本技术涉及微米颗粒清洗，尤其涉及一种防堵的流砂清洗槽。
背景技术：
1、银粉的粒径从纳米级到微米级不等，纳米银粉在制作导电线路时，不容易氧化、导电性特别好、膨胀率低，而且不需要外加保护层，并且电子产品边框越来越窄，要求导电线路越来越细，纳米银粉因具有特异的量子尺寸效应和表面效应而表现出奇特的物理化学性能，使得其在催化、微电子、光电子和电导材料等领域应用广泛，银粉常用的制备方法有多种，包括热分解法、化学还原法、生物法、水热法、光化学法、模板法等，化学还原法由于其操作方便、设备简单、可控性好，是目前纳米银粉的主要制备方法，化学还原法是通过某种固定的硝酸银量、间剂量和还原剂量的搭配，生产出的一种形貌、大小以及分散性相同的银粉产品。
2、通过硝酸银量、还原剂量和间剂量反应得到的产物中，会含有大量没有反应完全的硝酸银量、还原剂量和间剂量，银粉制备过程中的原料均溶于水，可以使用去离子水进行清洗，然而现有的银粉清洗方法一般将反应结束后的产物进行反复的加水搅拌过滤，通过这种方法清洗银粉难以保证清洗质量，银粉容易在清洗过程中团聚，导致银粉产物颗粒不均匀，影响银粉性能，并且无法过滤产物中的杂质，从而影响银粉品质，造成经济损失。
技术实现思路
1、本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种防堵的流砂清洗槽。
2、为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
3、一种防堵的流砂清洗槽，包括清洗斜板，所述清洗斜板的顶部固定安装有清洗装置，所述清洗装置包括水箱，所述水箱一侧配合安装有第二水管，所述第二水管上配合安装有四个第三水管，所述水箱的底部配合安装有若干个第一水管，所述清洗斜板的底部卡合安装有回收槽，所述回收槽的顶部卡合安装有过滤网，所述清洗斜板的斜面固定安装有若干个左导流槽，所述清洗斜板的斜面固定安装有若干个右导流槽，所述清洗斜板的斜面固定安装有散流槽，所述散流槽上开设有多个水孔。
4、优选的，所述清洗斜板的顶部固定安装有原料仓，原料仓的底部配合安装有出料管。
5、优选的，所述清洗斜板的斜面上固定安装有左侧板，清洗斜板的斜面上固定安装有右侧板。
6、优选的，所述清洗斜板的底面固定安装有两个支撑架。
7、优选的，所述回收槽的一侧固定安装有三个固定块，清洗斜板的底部开设有三个固定孔。
8、优选的，所述过滤网的底部固定安装有四个固定块，回收槽的顶部开设有四个固定孔。
9、本实用新型具有以下有益效果：
10、1、通过流水冲洗反应产物，不需要多次加水搅拌，流动的水可以带走没有反应完全的原料，从而得到干净银粉，该防堵的流砂清洗槽使用简单，清洗效果好，得到的银粉颗粒大小均匀。
11、2、通过在回收槽顶部卡合安装过滤网，将原料中的杂质过滤在回收槽外，保证了银粉中没有杂质，得到的银粉质量更好。
1.一种防堵的流砂清洗槽，包括清洗斜板(1)，其特征在于:所述清洗斜板(1)的顶部固定安装有清洗装置(2)，所述清洗装置(2)包括水箱(201)，所述水箱(201)一侧配合安装有第二水管(203)，所述第二水管(203)上配合安装有四个第三水管(204)，所述水箱(201)的底部配合安装有若干个第一水管(202)，所述清洗斜板(1)的底部卡合安装有回收槽(7)，所述回收槽(7)的顶部卡合安装有过滤网(11)，所述清洗斜板(1)的斜面固定安装有若干个左导流槽(5)，所述清洗斜板(1)的斜面固定安装有若干个右导流槽(6)，所述清洗斜板(1)的斜面固定安装有散流槽(12)，所述散流槽(12)上开设有多个水孔。
2.根据权利要求1所述的一种防堵的流砂清洗槽，其特征在于：所述清洗斜板(1)的顶部固定安装有原料仓(3)，原料仓(3)的底部配合安装有出料管(4)。
3.根据权利要求1所述的一种防堵的流砂清洗槽，其特征在于：所述清洗斜板(1)的斜面上固定安装有左侧板(8)，清洗斜板(1)的斜面上固定安装有右侧板(9)。
4.根据权利要求1所述的一种防堵的流砂清洗槽，其特征在于：所述清洗斜板(1)的底面固定安装有两个支撑架(10)。
5.根据权利要求1所述的一种防堵的流砂清洗槽，其特征在于：所述回收槽(7)的一侧固定安装有三个固定块，清洗斜板(1)的底部开设有三个固定孔。
6.根据权利要求1所述的一种防堵的流砂清洗槽，其特征在于：所述过滤网(11)的底部固定安装有四个固定块，回收槽(7)的顶部开设有四个固定孔。
