本技术属于金属表面处理，具体涉及一种钕铁硼永磁材料滚镀钯钢的镀层结构。
背景技术：
1、钕铁硼材料用于制备高强度的永磁体已经获得了广泛的应用，在制备高端电子产品配件时，通常在钕铁硼表面上制备镀金层以满足其导电性和耐蚀性的特殊要求。钕铁硼基体表面多孔隙，材料本身又具有较高的化学活性，目前，钕铁硼电镀还存在一定的困难[1]。传统方法采用氰化镀铜在钕铁硼表面制备预镀铜层，然后再镀其他镀层。现有技术通常在钕铁硼基体上进行柠檬酸盐镀镍制备预镀镍层，然后再镀其他镀层。
2、较小的钕铁硼工件采用滚镀工艺制备镀层，对于镀金一类贵金属而言，新近开发的技术组合为，依次在钕铁硼表面制备柠檬酸盐预镀镍层、光亮镀镍层、及镀金一类的贵金属镀层。在这种镀层结构中，镀镍层相对于钕铁硼基体是阴极性镀层，镀金一类的贵金属镀层相对于镀镍层也是阴极性镀层，当镀层存在孔隙或出现破损后这种镀层结构会发生原电池腐蚀而迅速破坏钕铁硼基体及镀层。
3、在现有技术中，焦磷酸盐镀铜和镀酸铜通常不适用于滚镀。过去业界开发了滚镀酸铜工艺，但由于工艺稳定性差及对一些复杂镀件基体存在腐蚀问题，电镀厂通常不采用滚镀酸铜工艺。目前，也未见到焦磷酸盐滚镀铜工艺的报道。
4、镀金层相对于钯钢镀层制备成本较高[2]，业界开发了用钯钢镀层代替镀金层的电镀工艺。
5、参考文献：[1]、李红英，郝壮志，刘宇晖等，烧结ndfeb永磁材料腐蚀机理与表面防护技术研究进展[j]，矿冶工程，2016，36(6)：118-124。[2]、 李风凌，姚士冰，周绍民，钯-镍合金电镀的研究进展[j]，电镀与环保，1997，17(5)：5-7。
技术实现思路
1、为了解决钕铁硼滚镀金耐蚀性较差和成本较高的问题，本实用新型提供了一种钕铁硼永磁材料滚镀钯钢的镀层结构。为了达到上述目的本实用新型采用如下技术方案：
2、一种钕铁硼永磁材料滚镀钯钢的镀层结构，其特征在于：包括钕铁硼基体、和在所述钕铁硼基体上从内到外依次制备的柠檬酸盐预镀镍层、聚合硫氰酸盐镀铜层、光亮镀镍层、及钯钢镀层；
3、所述聚合硫氰酸盐镀铜层的厚度为3～11μm；
4、所述钯钢镀层的厚度为0.5～2μm。
5、优选的，所述柠檬酸盐预镀镍层的厚度为3～9μm。
6、优选的，所述光亮镀镍层的厚度为8～18μm。
7、聚合硫氰酸盐镀铜溶液的碱性较强，其ph在12～13范围内，对钕铁硼基体腐蚀性较大，因此，不能在钕铁硼基体上直接进行聚合硫氰酸盐镀铜。本技术方案在钕铁硼基体上先制备柠檬酸盐预镀镍层，再制备聚合硫氰酸盐镀铜层，然后制备光亮镀镍层。镀铜层的电极电位比镀镍层高得多，因此，这种镀层结构能有效阻止腐蚀介质向基体方向的侵蚀。
8、与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：
9、1、本实用新型公开的钕铁硼永磁材料滚镀钯钢的镀层结构，克服了传统工艺在钕铁硼基体表面氰化滚镀铜带来的污染问题；
10、2、本实用新型公开的钕铁硼永磁材料滚镀钯钢的镀层结构，与镀金相比电镀成本相对较低。
1.一种钕铁硼永磁材料滚镀钯钢的镀层结构，其特征在于：包括钕铁硼基体、和在所述钕铁硼基体上从内到外依次制备的柠檬酸盐预镀镍层、聚合硫氰酸盐镀铜层、光亮镀镍层、及钯钢镀层；
2.如权利要求1所述的钕铁硼永磁材料滚镀钯钢的镀层结构，其特征在于：所述柠檬酸盐预镀镍层的厚度为3～9μm。
3.如权利要求1所述的钕铁硼永磁材料滚镀钯钢的镀层结构，其特征在于：所述光亮镀镍层的厚度为8～18μm。
