本发明涉及铜蚀刻液制备，具体为一种铜蚀刻液及其制备方法。
背景技术：
1、铜蚀刻液是一种用于去除铜材料表面不需要的部分的化学溶液，用来腐蚀或蚀刻铜材料，它在电子制造、印刷电路板生产和半导体制造等领域中有广泛应用，铜蚀刻液能够选择性地溶解铜，从而在固体材料上形成图案或者去除不需要的铜层，也可在半导体显示技术、电路板制造等领域中制作精细线路和图形，随着科技的发展，对铜蚀刻液的要求越来越高，特别是在蚀刻效率、选择性、环保性等方面。
2、但是，现有铜蚀刻液的蚀刻效率以及、环保性能等均有待提高，且对于铜蚀刻液的使用寿命低，不利于对其进行循环再生利用，急需提供一种铜蚀刻液及其制备方法解决上述提出的问题。
技术实现思路
1、本发明的目的在于提供一种铜蚀刻液及其制备方法，以解决上述背景技术提出的现有铜蚀刻液的蚀刻效率以及、环保性能等均有待提高，且对于铜蚀刻液的使用寿命低，不利于对其进行循环再生利用的问题。
2、为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种铜蚀刻液，包括以下组分：
3、无机酸：占11.5％，过氧化物：占41％，有机酸：占41％，螯合剂：占0.5％～5.0％，蚀刻控制剂：占0.05％～0.5％，表面活性剂：占0.1％～0.5％，其他添加剂：占0.1％～1.0％。
4、优选的，所述铜蚀刻液的具体制作步骤如下：
5、一、铜蚀刻液制备工艺
6、步骤1：在蚀刻液槽中加入预定量的水，然后添加所需的化学物质，将上述组分按照质量百分比加入，通过添加不同的组分，不仅提高了蚀刻效率，还增强了蚀刻液的选择性和稳定性，同时，它的环保性能也得到了显著提升，这些成分相互作用，使得铜蚀刻液具有高稳定性、长蚀刻寿命，并且能够有效提高蚀刻速率，减少氧化剂的消耗，从而延长蚀刻液的使用寿命；
7、步骤2：对蚀刻液槽中的水和化学物质进行搅拌混合，直到达到所需的浓度和均匀性；
8、步骤3：根据蚀刻速率和材料的要求，调整蚀刻液的浓度，实时监测蚀刻液中铜离子的浓度，并通过自动控制系统根据需要调整添加蚀刻剂，以维持最佳浓度，可以确保蚀刻液始终保持在最佳状态，从而提高生产效率和产品质量；
9、步骤4：调整溶液的温度，蚀刻液的工作温度直接影响蚀刻速率，需要根据工艺要求维持在一定范围内，通常情况下，较低的温度会减缓蚀刻速率，而较高的温度会增加蚀刻速率；
10、步骤5：测试蚀刻液的ph值，确保蚀刻液的ph值处于适当的范围内，ph值过高可能会影响蚀刻液的选择性和蚀刻速率；
11、步骤6：保持蚀刻液的活性，添加一些添加剂，如表面活性剂或络合剂；
12、步骤7：定期清除沉积在蚀刻槽底部的金属杂质和其他污染物；
13、二、铜蚀刻液再生方法
14、(1)电解法
15、电解法是一种通过电化学反应来分离和提纯金属的技术，在铜蚀刻液的再生过程中，通过电解可以将铜离子从蚀刻液中沉积出来，同时将杂质离子转化为无害或易于处理的形式，可以直接在原溶液中进行，不需要额外的化学试剂，且过程相对环保；
16、(2)膜技术
17、膜技术是利用特殊设计的半透膜来分离和提纯物质的技术，在铜蚀刻液的处理中，通过膜过滤将铜离子和其他杂质离子从溶液中分离出来，可以实现连续操作，处理效果好，对环境影响小，同时，膜技术还可以与其他方法结合使用，以提高整体的回收效率。
18、电解法和膜技术是目前较为先进的铜蚀刻液再生技术，它们不仅能有效回收铜资源，降低生产成本，还能减少环境污染。
19、优选的，步骤3中的蚀刻剂为盐酸和过氧化氢，蚀刻液在维持最佳浓度，可以确保蚀刻液始终保持在最佳状态，从而提高生产效率和产品质量。
20、优选的，铜蚀刻液具有腐蚀性和毒性，在制备铜蚀刻液的过程中应采取适当的安全措施，如佩戴防护手套、呼吸器和眼镜等，保证铜蚀刻液生产过程中的安全性，避免出现意外。
21、优选的，选择合适的铜蚀刻液再生方法时，需要考虑多方面的因素，如成本、环境影响、再生效率以及产品的纯度等，通常情况下，电解法适用于小型生产线，而膜技术则更适合大规模的工业生产，实现铜蚀刻液的再生，可对铜蚀刻液进行循环使用，提高整体的使用寿命，不仅能有效回收铜资源，降低生产成本，还能减少环境污染。
22、与现有技术相比，本发明的有益效果是：
23、1)该铜蚀刻液及其制备方法，通过添加不同的组分，不仅提高了蚀刻效率，还增强了蚀刻液的选择性和稳定性，同时，它的环保性能也得到了显著提升，这些成分相互作用，使得铜蚀刻液具有高稳定性、长蚀刻寿命，并且能够有效提高蚀刻速率，减少氧化剂的消耗，从而延长蚀刻液的使用寿命。
24、2)该铜蚀刻液及其制备方法，利用电解法将铜离子从蚀刻液中沉积出来，同时将杂质离子转化为无害或易于处理的形式或者使用膜过滤将铜离子和其他杂质离子从溶液中分离出来，实现铜蚀刻液的再生，可对铜蚀刻液进行循环使用，提高整体的使用寿命，不仅能有效回收铜资源，降低生产成本，还能减少环境污染；
25、3)该铜蚀刻液及其制备方法，可定期检测并补充蚀刻液中的化学物质，以保持其浓度和性能，保证蚀刻液的选择性和蚀刻速率，以维持最佳浓度，可以确保蚀刻液始终保持在最佳状态，从而提高生产效率和产品质量；
26、(4)该铜蚀刻液及其制备方法，调整蚀刻液的温度以及ph值，避免过高的温度以及ph值影响蚀刻液的选择性和蚀刻速率，并且可添加表面活性剂或络合剂等添加剂，保持蚀刻液的活性。
1.一种铜蚀刻液，其特征在于：包括以下组分：
2.一种如权利要求1所述的铜蚀刻液的制备方法，其特征在于：所述铜蚀刻液的具体制作步骤如下：
3.根据权利要求2所述的一种铜蚀刻液的制备方法，其特征在于：步骤3中的蚀刻剂为盐酸和过氧化氢。
4.根据权利要求2所述的一种铜蚀刻液的制备方法，其特征在于：铜蚀刻液具有腐蚀性和毒性，在制备铜蚀刻液的过程中应采取适当的安全措施，如佩戴防护手套、呼吸器和眼镜等。
5.根据权利要求2所述的一种铜蚀刻液的制备方法，其特征在于：选择合适的铜蚀刻液再生方法时，需要考虑多方面的因素，如成本、环境影响、再生效率以及产品的纯度等，通常情况下，电解法适用于小型生产线，而膜技术则更适合大规模的工业生产。
