本实用新型涉及石墨烯薄膜技术领域，尤其涉及一种摩擦碾压石墨烯薄膜生产设备。
背景技术：
现有的石墨烯薄膜生产有两种方式，一是磨压，二是碾压。采用这两种方式生产的薄膜，使分子组织分布不匀。纤维相互勾连不良，使薄膜横截面生产若干断层，使薄膜材料在导热、导电方面大打折扣，w/nk值普遍偏低，一般都在300-400之间，不能用于高端电子产品散热。
技术实现要素：
针对上述不足，本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种摩擦碾压石墨烯薄膜生产设备，该设备生产的石墨稀薄膜上纤维分布均匀，使其导热能力、导电能力得到成倍增加。
为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：
一种摩擦碾压石墨烯薄膜生产设备，按照工艺流程依次设置有高温炉、磁场匀料装置和摩擦碾压装置；
所述高温炉包括炉体支架，以及设在所述炉体支架上的炉体，所述炉体的一端设置有进料口，另一端设置有出料口，所述炉体内侧设置有连接所述进料口和所述出料口的碳化硅管；
所述磁场匀料装置包括用于托付材料的传送机构，所述传送机构包括上下相对设置上层传送机构和下层传送机构，所述上层传送机构包括多条并排设置的上层胶带，各所述上层胶带均套设在成组设置的上层主动辊和上层从动辊上，所述上层主动辊位于所述出料口顶端设置，所述上层从动轮位于所述出料口底端设置，使各所述上层胶带倾斜设置；所述下层传送机构包括多条并排设置的下层胶带，各所述下层胶带均套设在成组设置的下层主动辊和下层从动辊上，所述下层主动辊和所述下层从动辊均位于所述出料口底端设置，使各所述下层胶带水平设置；所述磁场均料装置还包括驱动各所述主动辊转动的第一动力装置，以及上下设置的第一磁铁和第二磁铁，所述第一磁铁与所述上层胶带平行设置，所述第二磁铁与所述下层胶带平行设置；
所述摩擦碾压装置包括碾压支架，所述碾压支架上设置有多组、上下成对设置的主动摩擦锥辊和从动摩擦锥辊，以及驱动所述主动摩擦锥辊转动的第二动力装置；各所述主动摩擦锥辊和对应的所述从动摩擦锥辊之间预留有用于轧制石墨烯薄膜的走薄膜间隙。
优选方式为，相邻两所述主动摩擦锥辊之间的所述碾压机架上均设置有用于检测石墨烯薄膜涨紧程度的传感器。
优选方式为，所述第一动力装置和/或所述第二动力装置为调频电机。
优选方式为，所述摩擦碾压装置包括与所述主动摩擦锥辊数量一致的调频电机。
优选方式为，还包括控制电路，所述控制电路分别与所述第一动力装置和所述第二动力装置电连接。
采用上述技术方案后，本实用新型的有益效果是：
由于本实用新型的摩擦碾压石墨烯薄膜生产设备，按照工艺流程依次设置有高温炉、磁场匀料装置和摩擦碾压装置；磁场均料装置包括上层传送机构和下层传送机构，以及上下设置的第一磁铁和第二磁铁，且第一磁铁相对于第二磁铁倾斜设置，从而产生倾斜的磁力线。当胶带在动力装置驱动下，托负起并传送石墨烯材料，在运送过程中，被第一磁铁和第二磁铁之间的倾斜磁场作用，使石墨烯材料倾倒于一个方向，这样，在经过摩擦碾压装置的碾压后，纤维分布均匀。可见，本实用新型的生产设备，从石墨烯薄膜内部结构上做了大的改变，使石墨烯薄膜的导热性能和导电性能，均得到成倍的增加，扩大了应用范围。
附图说明
图1是本实用新型摩擦碾压石墨烯薄膜生产设备的结构示意图;
图2是本实用新型中高温炉的局部剖面图；
图3是本实用新型中摩擦碾压装置的放大结构示意图；
图中：1-高温炉，10-进料口，11-出料口，12-炉体支架，13-碳化硅管，2-磁场均料装置，20-上层胶带，21-第一磁铁，22-第二磁铁，23-下层主动辊，24-下层从动辊，25-下层胶带，26-上层主动辊，27-上层从动辊，3-摩擦碾压装置，31-碾压机架，32-调频电机，33-主动摩擦锥辊，34-从动摩擦锥辊，35-走薄膜间隙，4-传感器，5-石墨烯薄膜。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清除明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
如图1至图3共同所示，一种摩擦碾压石墨烯薄膜生产设备，按照工艺流程依次设置有高温炉1、磁场匀料装置和摩擦碾压装置3；
高温炉1包括炉体支架12，以及设在炉体支架12上的炉体，炉体的一端设置有进料口10，另一端设置有出料口11，炉体内侧设置有连接进料口10和出料口11的碳化硅管13，选用耐高温碳化硅管。
