领域本公开内容的实施方式总体涉及用于处理一个或多个基板的设备、系统和方法，并且更特定地涉及用于执行光刻工艺的设备、系统和方法。更特定地，本公开内容的实施方式涉及用于在处理期间解决基板中的场不均匀性的改进的设备、系统和方法。相关技术的说明光刻广泛使用于制造半导体装置和显示器装置，例如液晶显示器(lcd)。大面积基板通常用于制造lcd。lcd或平板通常使用于有源矩阵显示器，例如计算机、触摸面板装置、个人数字助理(pda)、手机、电视监视器和类似物。通常，平板包含一层液晶材料，所述液晶材料形成夹在两个板之间的像素。当跨液晶材料施加来自电源的功率时，在像素位置处控制穿过液晶材料的光量，使得能够产生图像。已经采用微光刻技术来产生作为形成像素的液晶材料层的部分而并入的电性特征。根据这些技术，将光敏光刻胶施加至基板的至少一个表面。随后，图案产生器将光敏光刻胶的选定区域作为图案的部分曝光，以使选择区域中的光刻胶发生化学变化，从而为随后的材料移除和/或材料添加工艺准备这些选择区域，以产生电性特征。为了继续以消费者所要求的价格提供显示装置和其他装置，需要新的设备和方法来精确且成本有效地在例如大面积基板的基板上产生图案。
背景技术：
0、背景
技术实现思路
0、概述
1、本公开内容的实施方式总体提供使用例如数字微镜装置(dmd)的空间光调制器的改进的光刻系统和方法。在一个实施方式中，公开一种dmd装置。dmd包括与基板相对设置的微镜的列。光束从微镜反射至基板上，产生图案化基板。微镜的列的某些子集可定位至“关闭”位置，使得这些子集废弃(dump)光，以便校正均匀性误差，即，在图案化基板中累积的曝光。类似地，微镜的列的某些子集可默认为“开启”位置并且选择性地允许这些子集返回到它们的编程位置，以便校正图案化基板中的均匀性误差，即，曝光不足的区域。
2、在一个实施方式中，公开一种用于使用dmd来使基板图案化的方法。在dmd扫描基板之后，评估基板的均匀性误差。如果找到过度曝光的区域，则将dmd的列的子集设定为“关闭”位置，使得光束被反射至光废弃器(light dump)而不到图案化基板。结果是在基板的指定区域中图案的衰减(attenuation)。
3、在另一实施方式中，公开另一用于使用dmd来使基板图案化的方法。在dmd扫描基板之前，dmd的微镜的列的子集被设定为“关闭”位置，用作预备。在dmd扫描基板之后，评估基板的均匀性误差。如果找到曝光不足区域，启用预备的列的子集，使得微镜被定位为编程的。结果是在基板的指定区域中辅助图案(即，曝光数量增加)。
1.一种用于使用数字微镜装置图案化基板的方法，其中所述数字微镜装置包括排列成复数个列和复数个行的微镜的阵列，所述方法包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的方法，其中所述识别所述基板的所述不均匀区域的步骤包括以下步骤：定位所述基板与期望的图案之间的差异区域，所述差异区域包括比所述期望的图案的一个或多个特征大的所述基板的一个或多个特征。
3.如权利要求1所述的方法，其中所述指定所述至少一个微镜以用于衰减的步骤包括以下步骤：选择对应于所述基板的所述不均匀区域的所述至少一个微镜；并且所述方法进一步包括在关闭所述至少一个微镜之后使用所述数字微镜装置扫描另外的基板。
4.如权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述至少一个微镜包含微镜的所述复数个列的所指定的子集，所述方法进一步包括以下步骤：
5.一种用于使用数字微镜装置图案化基板的方法，其中所述数字微镜装置包括排列成复数个列和复数个行的微镜的阵列，所述方法包括以下步骤：
6.如权利要求5所述的方法，其中所述至少一个微镜包含微镜的所述复数个列的所指定的子集。
7.一种用于使用数字微镜装置图案化基板的方法，其中所述数字微镜装置包括排列成复数个列和复数个行的微镜的阵列，所述方法包括以下步骤：
8.如权利要求7所述的方法，其中通过将所述数字微镜装置的微镜总数量除以所述数字微镜装置的单一扫描中的曝光的总数量来确定所述距离w的所述移动。
9.如权利要求7所述的方法，其中所述至少一个微镜包含微镜的所述复数个列的子集，并且其中所指定的所述子集中的列的数量等于所述距离w中的列的数量下舍至最接近的整数。
