本实用新型涉及电解铜箔生产技术领域，尤其涉及一种电解铜箔制备系统。
背景技术：
由于铜电解质中的电解副产物、污垢和添加剂会对铜电镀、铜电铸等工艺电解处理获得的电沉积物的物理性能和其他性能有很大影响。因此，在铜电解质中的这些不需要的电解副产物、污垢和添加剂需要分别通过过滤器过滤掉，由于现有技术中吸附添加剂的过滤器只有一套，因此一旦过滤器发生损坏或吸附性能下降需要更换时，需要停机，这样一来，便导致生产效率降低和制造成本增加。并且，传统工艺中采用硅藻土附载活性炭吸附有机物，利用滤袋、滤芯等拦截杂质污染物，但是由于硅藻土过滤器的涂覆特性，导致漏土、漏碳时常发生，活性炭粉和硅藻土反而成为硫酸铜溶液中杂质污染物的主要来源。同时，硅藻土过滤器还需要定期排渣，重新布土，耗时耗力。
技术实现要素：
本实用新型所要解决的技术问题在于克服现有技术的不足而提供一种电解铜箔制备系统，能够保证铜箔的生产质量和实现不停机生产，以此提高生产效率，降低生产成本，同时，提供一种结构可靠，维护便捷的电解铜箔制备系统。
为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：
一种电解铜箔制备系统，包括溶铜罐、低位槽、生箔机和净液罐，所述低位槽连接在所述溶铜罐的出液口和净液罐的进液口之间，所述净液罐的出液口与生箔机的进液口连通，所述生箔机的出液口与所述低位槽连通，所述电解铜箔制备系统还包括颗粒物过滤系统和添加剂吸附系统，所述颗粒物过滤系统连接在低位槽的出液口和添加剂吸附系统的进液口之间，所述添加剂吸附系统的出液口与净液罐连接，所述添加剂吸附系统包括至少两台并联设置的吸附过滤器，所述吸附过滤器的至少一端设有第一控制阀。
由于本实用新型中的添加剂吸附系统包括至少两台并联设置的吸附过滤器，且每台吸附过滤器的至少一端设有第一控制阀，因此可以根据净液罐中添加剂的加入量和生箔机生产的铜箔性能来调节添加剂吸附系统的吸附性能，即根据每台吸附过滤器的吸附性能，通过第一控制阀的开闭来控制整个添加剂吸附系统中使用的吸附过滤器的数量和每台吸附过滤器的流量，以此控制总的流量，使电解铜液中的添加剂经添加剂吸附系统吸附后达到合适的浓度，由此保证了铜箔的生产质量；此外，若其中一台吸附过滤器需要更换时，可以通过剩余吸附过滤器进行吸附，实现了不停机生产，由此提高了生产效率，降低生产成本；最后，将颗粒物过滤系统和添加剂吸附系统分离，可分别增强过滤和吸附的性能。
进一步的，所述吸附过滤器为活性炭过滤器。如此设计，可以提高吸附效率，且成本更低。
更进一步的，所述添加剂吸附系统包括4台并联设置的所述活性炭过滤器。如此设计，能够在使用过程中采用2开1调节1备用的方案，以此提高添加剂吸附系统的使用灵活性。
进一步的，所述添加剂吸附系统还包括进液总管和出液总管，至少两台所述吸附过滤器并联在所述进液总管和出液总管之间，所述进液总管的一端封闭，另一端与所述颗粒物过滤系统连接；所述出液总管的一端封闭，另一端与所述净液罐连接。如此设计，能够减少管路的接入长度，以使整个电解铜箔制备系统更加紧凑；同时也降低了进液总管和出液总管的加工难度。
进一步的，所述颗粒物过滤系统包括用于过滤大颗粒物质的一级颗粒物过滤系统和用于过滤小颗粒物质的二级颗粒物过滤系统，所述一级颗粒物颗粒系统的出液口与所述二级颗粒物过滤系统的进液口连接。如此设计，可分别提高对大颗粒物质和小颗粒物质的过滤效果。
更进一步的，所述一级颗粒物过滤系统包括至少2台并联设置的第一过滤器，所述二级颗粒物过滤系统包括至少2台并联设置的第二过滤器，所述第一过滤器的至少一端和第二过滤器的至少一端分别设有第二控制阀。如此设计，能够实现在其中一台第一过滤器或第二过滤器需要更换时，实现不停机生产，以此提高生产效率，降低生产成本；其次，还可通过调节第二控制阀的阀口开度来控制颗粒物过滤系统的液体流量，以调节过滤效果。
更进一步的，所述第一过滤器包括过滤孔径介于5um~10um的pp棉滤芯或硅藻土滤芯，所述第二过滤器包括过滤孔径介于3um~5um的pp棉滤芯或硅藻土滤芯。
