光学干涉滤波器的制作方法

    技术2024-10-29  12



    背景技术:

    1、光学设备可以用于捕获有关光的信息。例如,光学设备可以捕获与光相关联的波长集合的信息。光学设备可以包括捕获信息的传感器元件(例如,光传感器、光谱传感器和/或图像传感器)集合。例如,可以利用传感器元件阵列来捕获与多个波长相关的信息。传感器元件阵列可以与光学滤波器相关联。光学滤波器可以包括与通过传感器元件阵列的光的第一波长范围相关联的通带。光学滤波器可以与阻挡第二波长范围的光通过传感器元件阵列相关联。


    技术实现思路

    1、在一些实现中,一种光学干涉滤波器包括基板;以及设置在基板上的多个层集合,其中每个层集合包括:至少包括钪、铝和氮的第一层;以及至少包括硅和氧的第二层。

    2、在一些实现中,一种光学干涉滤波器包括设置在基板上的一个或多个层集合,其中每个层集合包括:至少包括钪、铝和氮的第一层;以及至少包括硅和氧的第二层。

    3、在一些实现中,一种晶片包括多个光学干涉滤波器,其中每个光学干涉滤波器包括:基板;以及设置在基板上的一个或多个层集合,其中每个层集合包括:至少包括钪、铝和氮的第一层;以及至少包括硅和氧的第二层。



    技术特征:

    1.一种光学干涉滤波器,包括:

    2.根据权利要求1所述的光学干涉滤波器,其中所述第一层包括以下项中的至少一项:

    3.根据权利要求1所述的光学干涉滤波器,其中所述第二层包括氢化硅(si:h)材料。

    4.根据权利要求1所述的光学干涉滤波器,其中所述第一层的厚度在2纳米至40纳米的范围内。

    5.根据权利要求1所述的光学干涉滤波器,其中所述多个层集合被配置为使以下光的阈值百分比通过:所述光与800纳米至1000纳米的光谱范围相关联,

    6.根据权利要求1所述的光学干涉滤波器,其中所述多个层集合中的至少一个层集合设置在所述基板的第一表面上,并且

    7.根据权利要求1所述的光学干涉滤波器,其中所述第一层的表面设置在所述第二层的表面上。

    8.根据权利要求1所述的光学干涉滤波器,其中所述多个层集合的净应力允许所述光学干涉滤波器的弯曲量小于或等于所述光学干涉滤波器的关键尺寸的3%。

    9.一种光学干涉滤波器,包括:

    10.根据权利要求9所述的光学干涉滤波器,其中针对0度至30度之间的入射角,所述光学干涉滤波器的中心波长处的角度偏移小于所述中心波长的1.0%。

    11.根据权利要求10所述的光学干涉滤波器,其中所述中心波长是940纳米。

    12.根据权利要求9所述的光学干涉滤波器,其中所述一个或多个层集合的净应力的绝对值允许所述光学干涉滤波器的弯曲量小于或等于所述光学干涉滤波器的关键尺寸的10%。

    13.根据权利要求9所述的光学干涉滤波器,其中所述光学干涉滤波器被配置为使与800纳米至1600纳米的光谱范围相关联的光通过。

    14.根据权利要求9所述的光学干涉滤波器,其中:

    15.根据权利要求9所述的光学干涉滤波器,其中所述第一层的厚度在2纳米至40纳米的范围内。

    16.一种晶片,包括:

    17.根据权利要求16所述的晶片,其中所述第一层的厚度在2纳米至40纳米的范围内。

    18.根据权利要求16所述的晶片,其中所述一个或多个层集合的净应力的绝对值小于或等于50兆帕。

    19.根据权利要求16所述的晶片,其中针对0度至30度之间的入射角,所述多个光学干涉滤波器中的光学干涉滤波器的中心波长处的角度偏移小于所述中心波长的1.0%。

    20.根据权利要求16所述的晶片,其中所述多个光学干涉滤波器中的光学干涉滤波器被配置为使与800纳米至1600纳米的光谱范围相关联的光通过。


    技术总结
    一种光学干涉滤波器(200)包括基板(205)和设置在基板(205)上的一个或多个层集合(210)。每个层集合(210)包括至少包括钪、铝和氮的第一层(215)以及至少包括硅和氧的第二层(220)。第一层(215)可以包括氮化钪铝(ScAlN)材料或钪铝氮氧化物(ScAlNO)材料中的至少一种。第二层(220)可以包括氢化硅(Si:H)材料。一个或多个层集合(210)的净应力的绝对值可以小于或等于50兆帕。

    技术研发人员:W·D·霍克
    受保护的技术使用者:VIAVI科技有限公司
    技术研发日:
    技术公布日:2024/10/24
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