本实用新型涉及一种矩形磁控溅射阴极，具体涉及一种超高场强的磁控溅射阴极。
背景技术：
镀膜是在表面镀上非常薄的薄膜，使其具有耐磨、润滑、导电、光学、装饰等功能。随着人们对产品的追求越来越高，越来越多的物品表面都会镀膜。镀膜最普遍的做法就是通过镀膜机镀膜，而使用较多的就是溅射类镀膜，可以简单的理解为利用离子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，最终沉积在基片表面，最后形成薄膜。
如图3所示，目前镀膜行业中使用溅射类镀膜的通常是三道磁钢的磁控溅射阴极，受限于产品空间，磁钢无法随意增大尺寸，这样就导致磁路模块上方的磁场受到限制，当使用比较厚的靶材时，或者使用导磁性比较强的靶材时，磁力线无法穿透靶材形成有效磁场，导致阴极无法工作，降低了磁控阴极的使用领域。
技术实现要素：
本实用新型的主要目的在于提供一种超高场强的磁控溅射阴极，可以有效解决背景技术中的问题。
为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：
一种超高场强的磁控溅射阴极，其核心部件为磁钢组和磁轭组成的磁路模块，磁钢组通过磁力与磁轭连接，磁路模块包括一个磁钢组，磁钢组包括间隔且交替设置第一磁钢组与第二磁钢组，第一磁钢组与第二磁钢组的磁场方向垂直。
作为优选，第一磁钢组水平设置，第二磁钢组竖直设置，第一磁钢组设置有两块，两块第一磁钢组的相对侧为同极性磁极，第二磁钢组设置有三块，三块第二磁钢顶部的磁极沿中间块磁钢对称排布。作为优选，还包括安装法兰，安装法兰的顶部外侧设有阳极，磁路模块位于两个阳极间。
作为优选，靶材的底部设有冷却水道，安装法兰的底部设有进水管与出水管，进水管与出水管通过冷却水道连通。
作为优选，靶材与冷却水道间设有隔水板。
作为优选，安装法兰上设有绝缘板，阴极固定于绝缘板上。
作为优选，安装法兰上沿其长度方向设有法兰水管。
与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：本实用新型提供的这种结构的阴极，通过磁铁的排布，可以产生非常强的磁场，相对于传统的磁控溅射阴极，可以使用更厚的靶材，拓展了产品的应用领域，同时也有效提高了连续工作时间；另外，随着磁场的增强，溅射速率也会相应提高，显著提高生产效率。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为本申请中使用较厚靶材时，磁力线走向图。
图3为现有技术中阴极磁路模块的结构示意图。
图4为现有技术中使用较厚靶材时，磁力线走向图。
图5为本申请中磁路模块的结构示意图。
附图中标号对应的部件名如下：1—磁轭、2—磁钢组、3—安装法兰、4—阳极、5—磁路模块、6—靶材、7—隔水板、8—冷却水道、9—法兰水管、10—进水管、11—出水管、12—绝缘板、21—第一磁钢组、22—第二磁钢组。
具体实施方式
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。
一种超高场强的磁控溅射阴极，其核心部件为磁钢组2和磁轭1组成的磁路模块5，磁钢组2通过磁力与磁轭1连接，磁路模块5包括一个磁钢组2，磁钢组2包括间隔且交替放置的第一磁钢组21与第二磁钢组22，第一磁钢组21与第二磁钢组22的磁场方向垂直。
作为优选，第一磁钢组21水平放置，第二磁钢组22竖直放置，第一磁钢组21设置有两块，两块第一磁钢的相对侧为同极性磁极，第二磁钢组22设置有三块，三块第二磁钢顶部的磁极沿中间块磁钢对称排布。
作为优选，还包括安装法兰3，安装法兰3的顶部外侧设有阳极4，磁路模块5位于两个阳极4间。
作为优选，靶材6的底部设有冷却水道8，安装法兰3的底部设有进水管10与出水管11，进水管10与出水管11通过冷却水道8连通。
作为优选，靶材6与冷却水道8间设有隔水板7。
作为优选，安装法兰3上设有绝缘板12,阴极固定于绝缘板12上。
作为优选，安装法兰3上沿其长度方向设有法兰水管9。
本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
1.一种超高场强的磁控溅射阴极，其核心部件为磁钢组(2)和磁轭(1)组成的磁路模块(5)，磁钢组(2)通过磁力与磁轭(1)连接，其特征在于：磁路模块(5)包括一个磁钢组(2)，磁钢组(2)包括间隔且交替放置的第一磁钢组(21)与第二磁钢组(22)，第一磁钢组(21)与第二磁钢组(22)的磁场方向垂直。
2.根据权利要求1所述的一种超高场强的磁控溅射阴极，其特征在于：第一磁钢组(21)水平放置，第二磁钢组(22)竖直放置，第一磁钢组(21)设置有两块，两块第一磁钢的相对侧为同极性磁极，第二磁钢组(22)设置有三块，三块第二磁钢顶部的磁极沿中间块磁钢对称排布。
3.根据权利要求1所述的一种超高场强的磁控溅射阴极，其特征在于：还包括安装法兰(3)，安装法兰(3)的顶部外侧设有阳极(4)，磁路模块(5)位于两个阳极(4)间。
4.根据权利要求3所述的一种超高场强的磁控溅射阴极，其特征在于：靶材(6)的底部设有冷却水道(8)，安装法兰(3)的底部设有进水管(10)与出水管(11)，进水管(10)与出水管(11)通过冷却水道(8)连通。
5.根据权利要求4所述的一种超高场强的磁控溅射阴极，其特征在于：靶材(6)与冷却水道(8)间设有隔水板(7)。
6.根据权利要求3所述的一种超高场强的磁控溅射阴极，其特征在于：安装法兰(3)上设有绝缘板(12),阴极固定于绝缘板(12)上。
7.根据权利要求3所述的一种超高场强的磁控溅射阴极，其特征在于：安装法兰(3)上沿其长度方向设有法兰水管(9)。
技术总结