本公开总体上涉及提供一种在光对准层上更可靠且更有效地形成倾斜螺旋的功能层或变换层、以用于与偏振体积(或其他类型的)全息图仪器使用。
背景技术：
1、全息图(hologram)用于许多不同类型的光学应用中。例如，全息图可以在人工现实系统中用作波导显示器。在其他情况下，全息图可以用作组合器或透镜，或者可以在光学组件中执行其他功能。在一些情况下，这些全息图可以使用液晶来形成。例如，可以使用液晶形成偏振体全息图(polarization volume hologram，pvh)。这些液晶可以形成在光对准材料(photo alignment material，pam)层上。在一些情况下，光对准层的液晶可以以次优的方式自组织(self-organize)，从而导致不透明的模糊遮挡pvh层。这种不透明性可以导致光在pvh层的不同部分中不同地衍射，这可以导致使用pvh层产生的全息表示中的缺陷。
技术实现思路
1、在本公开的方面，提供了一种光学组件，该光学组件包括：光对准层(photoalignment layer)，该光对准层包括根据指定表面锚定(specified surfaceanchoring)而锚定到基板(substrate)的光对准材料(pam)；变换层(transforminglayer)，该变换层施用到光对准层，其中，该变换层修改光对准层的表面锚定、以与偏振体全息图层对准；以及偏振体全息图层，该偏振体全息图层设置在变换层上。
2、光学组件还可以包括至少部分透明的结构层。
3、变换层可以至少部分地使用液晶形成。
4、变换层的液晶的双折射值可以介于0.01与0.5之间。
5、变换层的液晶的厚度可以介于1nm与100nm之间。
6、变换层可以包括具有不同光学特性的至少一个子层(sublayer)。
7、偏振体全息图层可以包括多个液晶分子。
8、变换层可以化学地改变光对准层的表面锚定。
9、在本公开的一个方面，提供了一种制造方法，该制造方法包括：形成光对准层，该光对准层包括根据指定表面锚定而锚定到基板的光对准材料(pam)；将变换层施用到光对准层，其中，该变换层修改光对准层的表面锚定、以与偏振体全息图层对准；以及将偏振体全息图层施用到变换层。
10、将变换层施用到光对准层可以包括：将液晶聚合物的涂层(coating layer)施用到光对准层；以及固化液晶聚合物的涂层以形成液晶膜。
11、液晶聚合物的涂层可以通过在指定时间量内将紫外光施用到液晶聚合物的涂层来进行固化。
12、将变换层施用到光对准层包括：将图案施用到光对准层；将液晶单体的涂层施用到经图案化的光对准层，其中，该液晶单体溶解在溶剂中；干燥来自液晶单体的涂层的溶剂；以及固化液晶单体的涂层、以与光对准层交联，其中，经固化的涂层包括固体液晶聚合物。
13、光对准层可以施用到至少部分透明的结构层。
14、变换层可以至少部分地使用液晶形成。
15、变换层的液晶的双折射值可以介于0.01与0.5之间。
16、变换层的液晶的厚度可以介于10nm与100nm之间。
17、变换层可以包括具有不同光学特性的至少一个子层。
18、在本公开的方面，提供了一种系统，该系统包括：光对准层，该光对准层包括根据指定表面锚定而锚定到基板的光对准材料(pam)；变换层，该变换层施用到光对准层，其中，该变换层修改光对准层的表面锚定、与偏振体全息图层对准；以及偏振体全息图层，该偏振体全息图层设置在变换层上。
19、变换层可以至少部分地使用液晶形成，变换层的液晶的双折射率值介于0.01与0.5之间，并且变换层的液晶的厚度介于1nm与100nm之间。
20、附图说明
1.一种光学组件，所述光学组件包括：
2.根据权利要求1所述的光学组件，所述光学组件还包括至少部分透明的结构层。
3.根据权利要求1所述的光学组件，其中，
4.根据权利要求1所述的光学组件，其中，所述变换层包括具有不同光学特性的至少一个子层。
5.根据权利要求1所述的光学组件，其中，所述偏振体全息图层包括多个液晶分子，并且，优选地，
6.根据权利要求1所述的光学组件，其中，所述变换层化学地改变所述光对准层的所述表面锚定。
7.一种制造方法，所述制造方法包括：
8.根据权利要求7所述的制造方法，其中，将所述变换层施用到所述光对准层包括：
9.根据权利要求8所述的制造方法，其中，所述液晶聚合物的涂层通过在指定时间量内将紫外光施用到所述液晶聚合物的涂层来进行固化。
10.根据权利要求9所述的制造方法，其中，将所述变换层施用到所述光对准层包括：
11.根据权利要求7所述的制造方法，其中，将所述光对准层施用到至少部分透明的结构层。
12.根据权利要求7所述的制造方法，其中：
13.根据权利要求10所述的制造方法，其中，所述变换层包括具有不同光学特性的至少一个子层。
14.一种系统，所述系统包括：
15.根据权利要求14所述的系统，其中：
