本公开涉及一种基板处理装置以及监视方法。
背景技术：
1、以往，在半导体器件等制造工序中，对基板供给纯水、光致抗蚀剂以及蚀刻液等各种处理液，进行清洗处理以及抗蚀剂涂敷处理等各种基板处理。作为进行使用了这些处理液的基板处理的装置，广泛使用基板保持部使基板以水平姿势旋转，并且从喷嘴向该基板的表面喷出处理液的基板处理装置。
2、在这种基板处理装置中，进行喷嘴的位置是否适当的监视。例如在专利文献1中，设置摄像头等拍摄机构，来监视喷嘴的位置。
3、现有技术文献
4、专利文献
5、专利文献1：日本特开2015-173148号公报
技术实现思路
1、发明要解决的问题
2、为了适当地进行对基板的处理，期望不仅监视喷嘴，还监视更多的监视对象。
3、例如，在基板处理装置设置用于接收从基板的周缘飞散的处理液的防护件。防护件具有筒状的形状，包围基板的周缘。防护件设为能够升降，在基板的搬入搬出时，防护件下降。由此，能够避免用于将基板搬入搬出基板处理装置的搬运机器人与防护件的冲突。在将处理液供给至基板的表面时，防护件上升。通过防护件的上升，防护件的上端周缘部相比基板更靠上方。因此，从基板的周缘飞散的处理液由防护件的内周面接住。
4、若产生异常而防护件无法移动至适当位置，则无法适当地避免防护件与搬运机器人的冲突，或无法由防护件适当地接住处理液。
5、因此，考虑由摄像头拍摄包括防护件的拍摄位置，生成拍摄图像数据，图像处理部基于拍摄图像数据，监视防护件的位置。然而，若处理液的液滴附着于防护件的外周面等，则使用了拍摄图像数据的监视精度可能降低。
6、此外，液滴附着于喷嘴，使用了拍摄图像数据的喷嘴的位置监视的精度也可能降低。
7、因此，本公开的目的在于，提供一种能够抑制液滴的影响而以更高的精度对监视对象进行监视的技术。
8、用于解决问题的手段
9、第一方式，一种基板处理装置，其中，具有：腔室；基板保持部，在所述腔室内保持基板；喷嘴，朝向由所述基板保持部保持的所述基板喷出处理液；摄像头，拍摄所述腔室内的包括监视对象物的拍摄区域，生成拍摄图像数据；以及控制部，在所述拍摄图像数据包含有液滴时，使用所述拍摄图像数据中去除了表示所述液滴的液滴区域的至少一部分的区域，监视所述监视对象物。
10、第二方式，在第一方式的基板处理装置中，所述基板处理装置还具有存储部，所述存储部存储表示所述拍摄图像数据中与互不相同的物体的表面对应的第一区域以及第二区域的区域数据；在所述第一区域内包括有所述液滴时，所述控制部使用所述拍摄图像数据中去除了所述液滴区域的轮廓区域的区域，监视所述监视对象物，在所述第二区域内包括有所述液滴时，所述控制部使用所述拍摄图像数据中去除了所述液滴区域整体的区域，监视所述监视对象物。
11、第三方式，在第一方式的基板处理装置中，所述控制部对于附着于亲水面的所述液滴，使用所述拍摄图像数据中去除了所述液滴区域的轮廓区域的区域，监视所述监视对象物，并且对于附着于润湿性低于所述亲水面的疏水面的所述液滴，使用所述拍摄图像数据中去除了所述液滴区域整体的区域，监视所述监视对象物。
12、第四方式，在第三式的基板处理装置中，所述基板处理装置还具有存储部，所述存储部存储表示所述拍摄图像数据中分别与所述亲水面以及所述疏水面对应的第一区域以及第二区域的区域数据；所述控制部基于所述区域数据，判定所述液滴所附着的表面是所述亲水面还是所述疏水面。
13、第五方式，在第四方式的基板处理装置中，所述控制部基于表示所述基板处理装置的运转时间、所述基板的处理片数或经过时间的经时关联值，更新所述区域数据。
14、第六方式，在第三方式的基板处理装置中，所述控制部基于所述拍摄图像数据，判定所述液滴所附着的表面是所述亲水面还是所述疏水面。
15、第七方式，在第六方式的基板处理装置中，所述控制部基于所述拍摄图像数据计算所述液滴区域的尺寸，在所述液滴区域的尺寸为阈值以上时，判定为所述表面是亲水面，在所述液滴的尺寸小于所述阈值时，判定为所述表面是疏水面。
16、第八方式，在第六或第七方式的基板处理装置中，所述控制部使用已学习模型，判定所述表面是所述亲水面还是所述疏水面。
