本申请实施例涉及半导体设备领域，具体涉及一种过滤器以及半导体制造设备。
背景技术：
1、半导体专用过滤器是一种根据半导体工艺制造的过滤器，用于对半导体器件制造过程中的特定工艺步骤(例如化学机械抛光)所用到的需要进行过滤的特定介质(例如化学研磨液)进行过滤，以去除特定介质中的杂质。在此背景下，如何提供一种过滤器的新型结构，以使得过滤器具有自洁功能，进而延长过滤器的使用寿命，成为了本领域技术人员亟需解决的问题。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请实施例提供一种过滤器以及半导体制造设备，能够使得过滤器具有自洁功能，进而延长过滤器的使用寿命。
2、为实现上述目的，本申请实施例提供如下技术方案。
3、第一方面，本申请实施例提供一种过滤器，包括：
4、过滤器壳体；
5、设置于所述过滤器壳体的内部的滤芯；
6、从所述过滤器壳体的顶部伸入所述滤芯的内部，且输入清洁所述滤芯的液体的第一管道；
7、从所述过滤器壳体的底部的边缘伸出，输出清洁所述滤芯后的液体和杂质的第二管道。
8、可选的，所述滤芯为多层结构，所述第一管道伸入所述滤芯的内部的中心，且第一管道所伸入的高度为所述滤芯的高度的一半。
9、可选的，还包括：
10、带动所述滤芯旋转的旋转装置。
11、可选的，所述旋转装置包括：
12、带动所述滤芯旋转的传动装置；
13、与所述传动装置连接，驱动所述传动装置的电机；
14、其中，所述传动装置连接所述第一管道，且所述第一管道与所述滤芯相接触。
15、可选的，所述传动装置为传动杆。
16、可选的，还包括：
17、设置于所述过滤器壳体的顶部的第一侧，且向所述滤芯输入待过滤液体的第三管道；
18、以及，设置于所述过滤器壳体的顶部的第二侧，且输出所述滤芯过滤后的液体的第四管道。
19、可选的，所述第三管道的一端连接所述过滤器壳体的第一侧，另一端连接提供待过滤液体的供液系统；
20、所述第四管道的一端从所述过滤器壳体的顶部的第二侧伸入，并与伸入所述滤芯的内部的第一管道连通，另一端连接使用过滤后的液体的使用机台。
21、可选的，还包括：
22、设置于所述过滤器壳体的底部中心，且输出所述滤芯过滤过程中产生的液体的第五管道。
23、可选的，所述第一管道、所述第二管道、所述第三管道、所述第四管道以及所述第五管道上均设置有控制管道流通状态的开关装置。
24、第二方面，本申请实施例提供一种半导体制造设备，包括供液系统、使用机台以及过滤器，所述过滤器如上述所述的过滤器。
25、本申请实施例提供的过滤器包括：过滤器壳体；设置于所述过滤器壳体的内部的滤芯；从所述过滤器壳体的顶部伸入所述滤芯的内部，且输入清洁滤芯的液体的第一管道；从所述过滤器壳体的底部的边缘伸出，输出清洁滤芯后的液体和杂质的第二管道。可以看出，本申请实施例所提供的过滤器，通过从过滤器壳体顶部伸入滤芯内部的第一管道，向滤芯输入用于清洁滤芯的液体，进行对过滤器的清洗；同时，过滤器壳体的底部的边缘设置有第二管道，清洁滤芯后的液体和杂质可以从第二管道排出，使得过滤器能够实现自洁功能，进而延长过滤器的使用寿命。
1.一种过滤器，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的过滤器，其特征在于，所述滤芯为多层结构，所述第一管道伸入所述滤芯的内部的中心，且第一管道所伸入的高度为所述滤芯的高度的一半。
3.根据权利要求1所述的过滤器，其特征在于，还包括：
4.根据权利要求3所述的过滤器，其特征在于，所述旋转装置包括：
5.根据权利要求4所述的过滤器，其特征在于，所述传动装置为传动杆。
6.根据权利要求1所述的过滤器，其特征在于，还包括：
7.根据权利要求6所述的过滤器，其特征在于，所述第三管道的一端连接所述过滤器壳体的第一侧，另一端连接提供待过滤液体的供液系统；
8.根据权利要求6所述的过滤器，其特征在于，还包括：
9.根据权利要求8所述的过滤器，其特征在于，所述第一管道、所述第二管道、所述第三管道、所述第四管道以及所述第五管道上均设置有控制管道流通状态的开关装置。
10.一种半导体制造设备，其特征在于，包括供液系统、使用机台以及过滤器，所述过滤器如权利要求1-9任一项所述的过滤器。
