本申请涉及显示，特别是涉及显示基板、显示装置及显示基板的制备方法。
背景技术：
1、近年来，大尺寸oled(organic light-emitting diode，有机发光二极管)因其具有高对比度、自发光等特点渐成新的增长热点，其中，顶发射器件相比底发射器件具有更高的开口率且能实现更高的ppi(pixels per inch，像素每英寸)，可用于制作透明产品，深受消费者的欢迎。在大尺寸oled顶发射透明显示器的制备工艺中，透明阴极一般为通过sputter(溅射)工艺沉积的izo(indium zinc oxide，氧化铟锌)，此工艺过程需要在电场作用下轰击el(electroluminescent，电致发光)有机膜层，会产生大颗粒异物或粉尘，这些异物很容易导致el的阳极与阴极短路，形成像素暗点。
2、为了实现暗点维修，大尺寸oled的设计一般会采用次级亚像素技术。参见图1，其为相关技术中次级亚像素的分布示意图，其中的a1、b1为单个亚像素的两个次级亚像素，当次级亚像素a1因el异物形成像素暗点，可将连接该次级亚像素的a的ito(indium tinoxide，氧化铟锡)走线切断，使得tft(thin film transistor，薄膜晶体管)的电流全部流进次级亚像素b1以点亮oled。针对oled中出现的少量离散暗点，在基于此方法暗点维修成功后，面板可正常显示，从而能够大大减少暗点数量。如图1所示意的，为了便于进行暗点维修，显示器中除了用于设置像素结构的像素发光区，一般还包含透明区，用于从源漏极引出驱动电信号的pvx(passivation，钝化层)孔被设置在透明区，通过ito走线将驱动电信号从透明区引入至像素发光区以驱动像素结构发光。当像素结构因阴阳极短路形成像素暗点时，针对透明区的ito走线进行激光切割即可实现暗点维修。
3、在oled显示器的设计中，像素发光区由于金属层和有机膜层的堆积，膜层较厚，而透明区主要为无机膜层，膜层较薄，因此，ito走线需要爬坡以跨越透明区与像素发光区之间的高度差。然而如图2所示意的，在实际生产中发现，ito走线很容易在爬坡时出现钻刻断裂，图3(a)进一步示意出了显示器不良区内ito走线的爬坡示意图，与图3(b)中示出的显示区良区内ito走线的爬坡示意图对比，可见ito走线在爬坡处出现断裂。对于图1所示意的结构，若出现图2及图3(a)所示的断裂情况，显示器中的ito走线无法将驱动电信号正常引入至像素发光区，从而会如图4所示的，导致显示器形成半暗点、半暗点簇，严重时还会形成暗点簇，使得显示器因不良而无法出货，产品良率偏低。
技术实现思路
1、本申请实施例的目的在于提供一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法，以避免透明导电层在爬坡时出现钻刻断裂所引发的半暗点、半暗点簇，从而提升显示基板的产品良率。具体技术方案如下：
2、第一方面，本申请实施例提供了一种显示基板，所述显示基板具有像素发光区与透明区，所述显示基板包括：透明导电层及第一金属电极层；
3、所述透明导电层包括第一平铺部、第二平铺部及爬坡部；所述第一平铺部位于所述透明区，所述第二平铺部位于所述像素发光区，所述爬坡部位于所述像素发光区与所述透明区的交界区域；所述第二平铺部与衬底之间的距离大于所述第一平铺部与所述衬底之间的距离；
4、所述第一金属电极层位于所述第一平铺部及所述爬坡部上远离衬底的一侧。
5、可选的，所述第二平铺部远离衬底的一侧设有像素电极层，所述第一金属电极层与所述像素电极层一体成型。
6、可选的，所述第二平铺部远离衬底的一侧设有像素电极层；所述第一金属电极层覆盖所述爬坡部靠近所述第一平铺部的部分，与所述像素电极层相分离。
7、可选的，所述第一平铺部远离所述爬坡部的部分具有未被所述第一金属电极层覆盖的第一子部，所述第一子部内包含像素暗点维修点位。
8、可选的，所述显示基板内的每个亚像素包括至少两个次级亚像素，所述透明导电层内包括多条透明走线，所述多条透明走线分别连接不同次级亚像素；所述第一金属电极层内包括多个第一金属电极，所述多个第一金属电极分别设置在不同所述透明走线远离衬底的一侧。
9、可选的，所述透明区包括：设置于所述像素发光区第一侧的第一透明区，设置于所述像素发光区与所述第一侧相对的第二侧的第二透明区；所述透明导电层由所述显示基板的第一侧向第二侧布设，所述第一金属电极层位于所述第一透明区及所述第一透明区与所述像素发光区的交界区域。
