本发明的实施方式涉及涂敷装置、弯月面头(英文：meniscus head)以及涂敷方法。
背景技术：
1、由于使用了有机半导体的有机薄膜太阳能电池、有机/无机混合太阳能电池能够在活性层的形成中应用廉价的涂敷法，所以作为低成本的太阳能电池而备受期待。为了以低成本实现有机薄膜太阳能电池、有机/无机混合太阳能电池，要求均匀地涂敷形成有机活性层、其他层的涂敷材料。各层的膜厚为几nm到几100nm左右，要求以大面积且均匀性良好地形成这样的非常薄的层。例如，作为能够以低成本大面积地涂敷极薄的层的辊对辊(r2r)涂敷法之一，已知有弯月面涂敷法。作为弯月面涂敷法的、从多个喷嘴向涂敷棒供给液体而得到大面积的涂敷膜的方法简便，器具的构造也简单。但是，有时难以将相邻的喷嘴的中间部分的膜厚控制为与其他部分相同的膜厚而得到均匀的膜厚。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2016-155113号公报
技术实现思路
1、发明要解决的课题
2、本发明要解决的课题在于提供一种能够得到大面积且均匀的涂敷膜的涂敷装置、弯月面头以及涂敷方法。
3、用于解决课题的手段
4、所提供的实施方式如以下所述。
5、一种涂敷装置，用于向基材的表面供给涂敷液，通过弯月面法形成涂敷膜，具备：
6、输送上述基材的部件；
7、涂敷棒；
8、狭缝式模头，向上述涂敷棒的表面供给上述涂敷液；以及
9、涂敷液供给部件，向狭缝式模头供给上述涂敷液，
10、各部件配置成，使得从上述狭缝式模头供给的上述涂敷液经由上述涂敷棒的表面供给到上述涂敷棒与上述基材之间而形成弯月面。
11、在[1]所记载的涂敷装置中，上述涂敷棒的与长度方向垂直的面的截面形状固定。
12、在[1]或者[2]所记载的涂敷装置中，上述涂敷装置还具备位置检测部件，该位置检测部件检测上述涂敷棒的长度方向与上述狭缝式模头的涂敷液排出口平行的情况。
13、在[1]～[3]的任一个所记载的涂敷装置中，上述涂敷装置还具备间隔测定部件，该间隔测定部件测定上述涂敷棒与上述狭缝式模头的间隔。
14、在[4]所记载的涂敷装置中，上述间隔测定部件通过测定上述涂敷棒与上述狭缝式模头之间的电阻，来测定上述间隔。
15、在[1]～[5]的任一个所记载的涂敷装置中，上述涂敷装置还具备间隔控制部件，该间隔控制部件控制上述涂敷棒与上述狭缝式模头的距离。
16、在[1]～[6]的任一个所记载的涂敷装置中，具备在上述狭缝式模头的个数以下的个数的上述涂敷液供给部件。
17、在[1]～[7]的任一个所记载的涂敷装置中，具备多个狭缝式模头。
18、在[8]所记载的涂敷装置中，上述涂敷装置还具备狭缝式模头间隔调整部件，该狭缝式模头间隔调整部件调整相邻的狭缝式模头的间隔。
19、一种弯月面头，与基材分离配置，用于向上述基材的表面供给涂敷液而形成涂敷膜，
20、上述弯月面头具备：
21、涂敷棒；
22、狭缝式模头，向上述涂敷棒的表面供给上述涂敷液；以及
23、固定部件，将上述涂敷棒与上述狭缝式模头连结并固定，
24、从上述狭缝式模头排出的上述涂敷液经由上述涂敷棒的表面供给到上述涂敷棒与上述基材的间隙，形成弯月面，从而能够形成上述涂敷膜。
25、在[10]所记载的弯月面头中，上述涂敷棒的长度方向的长度为30cm以上，狭缝式模头的涂敷液排出口的长度为10cm以下。
26、一种涂敷方法，向涂敷棒与基材之间供给涂敷液，形成弯月面，在上述基材的表面上形成涂敷膜，包括如下工序：
27、(s31)向狭缝式模头供给上述涂敷液并进行空气放出的工序；
28、(s32)控制上述涂敷棒与上述狭缝式模头的间隔的工序；
29、(s33)控制上述涂敷棒与上述基材的间隔的工序；
30、(s34)将上述涂敷液从上述狭缝式模头经由上述涂敷棒的表面供给到上述涂敷棒与上述基材之间而形成弯月面的工序；以及
31、(s35)输送上述基材来制作上述涂敷膜的工序。
32、在[12]所记载的涂敷方法中，上述涂敷棒的长度方向的长度为30cm以上，上述狭缝式模头的涂敷液排出口的长度为10cm以下。
33、在[12]或者[13]所记载的涂敷方法中，上述涂敷液的、涂敷时的温度下的粘性为2×10-3kg·m/s以下。
34、在[12]～[14]的任一个所记载的涂敷方法中，在工序(s32)中，测定上述涂敷棒与上述狭缝式模头的间隔的方法为测定上述涂敷棒与上述狭缝式模头之间的电阻。
35、在[12]～[15]的任一个所记载的涂敷方法中，上述涂敷方法还包括确认上述狭缝式模头的涂敷液排出口配置成与上述涂敷棒平行的工序。
36、在[12]～[16]的任一个所记载的涂敷方法中，在输送上述基材之前开始上述涂敷液的供给，从而在上述涂敷棒与上述基材的间隙之间形成弯月面。
1.一种涂敷装置，用于向基材的表面供给涂敷液，通过弯月面法形成涂敷膜，具备：
2.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中，
3.根据权利要求1或2所述的涂敷装置，其中，
4.根据权利要求1或2所述的涂敷装置，其中，
5.根据权利要求4所述的涂敷装置，其中，
6.根据权利要求1或2所述的涂敷装置，其中，
7.根据权利要求1或2所述的涂敷装置，其中，
8.根据权利要求1或2所述的涂敷装置，其中，
9.根据权利要求8所述的涂敷装置，其中，
10.一种弯月面头，与基材分离配置，用于向上述基材的表面供给涂敷液而形成涂敷膜，
11.根据权利要求10所述的弯月面头，其中，
12.一种涂敷方法，向涂敷棒与基材之间供给涂敷液，形成弯月面，在上述基材的表面上形成涂敷膜，包括如下工序：
13.根据权利要求12所述的涂敷方法，其中，
14.根据权利要求12或13所述的涂敷方法，其中，
15.根据权利要求12或13所述的涂敷方法，其中，
16.根据权利要求12或13所述的涂敷方法，其中，
17.根据权利要求12或13所述的涂敷方法，其中，
