本发明涉及电子，具体涉及一种气溶胶生成装置、该装置的控制方法和气溶胶生成系统。
背景技术：
1、目前，现有的气溶胶产生装置在通过发热体对气溶胶生成基质加热时，因发热体与气溶胶生成基质直接接触，气溶胶生成基质所产生的气溶胶将会不可避免地在发热体表面和气溶胶产生装置的整个气道(如发热体内的气流通道等)内产生一些残留物(如固态的气溶胶残留物和/或液态的气溶胶残留物)。此外，若挥发性化合物长时间附着于上述发热体，也会影响发热体对气溶胶生成基质的加热效果。
2、然而，由于现有的气溶胶产生装置的自清洁方法通常是仅通过加热发热体以产生较高的温度，并利用该较高的温度去除上述残留物，因此，上述较高的温度仅能够去除掉发热体周围呈液态的残留物，而并不足以去除位于发热体表面呈固态的残留物；此外，更为重要的是，由于上述残留物很可能不均匀地分布在上述气道的各个区域，而该气道不仅包括发热体内的气流通道，而且还包括其他与该气流通道连通的通道等，因此，上述现有的自清洁方法仅能够去除掉整个气道中的一小部分残留物(如附着于发热体周围的残留物)，而不能去除掉整个气道中的其余大部分残留物(如整个气道中距离发热体较远的区域所附着的固态的残留物和/或液态的残留物)。
3、因此，针对上述现有技术的不足有必要进行改进。
技术实现思路
1、本发明主要解决的技术问题是提供一种气溶胶生成装置、该装置的控制方法以及气溶胶生成系统。该控制方法能够实现去除气溶胶生成装置的气道内至少大部分残留物的目的，提升了气溶胶生成装置进行自清洁的效果。该控制方法能用于上述气溶胶生成装置。该气溶胶生成系统包括上述装置。
2、根据第一方面，一种实施例中提供一种气溶胶生成装置的控制方法。该控制方法包括：
3、在所述气溶胶生成装置的自清洁模式被触发的情况下，按照预设的自清洁模式温度曲线对所述气溶胶生成装置内的发热体进行加热，以使得所述发热体升温至自清洁温度；
4、控制所述气溶胶生成装置按照预设功率产生振动，以通过所述振动将所述气溶胶生成装置的气道内的残留物沿着所述气道驱逐至所述发热体的附近区域；
5、在所述自清洁模式被触发后的时间达到预设自清洁时间的情况下，所述自清洁模式终止。
6、一实施例中，在所述自清洁模式被触发的情况下，将所述气溶胶生成装置朝向第一方向，或将所述气道的出口朝向所述第一方向；其中，所述第一方向为所述气溶胶生成装置受到的重力的方向。
7、一实施例中，所述残留物包括呈液态的气溶胶残留物和/或呈固态的气溶胶残留物；其中，所述控制所述气溶胶生成装置按照预设功率产生振动，以通过所述振动将所述气溶胶生成装置的气道内的残留物沿着所述气道驱逐至所述发热体的附近区域之后，包括：
8、利用升温至自清洁温度的所述发热体所产生的高温加热蒸发所述附近区域的所述呈液态的气溶胶残留物，和/或，利用升温至自清洁温度的所述发热体所产生的高温烧蚀所述附近区域的所述呈固态的气溶胶残留物。
9、一实施例中，所述发热体内具有第一子气道，所述发热体用于插入容置于所述气溶胶生成装置内的气溶胶生成基质的内部，以使所述第一子气道的出气口与所述气溶胶生成基质的内部连通，并加热所述气溶胶生成基质；所述气溶胶生成装置还具有第二子气道，所述第二子气道用于将所述第一子气道的进气口与所述气溶胶生成装置的外部连通；其中，所述气道包括所述第一子气道和所述第二子气道。
10、一实施例中，所述发热体的附近区域包括所述第一子气道所在的区域，和/或所述第二子气道中位于所述发热体的外表面预设距离范围内的区域。
11、一实施例中，所述控制方法还包括：
12、在所述气溶胶生成装置的工作模式被触发的情况下，按照预设的工作模式温度曲线对所述发热体进行加热，以使得所述发热体升温至工作温度；其中，所述工作模式温度曲线表示所述工作温度与所述加热时间之间的函数关系；所述工作模式用于通过所述发热体对所述气溶胶生成基质进行加热而生成气溶胶；其中，所述自清洁温度高于所述工作温度。
