本公开属于化学工程，具体涉及一种冻干制剂水分测定的研磨装置。
背景技术：
1、冻干制剂水分测定的研磨装置是用于粉碎冻干制剂样品以便进行水分测定的设备。该装置通常由一个容器和刀片组成，样品放入容器中，然后通过旋转刀片来将样品粉碎。在使用时，需要调节刀片的位置以确保充分粉碎。然而，在实际操作中存在一个问题，即如何上下调节刀片的位置以达到最佳效果。
技术实现思路
1、有鉴于此，本公开实施例提供了一种冻干制剂水分测定的研磨装置，至少部分解决现有技术中存在的问题。
2、本公开的一种冻干制剂水分测定的研磨装置，包括装置本体，所述装置本体包括研磨棒，所述研磨棒的两侧安装有搅拌组件，且研磨棒内安装有带动搅拌组件向外伸出的磁性件，所述研磨棒的两侧对称设有两个腔体，所述搅拌组件包括滑动设置在所述腔体内的刀片、连接在所述刀片与腔体之间的第一弹簧，以及固定在所述刀片一端的滑块，优选的，还包括
3、伸缩头，滑动设置在所述研磨棒的下端；
4、第二弹簧，连接在伸缩头与研磨棒的下端之间；
5、限位机构，连接在伸缩头与研磨棒之间，用于限制伸缩头的伸缩。
6、优选的，所述限位机构包括导柱，所述导柱的下端与伸缩头的上端固定连接，所述刀片贯穿设有和导柱对应的通孔，所述刀片在腔体内时，所述通孔和导柱的上端错开，所述刀片滑出所述腔体时，所述通孔正对导柱的上端。
7、优选的，所述腔体的下端贯穿设有开口，所述导柱的上端贯穿开口至腔体内，所述导柱一体成型有限位块，所述限位块位于腔体内，且限位块的直径大于开口的直径。
8、优选的，所述伸缩头的上端侧面一体成型有第一侧板，所述第一侧板的内表面紧贴研磨棒的下端侧面。
9、优选的，所述研磨棒的下端侧面一体成型有第二侧板，所述第二侧板的内表面紧贴伸缩头的上端侧面。
10、优选的，所述限位块的下表面固定有橡胶垫。
11、优选的，所述橡胶垫粘合或用螺栓固定在限位块底部。
12、本公开实施例提供了一种冻干制剂水分测定的研磨装置，包括装置本体，所述装置本体包括研磨棒，所述研磨棒的两侧安装有搅拌组件，且研磨棒内安装有带动搅拌组件向外伸出的磁性件，所述研磨棒的两侧对称设有两个腔体，所述搅拌组件包括滑动设置在所述腔体内的刀片、连接在所述刀片与腔体之间的第一弹簧，以及固定在所述刀片一端的滑块，还包括伸缩头，滑动设置在所述研磨棒的下端；第二弹簧，连接在伸缩头与研磨棒的下端之间；限位机构，连接在伸缩头与研磨棒之间，用于限制伸缩头的伸缩。通过本公开实施例的方案，能够在使用时上下调节刀片的位置，以充分粉碎。
1.一种冻干制剂水分测定的研磨装置，包括装置本体，所述装置本体包括研磨棒(10)，所述研磨棒(10)的两侧安装有搅拌组件(20)，且研磨棒(10)内安装有带动搅拌组件(20)向外伸出的磁性件(30)，所述研磨棒(10)的两侧对称设有两个腔体(11)，所述搅拌组件(20)包括滑动设置在所述腔体(11)内的刀片(21)、连接在所述刀片(21)与腔体(11)之间的第一弹簧(22)，以及固定在所述刀片(21)一端的滑块(23)，其特征在于，还包括
2.根据权利要求1所述的一种冻干制剂水分测定的研磨装置，其特征在于，所述限位机构(60)包括导柱(61)，所述导柱(61)的下端与伸缩头(40)的上端固定连接，所述刀片(21)贯穿设有和导柱(61)对应的通孔(210)，所述刀片(21)在腔体(11)内时，所述通孔(210)和导柱(61)的上端错开，所述刀片(21)滑出所述腔体(11)时，所述通孔(210)正对导柱(61)的上端。
3.根据权利要求2所述的一种冻干制剂水分测定的研磨装置，其特征在于，所述腔体(11)的下端贯穿设有开口(12)，所述导柱(61)的上端贯穿开口(12)至腔体(11)内，所述导柱(61)一体成型有限位块(610)，所述限位块(610)位于腔体(11)内，且限位块(610)的直径大于开口(12)的直径。
4.根据权利要求1所述的一种冻干制剂水分测定的研磨装置，其特征在于，所述伸缩头(40)的上端侧面一体成型有第一侧板(41)，所述第一侧板(41)的内表面紧贴研磨棒(10)的下端侧面。
5.根据权利要求1所述的一种冻干制剂水分测定的研磨装置，其特征在于，所述研磨棒(10)的下端侧面一体成型有第二侧板(13)，所述第二侧板(13)的内表面紧贴伸缩头(40)的上端侧面。
6.根据权利要求3所述的一种冻干制剂水分测定的研磨装置，其特征在于，所述限位块(610)的下表面固定有橡胶垫(611)。
7.根据权利要求6所述的一种冻干制剂水分测定的研磨装置，其特征在于，所述橡胶垫(611)粘合或用螺栓固定在限位块(610)底部。