10.如权利要求9所述的方法，其中通过将所述数字微镜装置的列的总数量除以所述数字微镜装置的单一扫描中的曝光的总数量来确定所述距离w的所述移动。
11.一种用于使用数字微镜装置图案化基板的方法，其中所述数字微镜装置包括排列成复数个列和复数个行的微镜的阵列，所述方法包括以下步骤：
12.如权利要求11所述的方法，其中所述识别所述基板的所述不均匀区域的步骤包括以下步骤：定位所述基板与期望的图案之间的差异区域，所述差异区域包括比所述期望的图案的一个或多个特征小的所述基板的一个或多个特征。
13.如权利要求11所述的方法，其中所述指定所述至少一个微镜以用于辅助的步骤包括以下步骤：选择对应于所述基板的所述不均匀区域的所述至少一个微镜；并且所述方法进一步包括在开启所指定的所述至少一个微镜之后使用所述数字微镜装置扫描另外的基板。
14.如权利要求11-13中任一项所述的方法，其中在所述扫描期间关闭的所述至少一个微镜包含微镜的所述复数个列的子集，并且微镜的所述复数个列的所指定用于辅助的所述子集包含的列少于在所述扫描期间关闭的所述复数个列的所述子集中的所有列。
15.一种用于使用数字微镜装置图案化基板的方法，其中所述数字微镜装置包括排列成复数个列和复数个行的微镜的阵列，所述方法包括以下步骤：
16.如权利要求15所述的方法，其中在所述扫描期间关闭的所述至少一个微镜包含微镜的所述复数个列的子集，并且微镜的所述复数个列的所指定用于辅助的所述子集包含的列少于在所述扫描期间关闭的所述复数个列的所述子集中的所有列。
17.一种用于使用数字微镜装置图案化基板的方法，其中所述数字微镜装置包括排列成复数个列和复数个行的微镜的阵列，所述方法包括以下步骤：
18.如权利要求17所述的方法，其中通过将所述数字微镜装置的微镜总数量除以所述数字微镜装置的单一扫描中的曝光的总数量来确定所述距离w的所述位移。
19.如权利要求17所述的方法，其中在所述扫描期间关闭的所述至少一个微镜包含微镜的所述复数个列的子集，并且微镜的所述复数个列的所指定用于辅助的所述子集包含的列少于在所述扫描期间关闭的所述复数个列的所述子集中的所有列。
20.如权利要求19所述的方法，其中所指定的所述子集中的列的数量等于所述距离w中的列的数量下舍至最接近的整数。
21.如权利要求20所述的方法，其中通过将所述数字微镜装置的列的总数量除以所述数字微镜装置的单一扫描中的曝光的总数量来确定所述距离w的所述移动。
22.一种非暂时性计算机可读介质，所述非暂时性计算机可读介质具有指令，所述指令经配置以引起系统：
23.如权利要求22所述的非暂时性计算机可读介质，其中所述识别所述基板的所述不均匀区域的步骤包括以下步骤：定位所述基板与期望的图案之间的差异区域，所述差异区域包括比所述期望的图案的一个或多个特征大的所述基板的一个或多个特征；并且所述指定所述复数个微镜的所述子集以用于衰减的步骤包括以下步骤：选择对应于所述基板的所述不均匀区域的所述微镜的所述子集；其中所述指令进一步经配置以引起所述系统在关闭所指定的所述子集之后使用所述数字微镜装置扫描另外的基板。
24.一种非暂时性计算机可读介质，所述非暂时性计算机可读介质具有指令，所述指令经配置以引起系统：
25.如权利要求22-24中任一项所述的非暂时性计算机可读介质，其中所述至少一个微镜包含微镜的所述复数个列的所指定的子集，所述指令进一步经配置以引起所述系统：
26.一种非暂时性计算机可读介质，所述非暂时性计算机可读介质具有指令，所述指令经配置以引起系统：
27.如权利要求26所述的非暂时性计算机可读介质，其中通过将所述数字微镜装置的微镜总数量除以所述数字微镜装置的单一扫描中的曝光的总数量来确定所述距离w的所述移动。
28.如权利要求26所述的非暂时性计算机可读介质，其中所述至少一个微镜包含微镜的所述复数个列的子集，并且其中所述子集中的列的数量等于所述距离w中的列的数量下舍至最接近的整数。
29.如权利要求28所述的非暂时性计算机可读介质，其中通过将所述数字微镜装置的列的总数量除以所述数字微镜装置的单一扫描中的曝光的总数量来确定所述距离w的所述移动。
30.一种用于使用空间光调制器图案化基板的方法，其中所述空间光调制器包括复数个光发射器，所述方法包括以下步骤：
31.如权利要求30所述的方法，其中所述复数个光发射器包括光发射器的复数个行和光发射器的复数个列，并且所指定的所述子集包括以下的一者或多者：光发射器的所述复数个行的子集、或光发射器的所述复数个列的子集。