13、一实施例中，所述自清洁温度的数值是固定的。
14、根据第二方面，一种实施例中提供一种气溶胶生成装置，包括：
15、发热体，用于对所述气溶胶生成基质进行加热而产生气溶胶；
16、振动组件，用于使得所述气溶胶生成装置按照预设功率产生振动；
17、控制组件，用于在所述气溶胶生成装置的自清洁模式被触发的情况下，按照预设的自清洁模式温度曲线对所述气溶胶生成装置内的发热体进行加热，以使得所述发热体升温至自清洁温度；控制所述气溶胶生成装置按照预设功率产生振动，以通过所述振动将所述气溶胶生成装置的气道内的残留物沿着所述气道驱逐至所述发热体的附近区域；在所述自清洁模式被触发后的时间达到预设自清洁时间的情况下，所述自清洁模式终止。
18、一实施例中，所述发热体内具有第一子气道，所述发热体用于插入容置于所述气溶胶生成装置内的气溶胶生成基质的内部，以使所述第一子气道的出气口与所述气溶胶生成基质的内部连通，并加热所述气溶胶生成基质；所述气溶胶生成装置还具有第二子气道，所述第二子气道用于将所述第一子气道的进气口与所述气溶胶生成装置的外部连通；其中，所述气道包括所述第一子气道和所述第二子气道。
19、根据第三方面，一种实施例中提供一种计算机可读存储介质，包括程序，所述程序能够被处理器执行以实现如本申请中任一项实施例所述的控制方法。
20、本申请的有益效果是：
21、本申请的控制方法包括：在自清洁模式被触发的情况下，按照自清洁模式温度曲线对发热体进行加热，以使得发热体升温至自清洁温度；控制该装置按照预设功率产生振动，以通过振动将气溶胶生成装置的气道内的残留物沿着气道驱逐至发热体的附近区域；利用发热体去除位于该附近区域内的残留物；其中，上述气道中各区域的残留物均会在该振动作用下逐渐从气道上被剥离，并逐渐被驱赶至上述发热体的附近区域，进而通过发热体所产生的热量去除掉被驱赶至上述附近区域的残留物，最终达到去除气道内大部分或全部残留物的技术目的；上述控制方法能用于上述气溶胶生成装置。
1.一种气溶胶生成装置的控制方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的控制方法，其特征在于，还包括：在所述自清洁模式被触发的情况下，将所述气溶胶生成装置朝向第一方向，或将所述气道的出口朝向所述第一方向；其中，所述第一方向为所述气溶胶生成装置受到的重力的方向。
3.如权利要求1所述的控制方法，其特征在于，所述残留物包括呈液态的气溶胶残留物和/或呈固态的气溶胶残留物；
4.如权利要求1-3中任一项所述的控制方法，其特征在于，所述发热体内具有第一子气道，所述发热体用于插入容置于所述气溶胶生成装置内的气溶胶生成基质的内部，以使所述第一子气道的出气口与所述气溶胶生成基质的内部连通，并加热所述气溶胶生成基质；
5.如权利要求4所述的控制方法，其特征在于，所述发热体的附近区域包括所述第一子气道所在的区域，和/或所述第二子气道中位于所述发热体的外表面预设距离范围内的区域。
6.如权利要求1-3中任一项所述的控制方法，其特征在于，所述控制方法还包括：
7.如权利要求6所述的控制方法，其特征在于，所述自清洁温度的数值是固定的。
8.一种气溶胶生成装置，其特征在于，包括：
9.如权利要求8所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述发热体内具有第一子气道，所述发热体用于插入容置于所述气溶胶生成装置内的气溶胶生成基质的内部，以使所述第一子气道的出气口与所述气溶胶生成基质的内部连通，并加热所述气溶胶生成基质；所述气溶胶生成装置还具有第二子气道，所述第二子气道用于将所述第一子气道的进气口与所述气溶胶生成装置的外部连通；
10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，包括程序，所述程序能够被处理器执行以实现如权利要求1-7中任一项所述的控制方法。
