本实用新型涉及镀膜设备领域，更具体地说，尤其涉及一种用于真空镀膜的公自转式镀膜设备。
背景技术：
传统的镀膜机转架都是简单的公转，只要启动转架的传动装置，转架在镀膜机内部就会不停的旋转，无法进行自转反面镀膜。
当产品需要两面镀膜的时候，镀好一面后需要停机开门，翻身重新关门抽真空升温再开镀，而开门翻身再抽真空升温要消耗时间和电能，为了节省时间和电能，通过改进，使其能够不开门自动翻身，从而节省了开门抽真空和升温的时间和电能。
而现有公、自转的转架，在镀膜过程中公转和自转都在不停的转动，不能有选择性均匀地镀膜，而只有公转的转架，又不能实现在同一炉批次内自动翻面，若要同时镀两面，须在转架的内侧增加镀膜源，设备购买成本增加，且难以保证两面的一致性。
技术实现要素：
本实用新型针对上述缺点对现有技术进行改进，提供一种用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，技术方案如下：
用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，包括有炉体，该炉体内设有镀膜炉腔，所述镀膜炉腔的内部设置有公转盘转动机构和自转齿轮机构，内壁一侧连接有靶材，该公转盘转动机构连接于炉体的内侧底部，其包括有固定连接炉体的底盘，所述底盘的上方均匀排列连接有第一支撑柱若干组，并通过第一支撑柱连接有不动大齿盘，该不动大齿盘的外周均匀围绕啮合有小齿轮若干组，并形成行星齿轮机构，所述小齿轮的底部中心均通过延伸穿设于公转盘，顶端中心均延伸穿设于挂架托盘，该公转盘的底部固定连接有传动齿轮，所述传动齿轮的下方可转动连接底盘，上方通过均匀排列的第二支撑柱连接挂架托盘，该挂架托盘的顶端面围绕通过公转支撑杆连接有公转上盘，所述公转上盘与挂架托盘之间可拆卸连接有ar固定架组件若干组，该ar固定架组件依次围绕设置于挂架托盘的边沿；
所述自转齿轮机构设置于炉体的内侧底部与底盘之间，其包括有旋转缸，该旋转缸固定嵌设于炉体的外侧底部，其旋转轴穿过炉体并设置于镀膜炉腔的内部，所述旋转缸的旋转轴连接有曲柄摇杆机构，该曲柄摇杆机构的另一端连接有导向滑块，所述导向滑块的下方连接有导向轨，该导向轨固定连接于炉体的内侧底部，所述导向滑块的上方固定连接有齿条，该齿条与自转齿轮相啮合，所述自转齿轮套设于ar固定架组件的底端，且该ar固定架组件于自转齿轮的上方均固定穿设有自转定位器。
所述炉体的内侧顶端对应公转上盘的中心延伸设置有上支撑座，并通过其活动连接公转上盘。
进一步，所述上支撑座的下方连接有离子源除尘装置，该离子源除尘装置的外周可转动连接有挡板轨道，并通过挡板轨道承托离子源除尘装置，所述挡板轨道的上端边沿固定连接炉体的内侧顶端。
进一步，所述离子源除尘装置包括有等离子除尘基座，该等离子除尘基座的外周通过挡板轨道使其限位设置于上支撑座的下方，所述等离子除尘基座的下方外周围绕连接公转上盘，底端连接有离子源发散杆若干组，该离子源发散杆的另一端连接底盘。
进一步，所述等离子除尘基座的底端连接离子源发散杆有四组，其呈十字形状均匀分布设置。
所述ar固定架组件包括有挂架及连接于挂架两端的自转下轴和定位上轴，该挂架的上方通过定位上轴活动穿设于公转上盘，该挂架的下方通过自转下轴从上到下依次穿设有自转定位器和与齿条相啮合的自转齿轮，使挂架进行限位自转，所述挂架与靶材相对应设置。
旋转缸旋转180度带动曲柄摇杆机构把运动由摇杆传递到滑块上，滑块上装有能够让自转齿轮旋转足够180度的齿条，在公转的同时，由于此齿条与自转齿轮相啮合，带动带有产品的挂具旋转实现了翻身，而齿轮的上端有自转定位器，该自转定位器为磨擦盘，此磨擦盘与自转下轴通过平键固定联接，在重力作用下压在自转齿轮的上表面，当轴的转角大于180度时，由销子限位，磨擦盘打滑从而达到准确翻身的目的，当翻完身后，旋转缸反转，滑块退回，挂架保持了不动，实现再镀另一面的目的，并且可以实现多次反复翻身镀膜的目的。
所述传动齿轮的下方通过呈圆环状结构的导轨活动连接底盘。
所述第二支撑柱固定连接传动齿轮，并通过该第二支撑柱使挂架托盘随传动齿轮旋转。