磁场匀料装置2包括用于托付材料的传送机构，传送机构包括上下相对设置上层传送机构和下层传送机构，上层传送机构包括多条并排设置的上层胶带20，各上层胶带20均套设在成组设置的上层主动辊26和上层从动辊27上，上层主动辊26位于出料口11顶端设置，上层从动轮27位于出料口11底端设置，使各上层胶带20倾斜设置。
下层传送机构包括多条并排设置的下层胶带25，各下层胶带25均套设在成组设置的下层主动辊23和下层从动辊24上，下层主动辊23和下层从动辊24均位于出料口11底端设置，使各下层胶带25水平设置。
磁场均料装置2还包括驱动各所述主动辊转动的第一动力装置，以及上下设置的第一磁铁21和第二磁铁22，第一磁铁21与上层胶带20平行设置，第二磁铁22与下层胶带25平行设置，从而使第一磁铁和第二磁铁之间的磁力线倾斜设置，进而使石墨烯材料倾斜于一个方向。
摩擦碾压装置3包括碾压支架，碾压支架上设置有多组、上下成对设置的主动摩擦锥辊33和从动摩擦锥辊34，以及驱动主动摩擦锥辊33转动的第二动力装置；各主动摩擦锥辊33和对应的从动摩擦锥辊34之间预留有用于轧制石墨烯薄膜5的走薄膜间隙35。优选的，相邻两主动摩擦锥辊33之间的碾压机架31上均设置有用于检测石墨烯薄膜5涨紧程度的传感器4，传感器4可选用激光传感器4。
本实施例中第一动力装置和/或第二动力装置为调频电机32，摩擦碾压装置3包括与主动摩擦锥辊33数量一致的调频电机32。
另外本实施例中：还包括控制电路，控制电路分别与激光传感器、第一动力装置和第二动力装置电连接，提高了自动化程度，控制电路可使用plc。
如图1至图3所示，本实用新型的摩擦碾压石墨烯薄膜生产设备，打破了常规的压碾原理，当石墨烯原料从高温炉1的出料口11出来后，在胶带20的衬托下，第一动力装置驱动下主动辊23转动，最终带动胶带20转动，使石墨烯材料被传送。在运送过程中，被第一磁铁21和第二磁铁22形成的磁场作用，使石墨烯材料倾倒于一个方向。传送到摩擦碾压装置3后，各主动摩擦锥辊33在对应调频电机32的驱动下，用不同的压力，不同的速度，不同的方向，对石墨烯初形膜进行摩擦压碾，达到石墨烯分子限位平铺，分子与分子之间只有模方向勾连，纤维分布均匀，使导热导电成倍的提高。
综上所述，本实用新型的生产设备，从石墨烯薄膜5内部结构上做了大的改变，使石墨烯薄膜的导热性能和导电性能，均得到成倍的增加，扩大了应用范围。
以上所述本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同一种摩擦碾压石墨烯薄膜生产设备结构的改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
1.摩擦碾压石墨烯薄膜生产设备，其特征在于，按照工艺流程依次设置有高温炉、磁场匀料装置和摩擦碾压装置；
所述高温炉包括炉体支架，以及设在所述炉体支架上的炉体，所述炉体的一端设置有进料口，另一端设置有出料口，所述炉体内侧设置有连接所述进料口和所述出料口的碳化硅管；
所述磁场匀料装置包括用于托付材料的传送机构，所述传送机构包括上下相对设置并具有相同结构的上层传送机构和下层传送机构；所述上层传送机构包括多条并排设置的胶带，各所述胶带均套设在成组设置的主动辊和从动辊上；所述磁场匀料装置还包括驱动各所述主动辊转动的第一动力装置，以及上下设置的第一磁铁和第二磁铁；
所述摩擦碾压装置包括碾压支架，所述碾压支架上设置有多组、上下成对设置的主动摩擦锥辊和从动摩擦锥辊，以及驱动所述主动摩擦锥辊转动的第二动力装置；各所述主动摩擦锥辊和对应的所述从动摩擦锥辊之间预留有用于轧制石墨烯薄膜的走薄膜间隙。
2.根据权利要求1所述的摩擦碾压石墨烯薄膜生产设备，其特征在于，相邻两所述主动摩擦锥辊之间的碾压机架上均设置有用于检测石墨烯薄膜涨紧程度的传感器。
3.根据权利要求1所述的摩擦碾压石墨烯薄膜生产设备，其特征在于，所述第一动力装置和/或所述第二动力装置为调频电机。
4.根据权利要求3所述的摩擦碾压石墨烯薄膜生产设备，其特征在于，所述摩擦碾压装置包括与所述主动摩擦锥辊数量一致的调频电机。
5.根据权利要求1至4任一项所述的摩擦碾压石墨烯薄膜生产设备，其特征在于，还包括控制电路，所述控制电路分别与所述第一动力装置和所述第二动力装置电连接。
技术总结