本实用新型属于废液处理领域，尤其涉及一种酸性蚀刻液电解后液处理系统。
背景技术：
酸性蚀刻液是用于印制电路板线路制作和多层板内层制作的蚀刻液，随着电路板行业的迅速发展，产生的废液量越来越大，发掘的污染物种类也越来越多，对环境造成巨大的危害，此类问题也成为社会的重要课题。为了减少甚至杜绝此类污染的发生，我们需要对酸性蚀刻液进行回收循环利用。
目前对于酸性蚀刻废液的再生利用大多采用化学或电化学的方法，但传统的方法废液中总铜的含量不断增大，比重增加，必须排掉一部分废液或者补加子液和水来控制参数，这样不仅污染大，影响环境，而且还会造成铜和酸的浪费。
技术实现要素：
本实用新型所要解决的技术问题为如何通过简单、低成本的技术实现种酸性蚀刻液电解后废液的再生利用。
为解决上述技术问题，本实用新型是这样实现的，一种酸性蚀刻液电解后液处理系统，包括：
电解槽，具有一出液口和出气口，且内置有酸性蚀刻液，用于对所述酸性蚀刻液进行电解提铜，产生氯气，得到电解后液；
再生液调配缸，具有进液口和循环出液口，所述进液口通过管道与所述电解槽的出液口连接以接收电解后液；
射流器，其进气口通过导气管与所述电解槽的出气口连接以接收所述氯气，其扩散管深入到所述再生液调配缸中；
液体泵，其一端通过管道连接所述再生液调配缸的循环出液口，另一端通过管道连接所述射流器的进液口，用于将所述再生液调配缸中的电解后液通过所述管道抽取至所述射流器的进液口。
进一步地，所述酸性蚀刻液电解后液处理系统还包括：曝气装置，用于向所述再生液调配缸中的电解后液输送气体以进行搅拌。
进一步地，所述酸性蚀刻液电解后液处理系统还包括：后续处理系统，用于向经过所述再生液调配缸处理过的电解后液中加入氯化钠、盐酸并搅拌均匀。
更进一步地，所述电解槽的阳极为石墨电极，阴极为钛或钛合金板状电极。
更进一步地，所述电解槽中阴极与阳极之间的距离为55mm。
更进一步地，所述电解槽的电流密度为300a/m2。
本实用新型所提供的酸性蚀刻液电解后液处理系统通过简单的结构实现了电解后废液的再生利用，可节约能耗和药品，提高经济效益。
附图说明
图1是本实用新型第一实施例提供的酸性蚀刻液电解后液处理系统的结构图；
图2是本实用新型第二实施例提供的酸性蚀刻液电解后液处理系统的结构图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
参照图1，本实用新型第一实施例提供的酸性蚀刻液电解后液处理系统包括：电解槽1、射流器2、再生液调配缸3、液体泵4，其中，电解槽1具有一出液口和出气口，且电解槽1中内置有酸性蚀刻液，电解槽1对该酸性蚀刻液进行电解提铜，产生氯气，得到电解后液，并且，产生的氯气通过位于上方的出气口排出，电解后液通过位于下方的出液口排出。
射流器2包括混气室21和扩散管22，混气室21和扩散管22之间为喉管，混气室21具有进气口2a、进液口2b、出液口2c，扩散管22连接至出液口2c，进气口2a通过导气管a与电解槽1的出气口连接以接收氯气，扩散管22深入到再生液调配缸3中。
再生液调配缸3具有进液口和循环出液口，进液口通过管道b与电解槽1的出液口连接以接收电解后液。液体泵4的一端通过管道b连接再生液调配缸3的循环出液口，另一端通过管道b连接射流器2的进液口2b，用于将再生液调配缸3中的电解后液通过管道b抽取至射流器2的进液口2b。
电解槽1电解提铜后，阳极产生的氯气通过导气管a进入到射流装置2的混气室21内，电解后液通过液体泵4打入到射流装置2的混气室21，在混气室21形成真空，在喉管处氯气与电解后液剧烈混合，形成气液混合体，从扩散管22排出又进入到再生液调配缸3。
电解再生某线路板生产线蚀刻废液，蚀刻废液量1000m3/d，相比没有使用本实用新型所提供的酸性蚀刻液电解后液处理系统，能耗节约40％，节约使用药品100kg/d，经济效益提高30％。
作为本实施例的一个示例，电解槽1的阳极可选用石墨电极，阴极可选用钛或钛合金板状电极，电解槽1中阴极与阳极之间的距离为55mm，电解槽1的电流密度为300a/m2。
与第一实施例相结合，图2示出了本实用新型第二实施例提供的酸性蚀刻液电解后液处理系统的结构，在第一实施例的基础上，第二实施例进一步包括曝气装置5，曝气装置5通过管道深入到再生液调配缸3的液体中，用于向再生液调配缸3中的电解后液输送气体以进行搅拌，以提高整个系统的工作效率。
进一步地，与上述第一、第二实施例相结合，酸性蚀刻液电解后液处理系统还可以包括一后续处理系统，用于向经过再生液调配缸3处理过的电解后液中加入氯化钠、盐酸并搅拌均匀，然后再打入到子液桶，实现再生液循环利用。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
1.一种酸性蚀刻液电解后液处理系统，其特征在于，包括：
电解槽，具有一出液口和出气口，且内置有酸性蚀刻液，用于对所述酸性蚀刻液进行电解提铜，产生氯气，得到电解后液；
再生液调配缸，具有进液口和循环出液口，所述进液口通过管道与所述电解槽的出液口连接以接收电解后液；
射流器，其进气口通过导气管与所述电解槽的出气口连接以接收所述氯气，其扩散管深入到所述再生液调配缸中；
液体泵，其一端通过管道连接所述再生液调配缸的循环出液口，另一端通过管道连接所述射流器的进液口，用于将所述再生液调配缸中的电解后液通过所述管道抽取至所述射流器的进液口。
2.如权利要求1所述的酸性蚀刻液电解后液处理系统，其特征在于，还包括：
曝气装置，用于向所述再生液调配缸中的电解后液输送气体以进行搅拌。
3.如权利要求1所述的酸性蚀刻液电解后液处理系统，其特征在于，还包括：
后续处理系统，用于向经过所述再生液调配缸处理过的电解后液中加入氯化钠、盐酸并搅拌均匀。
4.如权利要求1至3任一项所述的酸性蚀刻液电解后液处理系统，其特征在于，所述电解槽的阳极为石墨电极，阴极为钛或钛合金板状电极。
5.如权利要求1至3任一项所述的酸性蚀刻液电解后液处理系统，其特征在于，所述电解槽中阴极与阳极之间的距离为55mm。
6.如权利要求1至3任一项所述的酸性蚀刻液电解后液处理系统，其特征在于，所述电解槽的电流密度为300a/m2。
技术总结