进一步的，所述添加剂吸附系统与所述净液罐的进液口之间还设有三级颗粒物过滤系统，所述三级颗粒物过滤系统包括至少2台并联设置的第三过滤器，所述第三过滤器的至少一端设有第三控制阀。如此设计，能够进一步提高硫酸铜溶液清洁度，防止颗粒进入净液罐；其次，还可通过调节第三控制阀的阀口开度来控制三级颗粒物过滤系统的液体流量，以调节过滤效果。
更进一步的，所述第三过滤器包括过滤孔径为1um的pp棉滤芯或硅藻土滤芯。
进一步的，所述净液罐的出液口与生箔机之间还设有至少两台并联设置的精密过滤器，所述精密过滤器的至少一端设有第四控制阀。如此设计，能确保进入生箔机的硫酸铜溶液的绝对洁净，同时也能在其中一台精密过滤器需要更换时，实现不停机生产，以此提高生产效率，降低生产成本。
本实用新型的这些特点和优点将会在下面的具体实施方式、附图中详细的揭露。
【附图说明】
下面结合附图对本实用新型做进一步的说明：
图1为本实用新型优选实施例中电解铜箔制备系统的结构示意图。
【具体实施方式】
本实用新型提供了一种电解铜箔制备系统，包括溶铜罐、低位槽、生箔机和净液罐，所述低位槽连接在所述溶铜罐的出液口和净液罐的进液口之间，所述净液罐的出液口与生箔机的进液口连通，所述生箔机的出液口与所述低位槽连通，所述电解铜箔制备系统还包括颗粒物过滤系统和添加剂吸附系统，所述颗粒物过滤系统连接在低位槽的出液口和添加剂吸附系统的进液口之间，所述添加剂吸附系统的出液口与净液罐连接，所述添加剂吸附系统包括至少两台并联设置的吸附过滤器，所述吸附过滤器的至少一端设有第一控制阀。
由于本实用新型中的添加剂吸附系统包括至少两台并联设置的吸附过滤器，且每台吸附过滤器的至少一端设有第一控制阀，因此可以根据净液罐中添加剂的加入量和生箔机生产的铜箔性能来调节添加剂吸附系统的吸附性能，即根据每台吸附过滤器的吸附性能，通过第一控制阀的开闭来控制整个添加剂吸附系统中使用的吸附过滤器的数量和每台吸附过滤器的流量，以此控制总的流量，使电解铜液中的添加剂经添加剂吸附系统吸附后达到合适的浓度，由此保证了铜箔的生产质量；此外，若其中一台吸附过滤器需要更换时，可以通过剩余吸附过滤器进行吸附，实现了不停机生产，由此提高了生产效率，降低生产成本；最后，将颗粒物过滤系统和添加剂吸附系统分离，可分别增强过滤和吸附的性能。
下面结合本实用新型实施例的附图对本实用新型实施例的技术方案进行解释和说明，但下述实施例仅为本实用新型的优选实施例，并非全部。基于实施方式中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得其他实施例，都属于本实用新型的保护范围。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确的限定。
在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
参照图1所示，本优选实施例中的电解铜箔制备系统，包括溶铜罐100、低位槽200、生箔机300和净液罐400，低位槽200连接在溶铜罐100的出液口和净液罐400的进液口之间，净液罐400的出液口与生箔机300的进液口连通，生箔机300的出液口与低位槽200连通，本实施例中电解铜箔制备系统还包括颗粒物过滤系统500和添加剂吸附系统600，颗粒物过滤系统500连接在低位槽200的出液口和添加剂吸附系统600的进液口之间，添加剂吸附系统600的出液口与净液罐400连接，添加剂吸附系统600包括至少两台并联设置的吸附过滤器610，每台吸附过滤器610的至少一端设有第一控制阀620。
生产电解铜箔时，需要向净液罐400中加入添加剂来控制电沉积铜的物理性能，添加剂在生箔机300内会产生分解产物，分解产物回流至低位槽200与电解铜溶液混合，由于分解产物大量留在电解质中时，会影响电沉积铜的物理性能，因此需要经过添加剂吸附系统600过滤掉一部分，以保证在后续净液罐400中加入的添加剂后，电解铜液中添加剂的浓度为合理的数值。
