一种喷头装置的制作方法

    技术2022-07-13  71


    本实用新型属于原子层沉积技术领域,涉及一种喷头,具体涉及一种喷头装置。



    背景技术:

    ncap为nano-encapsulation的缩写形式。ncap技术(ncaptechnology)是专门针对柔性高分子聚合物膜材料(即“柔性膜”)表面封装应用所开发的多种技术集成的总称。封装则特指针对柔性膜所做的对多种气体(特别是水气及氧气)的高性能阻隔处理。ncap技术是气相表面处理技术,其实质是气相条件下柔性膜材料的表/界面及内部物理化学反应。

    “柔性膜表面处理气体喷射装置”是一个针对多种柔性膜表面气相处理所研发的装置。该“柔性膜(即柔性高分子聚合物膜)表面处理气体喷射装置”在ncap技术规范中被定义为:“集成空气动力学柔性表面处理喷头”,简称“喷头”。喷头是ncap封装系统反应物分子传输的末端,同时也负责表/界面物理化学反应发生时全局环境的建立。喷头所喷出的工作/反应气体射流在喷头与柔性膜之间形成ncap工艺实施区,而ncap系统所有全局/局部变量的最终实施及控制都在该工艺实施区内部完成。

    与此同时,喷头的各功能必须集成在一个符合半导体行业标准的喷头设计及加工上,喷头同时也是可以被批量生产的。



    技术实现要素:

    本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足,提供了一种喷头装置。

    本实用新型采用如下技术方案来实现的:

    一种喷头装置,该喷头装置用在原子层沉积中对柔性膜表面进行气体喷射处理,包括呈长条状的喷头本体,该喷头本体的工作面沿着柔性膜的移动方向依次划分为若干先导气工作区,相邻两个先导气工作区之间为缓冲区,若干先导气工作区以及缓冲区的四周为气体隔离面,且所有先导气工作区以及缓冲区统称为封装工作区;其中,

    喷头本体在垂直于柔性膜的移动方向的一个侧面上,在所有先导气工作区和缓冲区以及气体隔离面均匀开设有若干平行布置的进气管道,另一个侧面上在开设有若干平行布置的排气管道,且进气管道和排气管道均为盲孔,进气管道的进气口与主气路系统的上游部分相连接,排气管道的出气口与主气路系统的下游部分相连接;

    喷头本体的工作面均匀开设有若干排气孔,在每个先导气工作区均开设有气体回收槽;每条进气管道均与对应的若干排气孔连通,每条排气管道均与对应的气体回收槽连通。

    本实用新型进一步的改进在于,每条进气管道均通过进气衔接管道与对应的若干排气孔连通。

    本实用新型进一步的改进在于,进气衔接管道的尺寸设计要求为(d1-d2)/2h>0.1;其中d1为进气衔接管道内直径,d2为排气孔直径,h为进气衔接管道长度。

    本实用新型进一步的改进在于,进气管道内直径设计为d0>10σ(d2),即进气管道内直径d0大于所在功能区内所有排气孔直径相加总和的10倍。

    本实用新型进一步的改进在于,每条排气管道均通过排气衔接管道与对应的气体回收槽连通。

    本实用新型进一步的改进在于,在进气管道与主气路系统的连接处设置有一个微型调节腔,该微型调节腔为锥形圆筒状部件。

    本实用新型进一步的改进在于,微型调节腔的设计要求为arctan(d0-d3)/2l<arctan(200/re),其中d0为进气管道内直径,d3为主气路系统管道内直径,l为微型调节腔的长度,re为喷头进气管道输入气体雷诺数。

    本实用新型进一步的改进在于,气体回收槽在封装工作面两端对称开口连接对应的排气管道。

    本实用新型进一步的改进在于,排气管道横截面的面积总和小于所有进气管道横截面的面积总和的10%,即σs排<0.1σs进。

    本实用新型具有如下有益的技术效果:

    本实用新型提供的一种喷头装置,该喷头装置具有独立的气体闭锁循环体系,即带有独立的进气及排气装置,不与外界进行气体交换,用在原子层沉积中对柔性膜表面进行气体喷射处理。该喷头装置内部管道分为两类,一类管道为进气管道,用于将封装工作面及气体隔离面内的排气孔与ncap主气路系统的上游部分相连接,其设计需要确保到达所有排气孔的气体达到封装层内分子数密度均匀及气压稳定的要求;另一类管道为排气管道,用于将气体回收槽与ncap主气路系统的下游部分相连接,其设计需要满足携带反应副产物及多余反应物分子工作气体的迅速有效排出,同时不影响封装层的稳定空气动力学环境。本实用新型通过在喷头垂直于柔性膜的移动方向的一个侧面上,在所有先导气工作区和缓冲区以及气体隔离面均匀开设若干平行布置的进气管道,另一个侧面上在开设若干平行布置的排气管道,并将进气管道与工作区的排气孔连通,将排气管道与工作区的气体回收槽连通,其结构简单,设计巧妙,并且能够达到预期的效果。