17、第九方式，在第一至第八方式中的任一方式所述的基板处理装置中，所述基板处理装置还具有亲水性且透明的摄像头防护件，所述摄像头防护件设置于所述摄像头与所述拍摄区域之间；所述控制部基于所述拍摄图像数据，判定在所述摄像头防护件是否附着有所述液滴，在所述摄像头防护件附着有所述液滴时，使用从所述拍摄图像数据去除了表示附着于所述摄像头防护件的所述液滴的所述液滴区域的轮廓区域的区域，监视所述监视对象物。
18、第十方式，在第一至第八方式中的任一方式所述的基板处理装置中，所述基板处理装置还具有疏水性且透明的摄像头防护件，所述摄像头防护件设置于所述摄像头与所述拍摄区域之间；所述控制部基于所述拍摄图像数据，判定在所述摄像头防护件是否附着有所述液滴，在所述摄像头防护件附着有所述液滴时，使用从所述拍摄图像数据去除了表示附着于所述摄像头防护件的所述液滴的所述液滴区域整体的区域，监视所述监视对象物。
19、第十一方式，在第一至第八方式中的任一方式所述的基板处理装置中，所述基板处理装置还具有：透明的摄像头防护件，设置于所述摄像头与所述拍摄区域之间；以及液滴去除部，进行去除附着于所述摄像头防护件的所述液滴的至少一部分的去除动作；在所述拍摄图像数据包括有所述液滴时，所述液滴去除部进行所述去除动作，所述控制部基于在所述去除动作后由所述摄像头拍摄的所述拍摄图像数据，监视所述监视对象物。
20、第十二方式，一种监视方法，其中，具有：拍摄工序，由摄像头拍摄腔室内的包括监视对象物的拍摄区域而生成拍摄图像数据，所述腔室容纳保持基板的基板保持部以及向由所述基板保持部保持的所述基板喷出处理液的喷嘴；液滴判定工序，判定所述拍摄图像数据是否包含有液滴；以及监视工序，在所述拍摄图像数据包括有所述液滴时，使用所述拍摄图像数据中去除了表示所述液滴的液滴区域的至少一部分的区域，监视所述监视对象物。
21、发明效果
22、根据第一方式、第二方式以及第十二方式，由于不使用液滴区域的至少一部分，因此，能够以更高的精度对监视对象物进行监视。
23、根据第三方式，由于润湿性较低的疏水面上的液滴以隆起的状态存在，因此，作为透镜发挥功能。由此，在通过液滴的疏水面的像产生视觉性的失真。在第三方式中，由于液滴区域全部被删除，因此，能够避免因失真引起的监视精度降低。
24、另一方面，润湿性较高的亲水面上的液滴以较薄地扩展的状态存在。在俯视时的比液滴的轮廓部分更靠内侧的内侧部分，其液面平坦，因此，几乎不作为透镜发挥功能，通过液滴的内侧部分的亲水面的像几乎不产生视觉性的失真。在第三实施方式中，由于去除液滴区域的轮廓区域并使用其内侧区域，因此，能够基于更多的像素值进行监视。
25、根据第四方式，能够以简易的处理判定表面的润湿性。
26、根据第五方式，能够与经时变化对应地适当决定液滴区域的删除范围。
27、根据第六方式，由于基于拍摄图像数据判定表面的润湿性，因此，使用者无需事先设置与润湿性相关的数据。
28、根据第七方式，能够以较轻的处理负荷判定润湿性。
29、根据第八方式，能够以高精度判定润湿性。
30、根据第九方式，在亲水性的摄像头防护件上附着有液滴时，液滴以较薄地扩展的状态存在。通过使用液滴区域的内侧区域，能够使用更多的像素数，因此，能够以更高的精度对监视对象物进行监视。
31、根据第十方式，在疏水性的摄像头防护件上附着有液滴时，液滴以较厚隆起的状态存在。通过使用拍摄图像数据中去除了液滴区域整体的区域，能够避免因液滴区域引起的视觉性的失真的影响，因此，能够以更高的精度对监视对象物进行监视。
32、根据第十一方式，在摄像头防护件上附着有液滴时，由于去除液滴，因此，能够减少液滴的影响而对监视对象物进行监视。
1.一种基板处理装置，其中，
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其中，
3.如权利要求1所述的基板处理装置，其中，
4.如权利要求3所述的基板处理装置，其中，
5.如权利要求4所述的基板处理装置，其中，
6.如权利要求3所述的基板处理装置，其中，
7.如权利要求6所述的基板处理装置，其中，
8.如权利要求6或7所述的基板处理装置，其中，
9.如权利要求1至8中任一项所述的基板处理装置，其中，
10.如权利要求1至8中任一项所述的基板处理装置，其中，
11.如权利要求1至8中任一项所述的基板处理装置，其中，
12.一种监视方法，其中，