所述公转支撑杆围绕挂架托盘的顶端面设置有四组，其呈十字形状均匀分布设置，该公转支撑杆均连接公转上盘，并使公转上盘随挂架托盘旋转。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：本实用新型的公转盘转动机构通过采用行星齿轮机构驱动挂架托盘实现ar固定架组件公转，而挂架托盘通过公转支撑杆连接公转上盘，能够使公转时ar固定架组件行走状态更稳定，而自转齿轮机构通过曲柄摇杆机构使齿条与自转齿轮相啮合，实现自转下轴旋转带动挂具180度翻身进行反面镀膜，并通过自转定位器使挂具达到准确翻身的目的；由于曲柄摇杆机构由旋转缸控制，能够使其选择性均匀地镀膜，实现在同一炉批次内自动翻面，避免开门翻身再抽真空升温需要消耗的时间和电能，有效节省时间和电能，并提高了双面镀膜效率，有效保障了双面镀膜的均匀性和一致性。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍：
图1为本实用新型的全剖结构示意图；
图2为本实用新型的局部立体放大图；
图3为本实用新型的全剖俯视图；
图4为本实用新型的主视图；
图5为本实用新型的立体视图；
包括：炉体1、上支撑座2、挡板轨道3、等离子除尘基座4、公转上盘5、定位上轴6、离子源发散杆7、公转支撑杆8、自转下轴9、自转定位器10、自转齿轮11、齿条12、导向轨13、滑块14、摇杆15、旋转缸16、曲柄摇杆机构17、镀膜炉腔18、ar固定架组件19、靶材20、公转盘转动机构21、自转齿轮机构22、底盘23、第一支撑柱24、不动大齿盘25、小齿轮26、公转盘27、挂架托盘28、传动齿轮29、第二支撑柱30、离子源除尘装置31、挂架32、导轨33。
具体实施方式
下面结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型的保护范围。
下面将结合附图对本实用新型实施例作进一步地详细描述，详细如下：
用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，包括有炉体1，该炉体1内设有镀膜炉腔18，镀膜炉腔18的内部设置有公转盘转动机构21和自转齿轮机构22，内壁一侧连接有靶材20，该公转盘转动机构21连接于炉体1的内侧底部，其包括有固定连接炉体1的底盘23，底盘23的上方均匀排列连接第一支撑柱24有四组，并通过第一支撑柱24连接有不动大齿盘25，该不动大齿盘25的外周均匀围绕啮合小齿轮26有六组，并形成行星齿轮机构，小齿轮26的底部中心均通过延伸穿设于公转盘27，顶端中心均延伸穿设于挂架托盘28，该公转盘27的底部固定连接有传动齿轮29，传动齿轮29的下方可转动连接底盘23，上方通过均匀排列的第二支撑柱30连接挂架托盘28，该挂架托盘28的顶端面围绕通过公转支撑杆8连接有公转上盘5，公转上盘5与挂架托盘28之间可拆卸连接ar固定架组件19有二十五组，该ar固定架组件19依次围绕设置于挂架托盘28的边沿；自转齿轮机构22设置于炉体1的内侧底部与底盘23之间，其包括有旋转缸16，该旋转缸16固定嵌设于炉体1的外侧底部，其旋转轴穿过炉体1并设置于镀膜炉腔18的内部，旋转缸16的旋转轴连接有曲柄摇杆机构17，该曲柄摇杆机构17的另一端连接有导向滑块14，导向滑块14的下方连接有导向轨13，该导向轨13固定连接于炉体1的内侧底部，导向滑块14的上方固定连接有齿条12，该齿条12与自转齿轮11相啮合，自转齿轮11套设于ar固定架组件19的底端，且该ar固定架组件19于自转齿轮11的上方均固定穿设有自转定位器10。
进一步，炉体1的内侧顶端对应公转上盘5的中心延伸设置有上支撑座2，上支撑座2的下方连接有离子源除尘装置31，该离子源除尘装置31包括有等离子除尘基座4，等离子除尘基座4的外周通过挡板轨道3使其限位设置于上支撑座2的下方，并通过挡板轨道3承托等离子除尘基座4，挡板轨道3的上端边沿固定连接炉体1的内侧顶端，等离子除尘基座4的下方外周围绕连接公转上盘5，底端连接离子源发散杆7有四组，其呈十字形状均匀分布设置，该离子源发散杆7的另一端连接底盘23。
