金属板、金属板的制造方法、掩模、掩模装置以及掩模的制造方法与流程

    技术2026-01-29  7


    本公开的实施方式涉及金属板、金属板的制造方法、掩模、掩模装置以及掩模的制造方法。


    背景技术:

    1、有机el显示装置等有机器件受到关注。作为形成有机器件的元件的方法,已知有通过蒸镀使构成元件的材料附着于基板的方法。例如,首先,准备以与元件对应的图案形成有第1电极的基板。接着,经由掩模的贯通孔使有机材料附着在第1电极上,在第1电极上形成有机层。接着,在有机层上形成第2电极。

    2、作为掩模的制造方法,已知有对金属板进行蚀刻而形成贯通孔的方法。制造方法例如具备:在金属板的第1面形成第1抗蚀剂图案、且在金属板的第2面形成第2抗蚀剂图案的工序;通过对金属板的第1面进行蚀刻而在第1面形成多个第1凹部的第1蚀刻工序;对第1凹部填充树脂的工序;以及通过对金属板的第2面进行蚀刻而在第2面形成多个第2凹部的第2蚀刻工序。通过使第2凹部与第1凹部连接,由此形成贯通金属板的贯通孔。

    3、如果抗蚀剂图案的尺寸的精度低,则贯通孔的尺寸的精度也变低。例如,若在抗蚀剂图案产生散乱边纹,则贯通孔的尺寸的精度降低。散乱边纹是指朝向抗蚀剂图案的开口的中心突出的抗蚀剂图案的一部分。

    4、现有技术文献

    5、专利文献

    6、专利文献1:日本特开2000-178765号公报

    7、专利文献2:国际公开2019/098168号

    8、专利文献3:国际公开2017/014172号

    9、专利文献4:国际公开2017/013904号


    技术实现思路

    1、发明所要解决的课题

    2、本公开的一个实施方式的目的在于抑制抗蚀剂图案中的散乱边纹的产生。

    3、用于解决课题的手段

    4、本公开的一个实施方式的用于制造掩模的金属板可以具备这样的表面,所述表面具有所述金属板的长度方向和与所述长度方向正交的宽度方向。所述表面可以具有第1反射率、第2反射率、第3反射率以及第4反射率。所述第1反射率是具有第1出射角度的第1反射光的反射率。所述第3反射率是具有第3出射角度的所述第1反射光的反射率。所述第1反射光是在俯视时在所述宽度方向上行进并以第1特定入射角度入射至所述表面的第1入射光被所述表面反射而成的光。所述第1出射角度是所述第1反射光显示出最大强度的出射角度。所述第3出射角度是相对于所述第1出射角度相差第1偏差角度的量的出射角度。所述第2反射率是具有第2出射角度的第2反射光的反射率。所述第4反射率是具有第4出射角度的所述第2反射光的反射率。所述第2反射光是在俯视时在所述长度方向上行进并以第2特定入射角度入射至所述表面的第2入射光被所述表面反射而成的光。所述第2出射角度是所述第2反射光显示出最大强度的出射角度。所述第4出射角度是相对于所述第2出射角度相差第2偏差角度的量的出射角度。也可以是,所述第1特定入射角度和所述第2特定入射角度为20°。也可以是,所述第3反射率与所述第1反射率的比率即第1比率为0.40以下。也可以是,所述第4反射率与所述第2反射率的比率即第2比率为0.40以下。

    5、发明的效果

    6、根据本公开的一个实施方式,能够抑制抗蚀剂图案中的散乱边纹的产生。



    技术特征:

    1.一种金属板,其用于制造掩模,其中,

    2.根据权利要求1所述的金属板,其中,

    3.根据权利要求1所述的金属板,其中,

    4.根据权利要求1~3中的任意一项所述的金属板,其中,

    5.根据权利要求1~3中的任意一项所述的金属板,其中,

    6.根据权利要求1~3中的任意一项所述的金属板,其中,

    7.根据权利要求1~3中的任意一项所述的金属板,其中,

    8.根据权利要求1~3中的任意一项所述的金属板,其中,

    9.根据权利要求8所述的金属板,其中,

    10.根据权利要求1~3中的任意一项所述的金属板,其中,

    11.一种金属板的检查方法,所述金属板用于制造掩模,其中,

    12.一种金属板的制造方法,所述金属板用于制造掩模,其中,

    13.一种掩模,其中,

    14.根据权利要求13所述的掩模,其中,

    15.根据权利要求14所述的掩模,其中,

    16.一种掩模装置,其中,

    17.一种掩模的制造方法,其中,

    18.根据权利要求17所述的掩模的制造方法,其中,

    19.根据权利要求18所述的掩模的制造方法,其中,


    技术总结
    本发明提供金属板、金属板的制造方法、掩模、掩模装置以及掩模的制造方法。用于制造掩模的金属板的表面可以具有第1反射率、第2反射率、第3反射率以及第4反射率。第1反射率是具有第1出射角度的第1反射光的反射率。第3反射率是具有第3出射角度的第1反射光的反射率。第1出射角度是第1反射光显示出最大强度的出射角度。第3出射角度是相对于第1出射角度相差第1偏差角度的量的出射角度。第2反射率是具有第2出射角度的第2反射光的反射率。第4反射率是具有第4出射角度的第2反射光的反射率。第2出射角度是第2反射光显示出最大强度的出射角度。第4出射角度是相对于第2出射角度相差第2偏差角度的量的出射角度。第3反射率与第1反射率的比率即第1比率可以为0.40以下。第4反射率与第2反射率的比率即第2比率可以为0.40以下。

    技术研发人员:初田千秋,中村阳子,井上功,矢野宏志,宫谷勋
    受保护的技术使用者:大日本印刷株式会社
    技术研发日:
    技术公布日:2024/10/24
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