本技术涉及显影工艺，具体为一种采用氮气加热控制显影液恒温的装置。
背景技术：
1、目前国内具有较高技术含量的芯片、晶圆代工企业以及科研院所从事晶圆湿法刻蚀和清洗工艺中，对光刻掩膜曝光后显影工艺流程中每道细分工艺环节精准度和成活率要求相当高，工艺要求十分苛刻；其显影系统中显影液的温度和压力稳定对光刻胶的显影效果有很大影响；过去晶圆代工在显影系统过程中显影方法方式不同，显影液由于温度、压力、流量等不稳定因素及污染与缺陷控制技术问题等等造成对光刻胶的显影效果不佳及良率不理想；并影响后道工艺制程。
2、为此，为晶圆制程到芯片成品的每一道工艺环节保驾护航提出采用氮气加热方式来控制显影液恒定温度和压力稳定来提高对光刻胶的显影效果。
技术实现思路
1、实用新型目的：解决现有技术中显影液的温度和压力稳定对光刻胶的显影效果有很大影响；过去晶圆代工在显影系统过程中显影方法方式不同，显影液由于温度、压力、流量等不稳定因素及污染与缺陷控制技术问题等等造成对光刻胶的显影效果不佳及良率不理想，并影响后道工艺制程的问题。
2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
3、一种采用氮气加热控制显影液恒温的装置，包括：
4、外套管，所述外套管内部为恒温热氮；
5、内套管，所述内套管设置在外套管内部，所述内套管内部为显影液；
6、所述外套管和内套管为两个独立的管件，彼此不相通；
7、氮气加热器，所述氮气加热器用于将供气系统提供的氮气进行加热；
8、气态过滤器，所述气态过滤器用于过滤加热后的氮气并将其迅速、稳定、匀称地输送至外套管内；
9、传感器组件，所述传感器组件包括用于监测氮气加热器输出端的第一传感器组件和监测外套管内部氮气的第二传感器组件。
10、进一步地，所述第一传感器组件包括设置在氮气加热器输出端的用于监测输出氮气的压力的第一压力传感器和监测输出氮气温度的第一温度传感器。
11、进一步地，所述第二传感器组件包括用于监测外套管内部氮气压力的第二压力传感器以及监测外套管内部氮气温度的第二温度传感器。
12、进一步地，所述氮气加热器通过可控硅功率调节器来控制氮气温度的升降。
13、进一步地，所述内套管和外套管采用防腐耐高温的超纯氟材料。
14、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
15、通过设置传感器组件分别对氮气加热器输出的氮气的温度、压力进行控制监测，以及对输入至外套管内部的热氮交底温度、压力进行控制监控，当低温或高温变化时、设定值和输出值不一致时，并通过内部的反馈系统调节输出频率直到两者同步，以此来实现控制显影液温度恒温。
1.一种采用氮气加热控制显影液恒温的装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种采用氮气加热控制显影液恒温的装置，其特征在于，所述第一传感器组件包括设置在氮气加热器(3)输出端的用于监测输出氮气的压力的第一压力传感器(502)和监测输出氮气温度的第一温度传感器(501)。
3.根据权利要求1所述的一种采用氮气加热控制显影液恒温的装置，其特征在于，所述第二传感器组件包括用于监测外套管(1)内部氮气压力的第二压力传感器(504)以及监测外套管(1)内部氮气温度的第二温度传感器(503)。
4.根据权利要求1所述的一种采用氮气加热控制显影液恒温的装置，其特征在于，所述氮气加热器(3)通过可控硅功率调节器来控制氮气温度的升降。
5.根据权利要求1所述的一种采用氮气加热控制显影液恒温的装置，其特征在于，所述内套管和外套管采用防腐耐高温的超纯氟材料。