进一步，ar固定架组件19包括有挂架32及连接于挂架32两端的自转下轴9和定位上轴6，该挂架32的上方通过定位上轴6活动穿设于公转上盘5，该挂架32的下方通过自转下轴9从上到下依次穿设有自转定位器10和与齿条12相啮合的自转齿轮11，使挂架32进行限位自转，挂架32与靶材20相对应设置。
进一步，滑块14上装有能够让自转齿轮11旋转足够180度的齿条12，在公转的同时，能够带动带有产品的挂具旋转实现了翻身，而齿轮的上端有自转定位器10，该自转定位器10为磨擦盘，此磨擦盘与自转下轴9通过平键固定联接，当轴的转角大于180度时，由销子限位，磨擦盘打滑从而达到准确翻身的目的。
进一步，传动齿轮29的下方通过呈圆环状结构的导轨33活动连接底盘23，第二支撑柱30固定连接传动齿轮29，并通过该第二支撑柱30使挂架托盘28随传动齿轮29旋转，公转支撑杆8围绕挂架托盘28的顶端面设置有四组，其呈十字形状均匀分布设置，该公转支撑杆8均连接公转上盘5，并使公转上盘5随挂架托盘28旋转。
以工作原理结合上述结构为例，在使用时，先将待镀膜的产品装设在挂架32上，挂架32通过定位上轴6和自转下轴9使其固定在挂架托盘28，在进行镀膜前，先抽真空升温，启动驱动电机，带动传动齿轮29转动，公转盘27的底部固定连接传动齿轮29，使公转盘27跟随传动齿轮29转动，小齿轮26的底部中心均通过延伸穿设于公转盘27，顶端中心均延伸穿设于挂架托盘28，使小齿轮26以固定的不动大齿盘25作为中心围绕旋转，形成行星齿轮机构，实现挂架托盘28公转，挂架托盘28带动ar固定架组件19公转，而传动齿轮29上方通过均匀排列的第二支撑柱30连接挂架托盘28，能够实现通过小齿轮26的顶端和第二支撑柱30带动挂架托盘28稳定旋转，而挂架托盘28的顶端面围绕通过公转支撑杆8连接有公转上盘5，使公转上盘5跟随挂架托盘28同时匀速转动，然后进行一面的镀膜；当一面膜已镀好时，由旋转缸16旋转180度带动曲柄摇杆机构17和把运动由摇杆15传递到滑块14上，滑块14上装有能够让自转齿轮11旋转足够180度的齿条12，在公转的同时，由于此齿条12与自转齿轮11相啮合，带动带有产品的挂具旋转实现了翻身，而齿轮的上端有自转定位器10，该自转定位器10为磨擦盘，此磨擦盘与自转下轴9通过平键固定联接，在重力作用下压在自转齿轮11的上表面，当轴的转角大于180度时，由销子限位，磨擦盘打滑从而达到准确翻身的目的，当翻完身后，旋转缸16反转，滑块14退回，挂架32保持了不动，实现再镀另一面的目的，并且可以实现多次反复翻身镀膜的目的。
本实用新型的公转盘转动机构21通过采用行星齿轮机构驱动挂架托盘28实现ar固定架组件19公转，而挂架托盘28通过公转支撑杆8连接公转上盘5，能够使公转时ar固定架组件19行走状态更稳定，而自转齿轮机构22通过曲柄摇杆机构17使齿条12与自转齿轮11相啮合，实现自转下轴9旋转带动挂具180度翻身进行反面镀膜，并通过自转定位器10使挂具达到准确翻身的目的；由于曲柄摇杆机构17由旋转缸16控制，能够使其选择性均匀地镀膜，实现在同一炉批次内自动翻面，避免开门翻身再抽真空升温需要消耗的时间和电能，有效节省时间和电能，并提高了双面镀膜效率，有效保障了双面镀膜的均匀性和一致性。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变形，本实用新型的范围由所附权利要求极其等同物限定。
1.用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，包括有炉体(1)，该炉体(1)内设有镀膜炉腔(18)，其特征在于：所述镀膜炉腔(18)的内部设置有公转盘转动机构(21)和自转齿轮机构(22)，内壁一侧连接有靶材(20)，该公转盘转动机构(21)连接于炉体(1)的内侧底部，其包括有固定连接炉体(1)的底盘(23)，所述底盘(23)的上方均匀排列连接有第一支撑柱(24)若干组，并通过第一支撑柱(24)连接有不动大齿盘(25)，该不动大齿盘(25)的外周均匀围绕啮合有小齿轮(26)若干组，并形成行星齿轮机构，所述小齿轮(26)的底部中心均通过延伸穿设于公转盘(27)，顶端中心均延伸穿设于挂架托盘(28)，该公转盘(27)的底部固定连接有传动齿轮(29)，所述传动齿轮(29)的下方可转动连接底盘(23)，上方通过均匀排列的第二支撑柱(30)连接挂架托盘(28)，该挂架托盘(28)的顶端面围绕通过公转支撑杆(8)连接有公转上盘(5)，所述公转上盘(5)与挂架托盘(28)之间可拆卸连接有ar固定架组件(19)若干组，该ar固定架组件(19)依次围绕设置于挂架托盘(28)的边沿；