因此本实施例的电解铜箔制备系统可以根据净液罐400中添加剂的加入量和生箔机生产的铜箔性能来调节添加剂吸附系统600的吸附性能，即根据每台吸附过滤器610的吸附性能，通过第一控制阀620的开闭和阀口的开度来控制整个添加剂吸附系统600中使用的吸附过滤器610的数量和每台吸附过滤器610的流量，以此控制添加剂吸附系统600总的液体流量，使电解铜液中的添加剂经添加剂吸附系统600吸附后达到合适的浓度，由此保证了铜箔的生产质量；此外，若其中一台吸附过滤器610需要更换时，可以通过剩余吸附过滤器610进行吸附，实现了不停机生产，由此提高了生产效率，降低生产成本；最后，将颗粒物过滤系统500和添加剂吸附系统600分离，可分别增强过滤和吸附的性能。
具体的，本实施例中的吸附过滤器610为活性炭过滤器。如此设计，可以提高吸附效率，且成本更低。添加剂吸附系统600包括4台并联设置的活性炭过滤器，每台吸附过滤器610的两端分别设有一个第一控制阀620，在使用过程中采用2开1调节1备用的方案，以此提高添加剂吸附系统的使用灵活性。具体的：生产时，开启2台吸附过滤器610，可以使用1个月，当该两台吸附过滤器610的吸附性能下降时开启第三台吸附过滤器610，第三台吸附过滤器610的具体调节流量根据后端生箔机300生产出的铜箔性能来调节：如果第三台吸附过滤器610的吸附性能下降，导致有效添加剂的浓度偏大，则增大第三台吸附过滤器610的流量来加大吸附量，即增大第三台吸附过滤器610上第一控制阀620阀口的开度；如果第三台吸附过滤器610的吸附性能过强，导致有效添加剂的浓度偏少，则减小第三台吸附过滤器610的流量来减小吸附量，即减少第三台吸附过滤器610上第一控制阀620阀口的开度。
本实施例中的添加剂吸附系统600还包括进液总管630和出液总管640，4台吸附过滤器610并联在进液总管630和出液总管640之间，进液总管630的一端封闭，另一端与颗粒物过滤系统500的出液口连接，出液总管640的一端封闭，另一端与净液罐400的进液口连接。如此设计，能够减少管路的接入长度，以使整个电解铜箔制备系统更加紧凑；同时也降低了进液总管630和出液总管640的加工难度。
此外，本实施例中颗粒物过滤系统500包括用于过滤大颗粒物质的一级颗粒物过滤系统和用于过滤小颗粒物质的二级颗粒物过滤系统，一级颗粒物颗粒系统的出液口与二级颗粒物过滤系统的进液口连接。如此设计，可分别提高对大颗粒物质和小颗粒物质的过滤效果。
其中，一级颗粒物过滤系统包括至少2台并联设置的第一过滤器510，二级颗粒物过滤系统包括至少2台并联设置的第二过滤器520，第一过滤器510的至少一端和第二过滤器520的至少一端分别设有第二控制阀530。优选的，本实施例中一级颗粒物过滤系统包括3台并联设置的第一过滤器510，每台第一过滤器510的两端分别设有一个第二控制阀530，二级颗粒物过滤系统包括3台并联设置的第二过滤器520，每台第二过滤器520的两端分别设有一个第二控制阀530，这样一来，在其中一台第一过滤器510或第二过滤器520需要更换时，可以实现不停机生产，以此提高生产效率，降低生产成本；其次，还可通过调节第二控制阀520的阀口开度来控制颗粒物过滤系统500的液体流量，以调节过滤效果。
优选的，本实施例中第一过滤器510包括过滤孔径介于5um~10um的pp棉滤芯或硅藻土滤芯，以过滤掉电解铜溶液中5um~10um以上的大颗粒物质，第二过滤器520包括过滤孔径介于3um~5um的pp棉滤芯或硅藻土滤芯，以过滤掉电解铜溶液中3um~5um以上的大颗粒物质，从而保护后面的活性炭过滤器中的活性炭滤芯。
可以理解的是，在本实用新型的其他实施例中，颗粒物过滤系统还可只包括上述一级颗粒物过滤系统或二级颗粒物过滤系统。
