阵列基板和显示面板的制作方法

    技术2025-07-25  18


    本申请涉及显示,具体地,涉及一种阵列基板和显示面板。


    背景技术:

    1、阵列基板的膜层按照材料种类主要分为有机层、无机层和金属层。在阵列基板的各膜层形成过程中,有机层由于其材料呈流体形态,具有流平特性,因此,有机层的底部是凹凸不平的,但有机层的上表面是平整的,而无机层和金属层几乎是等厚的。

    2、阵列基板的膜层结构中通常包括较多的金属层,部分图案化的金属层在垂直投影方向上发生重叠,导致局部出现膜层段差过大问题,且图案化的金属膜层堆叠的越多,段差越大,而膜层的段差过大不仅会造成成膜质量较差,使膜层强度折减,而且过大的膜层段差容易造成较大的锥角(taper),形成较大的应力集中,导致显示面板的力学性能较差。


    技术实现思路

    1、本申请提供一种阵列基板和显示面板,本申请的阵列基板和显示面板能够有效降低由于图案化的金属膜层在垂直投影方向上发生重叠而导致的膜层段差。

    2、本申请提供一种阵列基板,包括:

    3、衬底;

    4、缓冲层,设置在所述衬底上,所述缓冲层远离所述衬底的一侧设置有至少一个第一凹槽;及

    5、至少两层金属层,设置在所述缓冲层远离所述衬底的一侧,至少两层所述金属层在所述衬底上的正投影具有重叠区,所述重叠区位于所述第一凹槽在所述衬底上的正投影范围内,其中,所述金属层为图案化的金属膜层。

    6、在一些实施例中,至少两层所述金属层包括:

    7、第一金属层,设置在所述缓冲层远离所述衬底的一侧,所述第一金属层至少包括第一栅极;

    8、第二金属层,设置在所述第一金属层远离所述缓冲层的一侧,所述第二金属层至少包括第一源漏极;

    9、其中,所述第一栅极和所述第一源漏极在所述衬底上的正投影具有第一重叠区,且所述第一重叠区位于所述第一凹槽在所述衬底上的正投影范围内。

    10、在一些实施例中,至少两层所述金属层还包括:

    11、第三金属层,设置在所述第一金属层与所述第二金属层之间,所述第三金属层至少包括第二栅极;

    12、其中,所述第二栅极在所述衬底上的正投影与所述第一栅极或所述第一源漏极在所述衬底上的正投影具有第二重叠区,且所述第二重叠区位于所述第一凹槽在所述衬底上的正投影范围内。

    13、在一些实施例中,所述第二重叠区与所述第一重叠区至少部分重叠。

    14、在一些实施例中,至少两层所述金属层还包括:

    15、第四金属层,设置在所述第三金属层与所述第二金属层之间,所述第四金属层至少包括第三栅极;

    16、其中,所述第三栅极在所述衬底上的正投影与所述第一栅极、所述第二栅极或所述第一源漏极在所述衬底上的正投影具有第三重叠区,且所述第三重叠区位于所述第一凹槽在所述衬底上的正投影范围内。

    17、在一些实施例中,所述第一重叠区、所述第二重叠区和所述第三重叠区的其中两者至少部分重叠,或三者至少部分重叠。

    18、在一些实施例中,所述阵列基板还包括:

    19、阻挡层,设置于所述缓冲层与所述衬底之间,所述阻挡层靠近所述缓冲层的一侧设置有至少一个第二凹槽;

    20、其中,所述第二凹槽在所述衬底上的正投影位于所述第一凹槽在所述衬底上的正投影范围内,且所述第一凹槽贯穿所述缓冲层并与所述第二凹槽连通。

    21、在一些实施例中,所述第一凹槽在所述衬底上的正投影的面积为所述重叠区的面积的1.5倍~2.5倍。

    22、在一些实施例中,所述阵列基板还包括设置在相邻所述金属层之间的绝缘层,以及设置在所述绝缘层中的过孔,所述第一凹槽的边缘与相邻的所述过孔的边缘的最小间距大于所述过孔的半径。

    23、本申请还提供一种显示面板,包括如上任一实施例所述的阵列基板。

    24、本申请提供一种阵列基板和显示面板,本申请的阵列基板包括多层金属层,所述金属层为图案化的金属膜层,多层金属层在衬底上的正投影具有重叠区,本申请的缓冲层上设置有第一凹槽,多层金属层在垂直于衬底方向上的重叠区与第一凹槽对应,由于缓冲层在第一凹槽处的厚度减小,使第一凹槽上方的部分膜层形成在第一凹槽内,可以有效减小第一凹槽上方的膜层的段差,即减少多层金属层的重叠区域导致的段差,从而改善膜层段差过大而导致的膜层质量问题和应力集中问题,进而提升阵列基板的力学性能。



    技术特征:

    1.一种阵列基板,其特征在于,包括:

    2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,至少两层所述金属层包括:

    3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,至少两层所述金属层还包括:

    4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述第二重叠区与所述第一重叠区至少部分重叠。

    5.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,至少两层所述金属层还包括:

    6.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述第一重叠区、所述第二重叠区和所述第三重叠区的其中两者至少部分重叠,或三者至少部分重叠。

    7.根据权利要求1至6任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括:

    8.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一凹槽在所述衬底上的正投影的面积为所述重叠区的面积的1.5倍至2.5倍。

    9.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括设置在相邻所述金属层之间的绝缘层,以及设置在所述绝缘层中的过孔,所述第一凹槽的边缘与相邻的所述过孔的边缘的最小间距大于所述过孔的半径。

    10.一种显示面板,其特征在于,包括如权利要求1-9任一项所述的阵列基板。


    技术总结
    本申请提供一种阵列基板和显示面板,所述阵列基板包括衬底、缓冲层及至少两层金属层;所述缓冲层设置在所述衬底上,所述缓冲层远离所述衬底的一侧设置有至少一个第一凹槽;至少两层金属层设置在所述缓冲层远离所述衬底的一侧,至少两层所述金属层在所述衬底上的正投影具有重叠区,所述重叠区位于所述第一凹槽在所述衬底上的正投影范围内,其中,所述金属层为图案化的金属膜层。本申请提供的阵列基板和显示面板能够有效降低由于图案化的金属膜层在垂直投影方向上发生重叠而导致的膜层段差,提升显示面板力学性能。

    技术研发人员:胡锦文
    受保护的技术使用者:武汉华星光电半导体显示技术有限公司
    技术研发日:
    技术公布日:2024/10/24
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