个或多个实施方式中,所述第一氧化铌层的厚度为1-30nm;所述第二氧化铌层的厚度为30-180nm。

    8、在一个或多个实施方式中,所述第一氟化镁层的厚度为5-150nm;所述第二氟化镁层的厚度为30-200nm。

    9、在一个或多个实施方式中,所述基材层为pet层、透明pi层、tac层、cop层以及pc层中的任意一种;

    10、所述基材层的厚度为5.7-250μm。

    11、在一个或多个实施方式中,所述基材层上背离所述第一氧化铌层的面贴合有下底涂层;所述下底涂层的厚度为0.3-3.9μm。

    12、在一个或多个实施方式中,所述下底涂层上背离所述基材层的面贴合有高温保护膜。

    13、与现有技术相比,根据本实用新型的低反射高透过ar膜,通过在基材上设置层叠设置的第一氧化铌层、第一氟化镁层、第二氧化铌层以及第二氟化镁层,起到增透减反射的作用。第一氧化铌层和第二氧化铌层起到增加透过率的作用,第一氟化镁层和第二氟化镁层起到降低反射率的作用。



    技术特征:

    1.一种低反射高透过ar膜,其特征在于,包括层叠设置的基材层、第一氧化铌层、第一氟化镁层、第二氧化铌层以及第二氟化镁层,所述基材层与第一氧化铌层之间设有上底涂层,所述上底涂层与第一氧化铌层之间设有打底层,所述第二氟化镁层上背离所述第二氧化铌层的一面设有二氧化硅层,所述二氧化硅层上背离所述第二氟化镁层的一面设有防污层,所述基材层上背离所述第一氧化铌层的面贴合有下底涂层,述下底涂层上背离所述基材层的面贴合有高温保护膜。

    2.如权利要求1所述的低反射高透过ar膜,其特征在于,所述上底涂层的厚度为40-320nm。

    3.如权利要求1所述的低反射高透过ar膜,其特征在于,所述第一氧化铌层的厚度为1-30nm;所述第二氧化铌层的厚度为30-180nm。

    4.如权利要求1所述的低反射高透过ar膜,其特征在于,所述第一氟化镁层的厚度为5-150nm;所述第二氟化镁层的厚度为30-200nm。

    5.如权利要求1所述的低反射高透过ar膜,其特征在于,所述基材层为pet层、透明pi层、tac层、cop层以及pc层中的任意一种;

    6.如权利要求1所述的低反射高透过ar膜,其特征在于,所述下底涂层的厚度为0.3-3.9μm。


    技术总结
    本技术公开了一种低反射高透过AR膜,包括层叠设置的基材层、第一氧化铌层、第一氟化镁层、第二氧化铌层以及第二氟化镁层。本技术的低反射高透过AR膜,通过在基材上设置层叠设置的第一氧化铌层、第一氟化镁层、第二氧化铌层以及第二氟化镁层,起到增透减反射的作用。第一氧化铌层和第二氧化铌层起到增加透过率的作用,第一氟化镁层和第二氟化镁层起到降低反射率的作用。

    技术研发人员:高毓康,王志坚,陈涛,赵飞
    受保护的技术使用者:浙江日久新材料科技有限公司
    技术研发日:20231027
    技术公布日:2024/10/24
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