载置台的制作方法

    技术2026-06-30  13


    本发明涉及用于载置收纳容器的载置台。


    背景技术:

    1、以往,为了正确地载置所搬运来的半导体晶片等的收纳容器,采用了一种设置定位机构的技术。例如,在专利文献1中公开了如下技术:使容器主体部的底面所具有的底面凹部与支承体所具备的能在上下方向上自由弹性形变的定位部件卡合,从而将容器载置于水平方向上的适当位置。

    2、(现有技术文献)

    3、专利文献1:日本国特开2016-94264号公报


    技术实现思路

    1、(发明要解决的问题)

    2、但是,上述现有技术中,在容器的载荷增大的情况下,有时定位部件与容器之间会在短时间内发生磨损并形成屑粒。而屑粒的形成问题会妨碍要求高清洁度的产品的操作。

    3、本发明的一个方式的目的在于实现一种即使在收纳容器的载荷增大的情况下也能够抑制定位时产生屑粒的载置台。

    4、(用以解决问题的技术手段)

    5、为了解决上述课题,本发明的一个方面的载置台用于载置收纳容器,其中该收纳容器的底面设置有多个定位槽,所述载置台具备:多个定位销,其从供载置所述收纳容器的载置台顶面向上方突出;以及多个缓冲体,其从所述载置台顶面向上方突出,所述多个定位销以能与所述多个定位槽相应地卡合的方式配置在所述载置台顶面,所述缓冲体对应于所述多个定位销而设,所述缓冲体的上端能够被向下方压入,并且所述缓冲体在所述上端被压入的情况下形成向上方向的力,并且,所述缓冲体所在的高度实现:当所述收纳容器被载置时,所述上端未被向下方压入的状态下的所述缓冲体比所述定位销先与所述收纳容器的所述底面接触。

    6、(发明效果)

    7、根据本发明的一个方式,能够实现一种即使在收纳容器的载荷增大的情况下也能够抑制定位时产生屑粒的载置台。



    技术特征:

    1.一种载置台,其用于载置收纳容器,其中该收纳容器的底面设置有多个定位槽,

    2.根据权利要求1所述的载置台,其中,

    3.根据权利要求2所述的载置台,其中,

    4.根据权利要求2所述的载置台,其中,

    5.根据权利要求2所述的载置台,其中,

    6.根据权利要求2~5中任一项所述的载置台,其中,

    7.根据权利要求1所述的载置台,其中,

    8.根据权利要求7所述的载置台,其中,

    9.根据权利要求7或8所述的载置台,其中,

    10.根据权利要求1所述的载置台,其中,


    技术总结
    实现一种即使在收纳容器的载荷增大的情况下也能够抑制定位时产生屑粒的载置台。载置台(10)具备:多个定位销(20),其从供载置收纳容器(100)的载置台顶面(10a)向上方突出;以及多个缓冲体(30)。多个定位销(20)以能与多个定位槽(112)相应地卡合的方式配置在载置台顶面(10a),缓冲体(30)对应于多个定位销(20)而设,缓冲体(30)的上端能够被向下方压入,并且缓冲体(30)在其上端被压入的情况下形成向上方向的力,另外,缓冲体(30)的所在高度实现:缓冲体(30)的上端未被向下方压入的状态下的缓冲体(30)比定位销(20)先与收纳容器(100)的底面(101)接触。

    技术研发人员:董浙广
    受保护的技术使用者:株式会社大福
    技术研发日:
    技术公布日:2024/10/24
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