32.如权利要求30所述的方法，其中所述识别所述基板的所述不均匀区域的步骤包括以下步骤：定位所述基板与期望的图案之间的差异区域，所述差异区域包括比所述期望的图案的一个或多个特征大或比所述期望的图案的一个或多个特征小的所述基板的一个或多个特征，如果所述基板的所述一个或多个特征比所述期望的图案的所述一个或多个特征大则所述子集被指定用于衰减，并且如果所述基板的所述一个或多个特征比所述期望的图案的所述一个或多个特征小则所述子集被指定用于辅助。
33.如权利要求30所述的方法，其中所述指定所述子集以用于衰减或辅助的步骤包括以下步骤：选择对应于所述基板的所述不均匀区域的至少一个光发射器的所述子集；并且所述方法进一步包括在关闭或开启所指定的所述子集之后使用所述空间光调制器扫描另外的基板。
34.如权利要求30所述的方法，其中关闭或开启所指定的所述子集达某个时间周期，所述时间周期包括所述空间光调制器跨所述基板的所述不均匀区域扫描所需的时间。
35.如权利要求30所述的方法，其中所述使用所述空间光调制器扫描所述基板的步骤包括在所述基板的位置中距离w的移动，并且其中所述复数个光发射器的所述子集中的光发射器的数量等于所述距离w中的光发射器的数量下舍至最接近的整数。
36.如权利要求35所述的方法，其中通过将所述空间光调制器的光发射器的总数量除以所述空间光调制器的单一扫描中的曝光的总数量来确定所述距离w的所述移动。
37.一种非暂时性计算机可读介质，所述非暂时性计算机可读介质具有指令，所述指令经配置以引起系统：
38.如权利要求37所述的非暂时性计算机可读介质，其中所述复数个光发射器包括光发射器的复数个行和光发射器的复数个列，并且所指定的所述子集包括以下的一者或多者：光发射器的所述复数个行的子集、或光发射器的所述复数个列的子集。
39.如权利要求37所述的非暂时性计算机可读介质，其中所述识别所述基板的所述不均匀区域的步骤包括以下步骤：定位所述基板与期望的图案之间的差异区域，所述差异区域包括比所述期望的图案的一个或多个特征大或比所述期望的图案的一个或多个特征小的所述基板的一个或多个特征；并且所述指定所述子集以用于衰减或辅助的步骤包括以下步骤：选择对应于所述基板的所述不均匀区域的所述子集；其中所述指令进一步经配置以引起所述系统在关闭或开启所指定的所述子集之后使用所述空间光调制器扫描另外的基板。
40.如权利要求39所述的非暂时性计算机可读介质，其中；
41.如权利要求37所述的非暂时性计算机可读介质，其中关闭或开启所指定的所述子集达某个时间周期，所述时间周期包括所述空间光调制器跨所述基板的所述不均匀区域扫描所需的时间。
42.如权利要求37所述的非暂时性计算机可读介质，其中所述使用所述空间光调制器扫描所述基板的步骤包括在所述基板的位置中距离w的移动，并且所述复数个光发射器的所述子集中的光发射器的数量等于所述距离w中的光发射器的数量下舍至最接近的整数。
43.如权利要求42所述的非暂时性计算机可读介质，其中通过将所述空间光调制器的光发射器的总数量除以所述空间光调制器的单一扫描中的曝光的总数量来确定所述距离w的所述移动。
44.一种用于图案化基板的空间光调制器，包括：
45.如权利要求44所述的空间光调制器，其中所述复数个光发射器的所述子集包括指定数量的光调制器，并且所述指定数量的光调制器由以下方式确定：
46.如权利要求44所述的空间光调制器，其中所指定的所述子集作为单元被启用或停用达某个时间周期，所述时间周期包括所述空间光调制器跨所述基板的所述不均匀区域扫描所需的时间。
47.如权利要求44所述的空间光调制器，其中所述控制器进一步经配置以：
48.如权利要求47所述的空间光调制器，其中所述控制器进一步经配置以：如果所述不均匀区域相对于所述基板的周围场是增加的曝光区域，则停用所指定的所述子集。
49.如权利要求47所述的空间光调制器，其中所述控制器进一步经配置以：如果所述不均匀区域相对于所述基板的周围场是减少的曝光区域，则启用所指定的所述子集。
50.如权利要求30所述的方法，其中所指定的所述子集在所述扫描期间开启且如果被指定用于衰减则关闭，或者所指定的所述子集在所述扫描期间关闭且如果被指定用于辅助则开启。
51.如权利要求30所述的方法，其中所述复数个光发射器包括复数个微镜。