10、可选的，所述第一金属电极层包括：在所述透明导电层远离衬底的一侧依次叠层设置的第一金属层以及透明电极层。
11、可选的，还包括：
12、缓冲层，设置在所述衬底上；
13、驱动电路层，包括有源层、栅极绝缘层、栅极金属层、层间介质层和源漏极层，设置在所述缓冲层远离所述衬底的一侧；
14、钝化层，设置在所述驱动电路层远离所述衬底的一侧；
15、平坦化层，设置于所述钝化层远离所述衬底的一侧，且位于所述像素发光区；
16、所述透明导电层设置在所述钝化层及所述平坦化层远离所述衬底的一侧；所述钝化层具有位于所述透明区的第一过孔，所述透明导电层通过所述第一过孔连接所述驱动电路层与所述像素电极层。
17、第二方面，本申请实施例提供了一种显示装置，包括上述任一项的显示基板。
18、第三方面，本申请实施例提供了一种显示基板的制备方法，包括：
19、获取第一预制板；所述第一预制板内的透明导电层包括第一平铺部、第二平铺部及爬坡部，所述第一平铺部位于所述第一预制板的透明区，所述第二平铺部位于所述第一预制板的像素发光区，所述爬坡部位于所述像素发光区与所述透明区的交界区域，所述第二平铺部与衬底之间的距离大于所述第一平铺部与所述衬底之间的距离；
20、在所述第一平铺部及所述爬坡部上远离衬底的一侧沉积第一金属电极层；
21、进行后续制备工艺。
22、本申请实施例有益效果：
23、本申请实施例提供的显示基板、显示装置及显示基板的制备方法，显示基板内透明导电层的第一平铺部及爬坡部远离衬底的一侧设有第一金属电极层，当透明导电层在爬坡部出现钻刻断裂，第一金属电极层能够辅助连通透明导电层的第一平铺部与第二平铺部，保证透明导电层仍能够由透明区将驱动电信号正常引入至像素发光区，显示基板不会因透明导电层的断裂而形成半暗点、半暗点簇甚至暗点，产品良率得到提高。
24、当然，实施本申请的任一产品或方法并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
1.一种显示基板，所述显示基板具有像素发光区与透明区，其特征在于，所述显示基板包括：透明导电层及第一金属电极层；
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二平铺部远离衬底的一侧设有像素电极层，所述第一金属电极层与所述像素电极层一体成型。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第二平铺部远离衬底的一侧设有像素电极层；所述第一金属电极层覆盖所述爬坡部靠近所述第一平铺部的部分，与所述像素电极层相分离。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述第一平铺部远离所述爬坡部的部分具有未被所述第一金属电极层覆盖的第一子部，所述第一子部内包含像素暗点维修点位。
5.根据权利要求1-3中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板内的每个亚像素包括至少两个次级亚像素，所述透明导电层内包括多条透明走线，所述多条透明走线分别连接不同次级亚像素；所述第一金属电极层内包括多个第一金属电极，所述多个第一金属电极分别设置在不同所述透明走线远离衬底的一侧。
6.根据权利要求1-3中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述透明区包括：设置于所述像素发光区第一侧的第一透明区，设置于所述像素发光区与所述第一侧相对的第二侧的第二透明区；所述透明导电层由所述显示基板的第一侧向第二侧布设，所述第一金属电极层位于所述第一透明区及所述第一透明区与所述像素发光区的交界区域。
7.根据权利要求1-3中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述第一金属电极层包括：在所述透明导电层远离衬底的一侧依次叠层设置的第一金属层以及透明电极层。
8.根据权利要求2或3所述的显示基板，其特征在于，还包括：
9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-8中任一项所述的显示基板。
10.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