为了能够进一步提高硫酸铜溶液清洁度，防止活性炭颗粒进入净液罐400，本实施例中添加剂吸附系统600与净液罐400的进液口之间还设有三级颗粒物过滤系统700，三级颗粒物过滤系统700包括至少2台并联设置的第三过滤器710，每台第三过滤器710的至少一端设有第三控制阀720。优选三级颗粒物过滤系统包括3台并联设置的第三过滤器710，每台第三过滤器710的两端分别设有一个第三控制阀720，如此设计，在其中一台第三过滤器710需要更换时，可以实现不停机生产，以此提高生产效率，降低生产成本；其次，还可通过调节第三控制阀720的阀口开度来控制三级颗粒物过滤系统700的液体流量，以调节过滤效果。
优选的，本实施例中第三过滤器710包括过滤孔径为1um的pp棉滤芯或硅藻土滤芯。如此设计，能够过滤掉电解铜溶液中1um以上的大颗粒物质,以保证进入净液罐400中电解铜液的清洁度。
最后，本实施例中净液罐400的出液口与生箔机300之间还设有至少两台并联设置的精密过滤器800，精密过滤器800的至少一端设有第四控制阀900。优选的，净液罐400的出液口与生箔机300之间还设有3两台并联设置的精密过滤器800，精密过滤器800的两端分别设有一个第四控制阀900，且精密过滤器800采用0.5um大流量滤芯或者0.5um绝对过滤精度滤芯。如此一来，能确保进入生箔机300的硫酸铜溶液的绝对洁净，同时也能在其中一台精密过滤器800需要更换时，实现不停机生产，以此提高生产效率，降低生产成本。
以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，熟悉该本领域的技术人员应该明白本实用新型包括但不限于附图和上面具体实施方式中描述的内容。任何不偏离本实用新型的功能和结构原理的修改都将包括在权利要求书的范围中。
1.一种电解铜箔制备系统，包括溶铜罐、低位槽、生箔机和净液罐，所述低位槽连接在所述溶铜罐的出液口和净液罐的进液口之间，所述净液罐出液口与生箔机的进液口连通，所述生箔机的出液口与所述低位槽连通，其特征在于，所述电解铜箔制备系统还包括颗粒物过滤系统和添加剂吸附系统，所述颗粒物过滤系统连接在低位槽的出液口和添加剂吸附系统的进液口之间，所述添加剂吸附系统的出液口与净液罐连接，所述添加剂吸附系统包括至少两台并联设置的吸附过滤器，所述吸附过滤器的至少一端设有第一控制阀。
2.如权利要求1所述的电解铜箔制备系统，其特征在于，所述吸附过滤器为活性炭过滤器。
3.如权利要求2所述的电解铜箔制备系统，其特征在于，所述添加剂吸附系统包括4台并联设置的所述活性炭过滤器。
4.如权利要求1所述的电解铜箔制备系统，其特征在于，所述添加剂吸附系统还包括进液总管和出液总管，至少两台所述吸附过滤器并联在所述进液总管和出液总管之间，所述进液总管的一端封闭，另一端与所述颗粒物过滤系统连接；所述出液总管的一端封闭，另一端与所述净液罐连接。
5.如权利要求1所述的电解铜箔制备系统，其特征在于，所述颗粒物过滤系统包括用于过滤大颗粒物质的一级颗粒物过滤系统和用于过滤小颗粒物质的二级颗粒物过滤系统，所述一级颗粒物颗粒系统的出液口与所述二级颗粒物过滤系统的进液口连接。
6.如权利要求5所述的电解铜箔制备系统，其特征在于，所述一级颗粒物过滤系统包括至少2台并联设置的第一过滤器，所述二级颗粒物过滤系统包括至少2台并联设置的第二过滤器，所述第一过滤器的至少一端和第二过滤器的至少一端分别设有第二控制阀。
7.如权利要求6所述的电解铜箔制备系统，其特征在于，所述第一过滤器包括过滤孔径介于5um~10um的pp棉滤芯或硅藻土滤芯，所述第二过滤器包括过滤孔径介于3um~5um的pp棉滤芯或硅藻土滤芯。
8.如权利要求1至7之一所述的电解铜箔制备系统，其特征在于，所述添加剂吸附系统与所述净液罐的进液口之间还设有三级颗粒物过滤系统，所述三级颗粒物过滤系统包括至少2台并联设置的第三过滤器，所述第三过滤器的至少一端设有第三控制阀。
9.如权利要求8所述的电解铜箔制备系统，其特征在于，所述第三过滤器包括过滤孔径为1um的pp棉滤芯或硅藻土滤芯。
10.如权利要求1至7之一所述的电解铜箔制备系统，其特征在于，所述净液罐的出液口与生箔机之间还设有至少两台并联设置的精密过滤器，所述精密过滤器的至少一端设有第四控制阀。
技术总结