本实用新型涉及玻璃镀膜技术领域，特别是涉及一种手机玻璃镀膜用的磁控溅射靶组件。
背景技术：
玻璃镀膜工艺是在玻璃表面涂渡一层或多层金属膜或金属化合物，以改变玻璃的光学性能，目前比较先进的玻璃镀膜工艺包括有磁控贱射镀膜。磁控溅射镀膜的工作原理如下：
电子在电场的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出ar正离子和新的电子，新电子飞向基片，ar正离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜。
随着玻璃镀膜的进行，靶材不断消耗，在靶材表面形成特定的凹槽，待凹槽深度到达一定程度后，靶材报废而不能继续使用，而此时，靶材表面尚有部分可以利用的材料，直接报废使得成本浪费严重。
技术实现要素：
本实用新型主要解决的技术问题是提供一种手机玻璃镀膜用的磁控溅射靶组件，实现靶材的多次利用，减少成本的浪费。
为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：提供一种手机玻璃镀膜用的磁控溅射靶组件，包括：固定板和板状靶材，所述板状靶材平行设置在固定板的顶面，所述固定板的顶面中部内凹设置有沿长度方向延伸的方槽，所述板状靶材底面中部下凸设置有位于方槽中的凸块，所述固定板两侧间隔设置有延伸至方槽侧壁的螺纹孔，所述螺纹孔中设置有延伸至方槽中的螺杆，所述板状靶材底面下凸设置有位于凸块两侧的条状的撑筋，所述螺杆末端同心设置有贯穿撑筋的销轴，销轴的直径小于螺杆的直径。
在本实用新型一个较佳实施例中，所述固定板的底面设置有磁体。
在本实用新型一个较佳实施例中，所述凸块的截面为倒置等腰梯形。
在本实用新型一个较佳实施例中，所述凸块底面和撑筋的底面分别与方槽底部接触。
在本实用新型一个较佳实施例中，所述销轴末端设置有倒圆角。
在本实用新型一个较佳实施例中，所述螺杆前端设置有十字槽。
本实用新型的有益效果是：本实用新型指出的一种手机玻璃镀膜用的磁控溅射靶组件，特别设计了截面为倒置等腰梯形的凸块，增加镀膜时板状靶材中部有效利用深度和使用寿命，待板状靶材中部消耗到一定程度后，通过固定板两侧螺纹孔中螺杆的旋转，进行板状靶材的向左或者向右移动，配合磁体，利用板状靶材顶面左右两部分剩余的材料进行磁控溅射，提升材料的利用率，降低成本。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：
图1是本实用新型一种手机玻璃镀膜用的磁控溅射靶组件一较佳实施例的截面结构示意图。
具体实施方式
下面将对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1，本实用新型实施例包括：
如图1所示的手机玻璃镀膜用的磁控溅射靶组件，包括：固定板1和板状靶材2，所述板状靶材2平行设置在固定板1的顶面，所述固定板1的底面设置有磁体9，磁体9与固定板1的相对位置保持稳定，通过板状靶材2的左右调节实现材料的梯次利用。
所述固定板1的顶面中部内凹设置有沿长度方向延伸的方槽6，所述板状靶材2底面中部下凸设置有位于方槽6中的凸块7，所述凸块7的截面为倒置等腰梯形，凸块7与板状靶材2一体化结构，增加镀膜时板状靶材2中部有效利用深度和使用寿命。
所述固定板1两侧间隔设置有延伸至方槽6侧壁的螺纹孔3，所述螺纹孔3中设置有延伸至方槽6中的螺杆4，所述螺杆4前端设置有十字槽，方便采用螺丝刀进行螺杆4的旋转，驱动螺杆4的轴向移动。
所述板状靶材2底面下凸设置有位于凸块7两侧的条状的撑筋8，撑筋8与板状靶材2焊接固定，撑筋8可以采用普通材料，减低成本。所述凸块7底面和撑筋8的底面分别与方槽6底部接触，提升支撑稳定性，并使得板状靶材2顶面与固定板1平行，组装便利。
所述螺杆4末端同心设置有贯穿撑筋8的销轴5，销轴5的直径小于螺杆4的直径，形成阶梯轴结构，实现撑筋8的推动和限位，并把板状靶材2牢牢固定在固定板1上，结构牢固，安装和拆卸比较方便，而且不破坏板状靶材2表面结构，有利于增加板状靶材2表面的利用面积。
撑筋8上设置有与销轴5对应的通孔，所述销轴5末端设置有倒圆角，方便销轴5插入通孔，由于通孔直径小于螺杆4，使得螺杆4可以推动撑筋8，进行板状靶材2的位移和限位，提升材料利用率。
综上所述，本实用新型指出的一种手机玻璃镀膜用的磁控溅射靶组件，组装方便，调节灵活，实现了板状靶材2深度和宽度方向的梯次利用，大大降低了手机玻璃镀膜生产中材料的成本。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
1.一种手机玻璃镀膜用的磁控溅射靶组件，其特征在于，包括：固定板和板状靶材，所述板状靶材平行设置在固定板的顶面，所述固定板的顶面中部内凹设置有沿长度方向延伸的方槽，所述板状靶材底面中部下凸设置有位于方槽中的凸块，所述固定板两侧间隔设置有延伸至方槽侧壁的螺纹孔，所述螺纹孔中设置有延伸至方槽中的螺杆，所述板状靶材底面下凸设置有位于凸块两侧的条状的撑筋，所述螺杆末端同心设置有贯穿撑筋的销轴，销轴的直径小于螺杆的直径。
2.根据权利要求1所述的手机玻璃镀膜用的磁控溅射靶组件，其特征在于，所述固定板的底面设置有磁体。
3.根据权利要求1所述的手机玻璃镀膜用的磁控溅射靶组件，其特征在于，所述凸块的截面为倒置等腰梯形。
4.根据权利要求1所述的手机玻璃镀膜用的磁控溅射靶组件，其特征在于，所述凸块底面和撑筋的底面分别与方槽底部接触。
5.根据权利要求1所述的手机玻璃镀膜用的磁控溅射靶组件，其特征在于，所述销轴末端设置有倒圆角。
6.根据权利要求1所述的手机玻璃镀膜用的磁控溅射靶组件，其特征在于，所述螺杆前端设置有十字槽。
技术总结