    进一步,在进气管道与主气路系统的连接处,由于管径从小变到大,为了防止在连接处的湍流回流以及为了减少喷头进气管道内湍流的出现,通过在进气管道与系统主气路之间连接一个微型调节腔,即可克服。

    进一步,为了保持气体回收的平衡性,气体回收槽在封装工作面两端对称开口连接排气管道。此外,为了尾气的分别处理,所有先导气工作区的气体回收槽分别连接不同的排气管道。

    附图说明

    图1为喷头进气管道(先导气1/2、缓冲区、气体隔离面)示意图。

    图2为进气衔接管道的结构示意图。

    图3为进气管道与系统主气路之间微型调节腔示意图,图3(a)为进气管道与系统主气路之间连接示意图,图3(b)为微型调节腔的结构示意图。

    图4为喷头排气管道设计示意图。

    图5为喷头内部管道总分布示意图。

    附图表示说明:

    1-喷头本体,2-进气管道,3-排气管道,4-排气孔,5-气体回收槽,6-进气衔接管道,7-排气衔接管道,8-微型调节腔,9-主气路系统。

    具体实施方式

    以下结合附图和实施例对本实用新型做出进一步的说明。

    如图5所示,本实用新型提供的一种喷头装置,喷头内部管道分为两类,一类管道为进气管道2,用于将封装工作面及气体隔离面内的排气孔4与ncap主气路系统的上游部分相连接,其设计需要确保到达所有排气孔4的气体达到封装层内分子数密度均匀及气压稳定的要求;另一类管道为排气管道3,用于将气体回收槽5与ncap主气路系统的下游部分相连接,其设计需要满足携带反应副产物及多余反应物分子工作气体的迅速有效排出,同时不影响封装层的稳定空气动力学环境。

    如图1所示,喷头本体1的工作面沿着柔性膜的移动方向依次划分为第一先导气工作区、缓冲区和第二先导气工作区,两个先导气工作区以及缓冲区的四周为气体隔离面,且两个先导气工作区以及缓冲区统称为封装工作区;第一先导气工作区、第二先导气工作区、缓冲区、气体隔离面各含有一条进气管道2,每一条进气管道2以串联的方式连接其所在功能区内所有排气孔。每一个排气孔4通过一个进气衔接管道6连接至进气管道2,进气衔接管道6的作用是进一步提高排气孔4出射气流的压力以及防止出射口附近的湍流/回流现象,其尺寸设计要求为(d1-d2)/2h>0.1。如图2所示,其中d1为进气衔接管道内直径,d2为排气孔直径,h为进气衔接管道长度。进气管道内直径一般设计为d0>10σ(d2),即进气管道内直径大于所在功能区内所有排气孔直径相加总和的10倍。其目的是为了保证充足的进气量,从而使每一个排气孔4的排气不会对其它排气孔造成影响,从而保证封装层的空气动力学稳定性。

    在进气管道2与ncap主气路系统的连接处,由于管径从小(ncap主气路系统)变到大(ncap喷头进气管道),为了防止在连接处的湍流回流以及为了减少喷头进气管道2内湍流的出现,在进气管道2与系统主气路9之间会连接一个微型调节腔8。该微型调节腔8设计为一个锥形圆筒状部件,如图3所示。其设计要求为arctan(d0-d3)/2l<arctan(200/re),其中d0为喷头进气管道内直径,d3为ncap主气路系统管道内直径,l为微型调节腔的长度(沿流体流动方向),re为喷头进气管道输入气体雷诺数。

    如图4所示,排气管道3与封装工作面内的气体回收槽5相连。为了保持气体回收的平衡性,气体回收槽5在封装工作面两端对称开口连接排气管道3(图4中对称分布的衔接管)。为了尾气的分别处理,第一先导气工作区与第二先导气工作区的气体回收槽5分别连接不同的排气管道3。排气管道3的内直径设计原则是所有排气管道横截面的面积总和要小于所有进气管道横截面的面积总和的10%,即σs排<0.1σs进。其目的是在不可压气体质量通量不变的前提下,通过进气管道2与排气管道3的面积差来增加排气管道3的气体流速,从而保证喷头尾气(含有多余反应物分子及反应副产物等)的迅速有效排出。排气管道3通常会与大功率真空泵或其它气体抽取装置相连,以进一步确保气流的顺畅排出而杜绝在喷头出射端的回流现象。ncap技术有专门研发的全系统压力实时配平系统,配合气体抽取装置来实现全系统任意气流控制节点(包括ncap喷头排出管道与ncap主气路下游部分的连接节点)的零回流,会在后续技术说明中详细介绍(参考ncap封装技术说明-2:空气动力学辅助同步压力瞬时变换系统)。

