本技术涉及工业清洗剂生产设备，具体涉及一种工业清洗剂生产用配比搅拌装置。
背景技术：
1、工业清洗剂常用表面活性剂：阳离子表面活性剂/阴离子表面活性剂/两性表面活性剂/非离子表面活性剂，一般低泡沫清洗剂常用非离子表面活性剂，工业清洗剂在生产过程中需要使用到配比搅拌装置。
2、现有的工业清洗剂生产用配比搅拌装置在使用过程中，通过搅拌轴对工业清洗剂进行搅拌，在某些情况下，物料会在搅拌装置的底部或角落堆积，为了使得原料充分且均匀的融合，工作人员就要增加搅拌时间，这样就会导致搅拌装置的搅拌效率较低，时间成本高。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于提供一种工业清洗剂生产用配比搅拌装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种工业清洗剂生产用配比搅拌装置，包括支架、两个转轴、搅拌筒、搅拌器、两组支撑块、两个弧形滑轨、两个滑块、固定板、两个活动轴以及气缸，两个所述转轴分别与支架的左右两侧转动连接，所述搅拌筒设置于两个所述转轴之间，所述搅拌器设置于搅拌筒上，两组所述支撑块分别位于支架的前后两侧，两个所述弧形滑轨分别设置于两组所述支撑块的顶部，且两个所述弧形滑轨位于搅拌筒的下方，两个所述滑块设置于搅拌筒外底部，且两个所述滑块分别与两个所述弧形滑轨滑动连接，所述固定板位于支架的前侧，两个所述活动轴分别设置于搅拌筒外前侧以及固定板的顶部，所述气缸的两端分别与两个所述活动轴活动连接。
3、优选的，所述转轴与支架之间通过轴承相连接，所述轴承的内环与转轴之间过盈配合，所述轴承的外环与支架之间固定连接。
4、优选的，所述支架为“凹”形结构。
5、优选的，两组所述支撑块为一左一右设置，每组所述支撑块的数量为两个，且两个所述支撑块为一前一后设置。
6、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型通过在搅拌筒上设置的调节结构可以对搅拌筒的角度进行调节，从而使搅拌筒内部以及底部的物料能够持续的流动，避免物料堆积在搅拌筒的底部或角落，使物料的搅拌更加均匀且充分，提高产品的质量，减少生产成本。
1.一种工业清洗剂生产用配比搅拌装置,其特征在于：包括支架(1)、两个转轴(2)、搅拌筒(3)、搅拌器(4)、两组支撑块(5)、两个弧形滑轨(6)、两个滑块(7)、固定板(8)、两个活动轴(9)以及气缸(10)，两个所述转轴(2)分别与支架(1)的左右两侧转动连接，所述搅拌筒(3)设置于两个所述转轴(2)之间，所述搅拌器(4)设置于搅拌筒(3)上，两组所述支撑块(5)分别位于支架(1)的前后两侧，两个所述弧形滑轨(6)分别设置于两组所述支撑块(5)的顶部，且两个所述弧形滑轨(6)位于搅拌筒(3)的下方，两个所述滑块(7)设置于搅拌筒(3)外底部，且两个所述滑块(7)分别与两个所述弧形滑轨(6)滑动连接，所述固定板(8)位于支架(1)的前侧，两个所述活动轴(9)分别设置于搅拌筒(3)外前侧以及固定板(8)的顶部，所述气缸(10)的两端分别与两个所述活动轴(9)活动连接。
2.根据权利要求1所述的一种工业清洗剂生产用配比搅拌装置，其特征在于：所述转轴(2)与支架(1)之间通过轴承相连接，所述轴承的内环与转轴(2)之间过盈配合，所述轴承的外环与支架(1)之间固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种工业清洗剂生产用配比搅拌装置，其特征在于：所述支架(1)为“凹”形结构。
4.根据权利要求1所述的一种工业清洗剂生产用配比搅拌装置，其特征在于：两组所述支撑块(5)为一左一右设置，每组所述支撑块(5)的数量为两个，且两个所述支撑块(5)为一前一后设置。