所述自转齿轮机构(22)设置于炉体(1)的内侧底部与底盘(23)之间，其包括有旋转缸(16)，该旋转缸(16)固定嵌设于炉体(1)的外侧底部，其旋转轴穿过炉体(1)并设置于镀膜炉腔(18)的内部，所述旋转缸(16)的旋转轴连接有曲柄摇杆机构(17)，该曲柄摇杆机构(17)的另一端连接有导向滑块(14)，所述导向滑块(14)的下方连接有导向轨(13)，该导向轨(13)固定连接于炉体(1)的内侧底部，所述导向滑块(14)的上方固定连接有齿条(12)，该齿条(12)与自转齿轮(11)相啮合，所述自转齿轮(11)套设于ar固定架组件(19)的底端，且该ar固定架组件(19)于自转齿轮(11)的上方均固定穿设有自转定位器(10)。
2.根据权利要求1所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述炉体(1)的内侧顶端对应公转上盘(5)的中心延伸设置有上支撑座(2)，并通过其活动连接公转上盘(5)。
3.根据权利要求2所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述上支撑座(2)的下方连接有离子源除尘装置(31)，该离子源除尘装置(31)的外周可转动连接有挡板轨道(3)，并通过挡板轨道(3)承托离子源除尘装置(31)，所述挡板轨道(3)的上端边沿固定连接炉体(1)的内侧顶端。
4.根据权利要求3所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述离子源除尘装置(31)包括有等离子除尘基座(4)，该等离子除尘基座(4)的外周通过挡板轨道(3)使其限位设置于上支撑座(2)的下方，所述等离子除尘基座(4)的下方外周围绕连接公转上盘(5)，底端连接有离子源发散杆(7)若干组，该离子源发散杆(7)的另一端连接底盘(23)。
5.根据权利要求4所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述等离子除尘基座(4)的底端连接离子源发散杆(7)有四组，其呈十字形状均匀分布设置。
6.根据权利要求1所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述ar固定架组件(19)包括有挂架(32)及连接于挂架(32)两端的自转下轴(9)和定位上轴(6)，该挂架(32)的上方通过定位上轴(6)活动穿设于公转上盘(5)，该挂架(32)的下方通过自转下轴(9)从上到下依次穿设有自转定位器(10)和与齿条(12)相啮合的自转齿轮(11)，使挂架(32)进行限位自转，所述挂架(32)与靶材(20)相对应设置。
7.根据权利要求1所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述传动齿轮(29)的下方通过呈圆环状结构的导轨(33)活动连接底盘(23)。
8.根据权利要求1所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述第二支撑柱(30)固定连接传动齿轮(29)，并通过该第二支撑柱(30)使挂架托盘(28)随传动齿轮(29)旋转。
9.根据权利要求1所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述公转支撑杆(8)围绕挂架托盘(28)的顶端面设置有四组，其呈十字形状均匀分布设置，该公转支撑杆(8)均连接公转上盘(5)，并使公转上盘(5)随挂架托盘(28)旋转。
技术总结