    每一个喷头内部的进气管道2与排气管道3,连同排气孔4、气体回收槽5以及衔接管道,构成一个有机的整体气体回路。


    技术特征:

    1.一种喷头装置,其特征在于,该喷头装置用在原子层沉积中对柔性膜表面进行气体喷射处理,包括呈长条状的喷头本体(1),该喷头本体(1)的工作面沿着柔性膜的移动方向依次划分为若干先导气工作区,相邻两个先导气工作区之间为缓冲区,若干先导气工作区以及缓冲区的四周为气体隔离面,且所有先导气工作区以及缓冲区统称为封装工作区;其中,

    喷头本体(1)在垂直于柔性膜的移动方向的一个侧面上,在所有先导气工作区和缓冲区以及气体隔离面均匀开设有若干平行布置的进气管道(2),另一个侧面上在开设有若干平行布置的排气管道(3),且进气管道(2)和排气管道(3)均为盲孔,进气管道(2)的进气口与主气路系统(9)的上游部分相连接,排气管道(3)的出气口与主气路系统(9)的下游部分相连接;

    喷头本体(1)的工作面均匀开设有若干排气孔(4),在每个先导气工作区均开设有气体回收槽(5);每条进气管道(2)均与对应的若干排气孔(4)连通,每条排气管道(3)均与对应的气体回收槽(5)连通。

    2.根据权利要求1所述的一种喷头装置,其特征在于,每条进气管道(2)均通过进气衔接管道(6)与对应的若干排气孔(4)连通。

    3.根据权利要求2所述的一种喷头装置,其特征在于,进气衔接管道(6)的尺寸设计要求为(d1-d2)/2h>0.1;其中d1为进气衔接管道内直径,d2为排气孔直径,h为进气衔接管道长度。

    4.根据权利要求3所述的一种喷头装置,其特征在于,进气管道内直径设计为d0>10σ(d2),即进气管道内直径d0大于所在功能区内所有排气孔直径相加总和的10倍。

    5.根据权利要求1所述的一种喷头装置,其特征在于,每条排气管道(3)均通过排气衔接管道(7)与对应的气体回收槽(5)连通。

    6.根据权利要求1所述的一种喷头装置,其特征在于,在进气管道(2)与主气路系统(9)的连接处设置有一个微型调节腔(8),该微型调节腔(8)为锥形圆筒状部件。

    7.根据权利要求6所述的一种喷头装置,其特征在于,微型调节腔(8)的设计要求为arctan(d0-d3)/2l<arctan(200/re),其中d0为进气管道内直径,d3为主气路系统管道内直径,l为微型调节腔的长度,re为喷头进气管道输入气体雷诺数。

    8.根据权利要求1所述的一种喷头装置,其特征在于,气体回收槽(5)在封装工作面两端对称开口连接对应的排气管道(3)。

    9.根据权利要求1所述的一种喷头装置,其特征在于,排气管道(3)横截面的面积总和小于所有进气管道(2)横截面的面积总和的10%,即σs排<0.1σs进。

    技术总结
    本实用新型公开了一种喷头装置,属于原子层沉积技术领域,包括喷头本体,喷头本体在垂直于柔性膜的移动方向的一个侧面上,在所有先导气工作区和缓冲区以及气体隔离面均匀开设有若干平行布置的进气管道,另一个侧面上在开设有若干平行布置的排气管道,且进气管道和排气管道均为盲孔,进气管道的进气口与主气路系统的上游部分相连接,排气管道的出气口与主气路系统的下游部分相连接;喷头本体的工作面均匀开设有若干排气孔,在两个先导气工作区分别开设有一个气体回收槽;每条进气管道与对应的若干排气孔连通,每条排气管道均与对应的气体回收槽连通。本实用新型提供的喷头装置,用于实现原子层沉积,结构简单,设计巧妙,并且能够达到预期的效果。

    技术研发人员:赵超;郭鸿晨;许淘元;陈静升;崔东旭;李瑞斌;贾培军
    受保护的技术使用者:陕西煤业化工技术研究院有限责任公司;郭鸿晨
    技术研发日:2019.07.29
    技术公布日:2020.04.03

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