本发明涉及一种温度调节设备、一种光刻设备以及一种制品制造方法。
背景技术：
1、在半导体装置或液晶显示装置的制造过程中，可以使用诸如照明光学系统、投影光学系统和/或测量光学系统的光学系统。当光学系统的光路中发生温度变化时，光学系统的性能可能由于温度变化的影响而劣化。
2、日本专利申请特开no.2022-175879讨论了一种通过从吹气单元朝向测量光学系统的光路的周边吹送气体来减少测量光学系统(测量单元)的光路的周边的温度变化的方法。
3、此时，在其中将被调节温度的气体吹送到光路以减少光学系统的光路中的温度变化的情况下，吹送的气体可能向与吹气方向正交的方向扩散。
4、通过这种方式，气体吹向光学系统中的光学元件，并且光学元件的温度发生局部变化，使得降低光学性能。
技术实现思路
1、本发明涉及一种温度调节设备，所述温度调节设备能够调节光路的温度，同时减少光学系统中光学元件的局部温度变化。
2、根据本发明的方面，一种温度调节设备包括：吹气单元，所述吹气单元构造成经由开口部分将被调节温度的气体吹送到光学系统的光路，其中，所述开口部分的外周的形状包括从所述开口部分的外接圆向内凹入的凹入部分，其中，在其中所述凹入部分中最靠近所述外接圆的中心的位置是两个直线部分的交点、两个曲线部分的交点以及直线部分和曲线部分的交点中的任何一个的情况下，在所述开口部分内侧在交点处的角度为180度或更大，其中，在其中所述凹入部分中最靠近所述外接圆的中心的位置是曲线部分的情况下，所述曲线部分的直径是所述外接圆的直径的三分之二或更小，以及其中，在其中所述凹入部分中最靠近所述外接圆的中心的位置是直线部分的情况下，所述直线部分的长度是所述外接圆的直径的五分之一或更小。
3、参考附图，从以下对实施例的描述中，本发明的其他特征将变得显而易见。
1.一种温度调节设备，所述温度调节设备包括：
2.根据权利要求1所述的温度调节设备，
3.根据权利要求1所述的温度调节设备，
4.根据权利要求1所述的温度调节设备，其中，所述开口部分的所述外周的形状包括所述凹入部分中的至少三个凹入部分。
5.根据权利要求1所述的温度调节设备，其中，所述光学系统是构造成照射原版的照明光学系统、构造成将来自原版的光投影到基板的投影光学系统以及构造成测量构造成保持所述基板的台的位置或所述基板的位置的测量光学系统中的至少任何一个。
6.根据权利要求1所述的温度调节设备，其中，所述吹气单元经由多个所述开口部分将气体吹送到所述光路。
7.根据权利要求1所述的温度调节设备，其中，在与所述光路正交的平面中，其中设置多个所述开口部分的宽度大于在与其中气体被吹送的方向正交的方向上所述光路的最大宽度。
8.根据权利要求1所述的温度调节设备，所述温度调节设备还包括：
9.根据权利要求1所述的温度调节设备，所述温度调节设备还包括控制单元，所述控制单元构造成基于所述光学系统的光路中的温度或所述光学系统中的光学元件的温度的测量结果来控制和调节吹送的气体的流量。
10.根据权利要求1所述的温度调节设备，所述温度调节设备还包括：
11.根据权利要求1所述的温度调节设备，所述温度调节设备还包括控制单元，所述控制单元构造成基于所述光学系统的光路中的温度变化的估计结果来控制和调节所述气体的流量。
12.根据权利要求6所述的温度调节设备，其中，所述多个开口部分包括形状彼此不同的开口部分。
13.根据权利要求1所述的温度调节设备，所述温度调节设备还包括控制单元，所述控制单元构造成从多个所述开口部分中选择要使用的开口部分。
14.一种光刻设备，所述光刻设备包括：
15.一种制品制造方法，所述制品制造方法包括：
