本发明涉及陶瓷加工相关，具体是一种负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机及浸釉方法。
背景技术：
1、上釉，就是所谓在烧制陶、瓷器时，首先应该烧制毛坯，烧好后拿出来上釉，然后再烧的一种方式。釉有很多种以石英、长石、硼砂、黏土等为原料制成的物质，涂在瓷器、陶器的表面，烧制成有玻璃光泽，在烧制好的毛坯上涂覆上一层玻璃质的釉层，主要起到保护和装饰作用。
2、因此，需要采用上釉机对陶瓷等坯体的内外面以及底部进行上釉操作，但现有为了实现坯体批量上釉，一般会搭配夹持件将坯体夹持后进行上釉，但采用夹持件进行夹持上釉，会存在夹持件的覆盖区无法上釉，因此需要再对覆盖区进行二次上釉，导致上釉工序增加，影响生产效率。
技术实现思路
1、本发明的目的在于提供一种负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机及浸釉方法，以解决上述背景技术中提出的问题。
2、为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
3、一种负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机，包括机架及釉桶，还包括：
4、横梁圆管，所述横梁圆管上形成有多个上釉位，需上釉的坯体底脚抵接于所述上釉位，且所述坯体的底部能够与所述横梁圆管的内侧空腔接触；
5、活动安装架，转动安装有两个连接座，两个所述连接座分别与所述横梁圆管的两端固定，且所述连接座由安装在所述活动安装架上的转动驱动件驱动转动；
6、贯穿其中一个所述连接座且一端伸入所述横梁圆管内的负压管，所述负压管的另一端连接负压机构，所述负压机构用于在坯体置于上釉位后，使得所述横梁圆管内产生负压，以将所述坯体固定；
7、贯穿另一个所述连接座且一端伸入所述横梁圆管内的输釉管，所述输釉管的另一端连接供釉机构。
8、如上所述的负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机：所述连接座包括：
9、空心转动座，转动安装在所述活动安装架上，且一端固定有偏心连接板，所述偏心连接板与所述横梁圆管固定。
10、如上所述的负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机：所述横梁圆管的内侧安装有挡板，所述挡板呈类“j”形状设置，并与所述横梁圆管的两端内壁合围成存料槽。
11、如上所述的负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机：所述转动驱动件包括：
12、转动安装在所述活动安装架上的第一驱动轴，所述第一驱动轴由安装在所述活动安装架上的第一电机驱动转动；
13、还包括连接所述第一驱动轴及空心转动座的第一传动带。
14、如上所述的负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机：所述负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机还包括安装在所述机架上的升降驱动件，所述升降驱动件包括：
15、对称设置的带式驱动单元，所述带式驱动单元连接滑动安装在所述机架上的滑动连接件，所述滑动连接件与所述活动安装架固定；
16、第二驱动轴，转动安装在所述机架上且由安装在所述机架上的第二电机驱动转动，所述第二驱动轴用于驱动两个所述带式驱动单元同步运动，以带动所述活动安装架上升或下降。
17、如上所述的负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机：所述机架上设置有承接板，所述承接板上设置有定位吸附机构，所述定位吸附机构包括：
18、能够相对所述承接板移动的滑台；
19、安装在所述滑台朝向所述横梁圆管一侧的多个定位件，多个定位件与所述上釉位一一对应；
20、吸附机构，安装在所述滑台上，用于将粘附在坯体上多余的釉液吸附。
21、如上所述的负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机：所述滑台朝向所述所述承接板的一侧固定有至少两个第二滑块，所述第二滑块与设置在所述承接板上的滑轨滑动连接；
22、所述滑台上还转动安装有由第四电机驱动转动的主动齿轮，所述主动齿轮与固定在所述承接板上的齿条板啮合。
23、如上所述的负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机：所述吸附机构包括：
24、固定在滑台上的支撑件及设置于支撑件上的输送带，所述输送带的外圈处可拆卸安装有吸收棉；
25、还包括安装在支撑件上且用于驱动输送带转动的驱动单元。
26、如上所述的负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机：所述釉桶上还安装有用于将掉入其中的坯体捞取的打捞机构，所述打捞机构包括：
27、能够插入所述釉桶内侧且安装有滤网的滤网架；
28、固定在所述釉桶侧端的至少一个固定台，所述固定台上安装有伸缩驱动件，所述伸缩驱动件的活动端连接所述滤网架。
29、一种浸釉方法，采用上述所述的负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机，包括以下步骤：
30、将需要上釉的多个坯体置于上釉位上后，启动负压机构，使得横梁圆管内产生负压，对坯体进行固定，同时通过供釉机构使得横梁圆管保留相对恒定液面高度的釉液；
31、启动转动驱动件，驱动横梁圆管沿逆时针方向转动，使得坯体转至釉桶内，对坯体的内外侧上釉，同时横梁圆管内的釉液对坯体的底部上釉，以对坯体实现全方位上釉处理。
32、与现有技术相比，本发明的有益效果是：通过设置的转动驱动件带动横梁圆管转动，从而使得坯体跟随转动，坯体浸没至釉桶内后，釉桶内的釉液实现坯体内外侧的上釉处理，同时在横梁圆管转动的过程中，位于横梁圆管内的釉液沿横梁圆管的内壁流动，同时在横梁圆管转动180°后能够将坯体的底部浸没，从而实现坯体底部的上釉处理。
33、能够实现坯体内外侧及底部的同步上釉处理，简化了上釉工序，提高了工作效率，有效的解决了现有坯体上釉时坯体底部需要进行二次上釉导致生产效率低的问题，同时有效的解决了人工手工上釉不均匀，厚薄不一致，流釉痕，效率低，夹具印，工人专业性等问题。
1.一种负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机，包括机架(1)及釉桶(3)，其特征在于，还包括：
2.根据权利要求1所述的一种负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机，其特征在于，所述连接座包括：
3.根据权利要求1所述的一种负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机，其特征在于，所述横梁圆管(202)的内侧安装有挡板(212)，所述挡板(212)呈类“j”形状设置，并与所述横梁圆管(202)的两端内壁合围成存料槽。
4.根据权利要求2所述的一种负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机，其特征在于，所述转动驱动件包括：
5.根据权利要求1所述的一种负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机，其特征在于，所述负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机还包括安装在所述机架(1)上的升降驱动件(4)，所述升降驱动件(4)包括：
6.根据权利要求1所述的一种负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机，其特征在于，所述机架(1)上设置有承接板(101)，所述承接板(101)上设置有定位吸附机构(5)，所述定位吸附机构(5)包括：
7.根据权利要求6所述的一种负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机，其特征在于，所述滑台(501)朝向所述所述承接板(101)的一侧固定有至少两个第二滑块(509)，所述第二滑块(509)与设置在所述承接板(101)上的滑轨(508)滑动连接；
8.根据权利要求6所述的一种负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机，其特征在于，所述吸附机构包括：
9.根据权利要求1所述的一种负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机，其特征在于，所述釉桶(3)上还安装有用于将掉入其中的坯体(9)捞取的打捞机构(8)，所述打捞机构(8)包括：
10.一种浸釉方法，其特征在于，采用如权利要求1-9任意一项所述的负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机，包括以下步骤：
