本技术涉及扩散膜，特别涉及一种扩散膜和光学模组。
背景技术：
1、相关技术中，扩散膜主要包括层叠设置的芯层、扩散层等多种结构，并能够通过对熔融导电母料、扩散膜母料进行挤压拉伸成型的方式制备成型。如此设置，扩散膜的结构较为复杂，且工艺难度较高。
技术实现思路
1、本实用新型的主要目的是提供一种扩散膜和光学模组，旨在提供一种生产难度低的扩散膜。
2、为实现上述目的，本实用新型提出的一种扩散膜，包括：
3、基材层；
4、第一扩散层，所述第一扩散层设于所述基材层的一侧表面；以及
5、第二扩散层，所述第二扩散层设于所述基材层背离所述第一扩散层的一侧表面；
6、所述第一扩散层和所述第二扩散层的至少其一设有抗静电涂层。
7、可选地，所述第一扩散层包括：
8、第一扩散结构，所述第一扩散结构设于所述基材层的一侧；和
9、第一抗静电结构，所述第一抗静电结构设于所述第一扩散结构的一侧表面，用于形成所述抗静电涂层。
10、可选地，所述第一扩散结构涂布于所述基材层，所述第一抗静电结构涂布于所述第一扩散结构背离所述基材层的一侧；
11、和/或，所述第一抗静电结构涂布于所述基材层朝向所述第一扩散结构的一侧，所述第一扩散结构涂布于所述第一抗静电结构背离所述基材层的一侧。
12、可选地，所述第一扩散结构中嵌设有若干第一透明折射粒子，所述第一透明折射粒子的粒径范围为0.1μm～20μm。
13、可选地，第一扩散结构的材质包括白浆。
14、可选地，所述第二扩散层包括：
15、第二扩散结构，所述第二扩散结构设于所述基材层的一侧；和
16、第二抗静电结构，所述第二抗静电结构设于所述第二扩散结构的一侧表面，用于形成所述抗静电涂层。
17、可选地，所述第二扩散结构涂布于所述基材层，所述第二抗静电结构涂布于所述第二扩散结构背离所述基材层的一侧；
18、和/或，所述第二抗静电结构涂布于所述基材层朝向所述第二扩散结构的一侧，所述第二扩散结构涂布于所述第二抗静电结构背离所述基材层的一侧。
19、可选地，所述第二扩散结构中嵌设有若干第二透明折射粒子，所述第二透明折射粒子的粒径范围为0.1μm～15μm。
20、可选地，所述抗静电涂层的材质为季铵盐基甲基丙烯酰亚胺共聚物、丙烯酸甲酯共聚物、咪唑啉金属盐、抗静电聚噻吩中的至少一种。
21、本实用新型还提出一种光学模组，包括前述任意一项所述的扩散膜，所述扩散膜包括：
22、基材层；
23、第一扩散层，所述第一扩散层设于所述基材层的一侧表面；以及
24、第二扩散层，所述第二扩散层设于所述基材层背离所述第一扩散层的一侧表面；
25、所述第一扩散层和所述第二扩散层的至少其一设有抗静电涂层。
26、本实用新型的技术方案，扩散膜由基材层、第一扩散层以及第二扩散层层叠构成，且第一扩散层和第二扩散层分设于基材层的相对两侧表面。其中，第一扩散层和第二扩散层均可以通过涂布于基材层的方式制备成型。并且，第一扩散层和第二扩散层的至少其中之一设置有抗静电涂层，以使扩散膜能够具有良好的抗静电性能。通过涂布的方式制备扩散膜，可以降低扩散膜的生产难度。
1.一种扩散膜，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的扩散膜，其特征在于，所述第一扩散层包括：
3.如权利要求2所述的扩散膜，其特征在于，所述第一扩散结构涂布于所述基材层的一侧，所述第一抗静电结构涂布于所述第一扩散结构背离所述基材层的一侧；
4.如权利要求2所述的扩散膜，其特征在于，第一扩散结构的材质包括白浆。
5.如权利要求2所述的扩散膜，其特征在于，所述第一扩散结构中嵌设有若干第一透明折射粒子，所述第一透明折射粒子的粒径范围为0.1μm～20μm。
6.如权利要求1至5任一项所述的扩散膜，其特征在于，所述第二扩散层包括：
7.如权利要求6所述的扩散膜，其特征在于，所述第二扩散结构涂布于所述基材层，所述第二抗静电结构涂布于所述第二扩散结构背离所述基材层的一侧；
8.如权利要求6所述的扩散膜，其特征在于，所述第二扩散结构中嵌设有若干第二透明折射粒子，所述第二透明折射粒子的粒径范围为0.1μm～15μm。
9.如权利要求1至5任一项所述的扩散膜，其特征在于，所述抗静电涂层的材质为季铵盐基甲基丙烯酰亚胺共聚物、丙烯酸甲酯共聚物、咪唑啉金属盐或抗静电聚噻吩。
10.一种光学模组，其特征在于，包括如权利要求1至9任一项中所述的扩散膜。
